JP6314403B2 - 導電性メッシュシートの製造方法及びフォトマスク - Google Patents
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Description
図3に示すように、導電性メッシュシート10は、透明基材20と、透明基材20上に設けられた導電性メッシュ15と、を有している。
透明基材20としては、既知の透明基材を適宜選択して用いることができ、特に限定されない。透明基材20に用いられる材料としては、例えば、透明樹脂や透明無機材料を例示することができる。透明樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクロニトリル、メタクリロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマ一等を挙げることができる。一方、透明無機材料としては、例えばソーダ硝子、カリ硝子、鉛ガラス等の硝子、PLZT等のセラミックス、石英、蛍石等を例示することができる。
次に、導電性メッシュ15について説明する。導電性メッシュ15は、透明基材20上に設けられている。図3に示す例において、導電性メッシュ15は、透明基材20上にパターニングされている。とりわけ、図3に示す例において、導電性メッシュ15は、透明基材20上において、開口領域15cを画成するメッシュパターンを形成している。すなわち、導電性メッシュ15は、分岐点15dから延び出す多数の接続要素15aによって形成されている。そして、各開口領域15cは、三以上の接続要素15aで取り囲まれることによって、画成されている。なお、図3に示す例において、導電性メッシュ15は、正方配列となるメッシュパターンを形成している。また接続要素15aは互いに交差し、この交点に上述した分岐点15dが位置している。
次に導電性メッシュシートの製造方法について図1(a)および図2(a)〜(g)により述べる。
3μm ≦w≦ 30μm
となっている。
15 導電性メッシュ
15a 接続要素
15c 開口領域
15d 分岐点
20 透明基材
30 レジストパターン
30a 接続要素部分
30b 帯状隙間
30c 開口部分
30A レジスト膜
35 フォトマスク
35A 開口
35B 形状
35C マスク部分
Claims (3)
- 透明基材と、透明基材上に設けられた導電性メッシュとを含む導電性メッシュシートの製造方法において、
透明基材を準備する工程と、
透明基材上に導電性金属膜を形成する工程と、
導電性金属膜上にレジストパターンを設ける工程と、
レジストパターン上からエッチング液を用いて、導電性金属膜をエッチングすることにより、接続要素と接続要素間の分岐点とを有する導電性メッシュを形成する工程とを備え、
レジストパターンは接続要素に対応する接続要素部分を有するとともに、分岐点に対応する部分に帯状隙間が形成され、
レジストパターンに少なくとも一対の帯状隙間が形成され、各帯状隙間は分岐点に対応する部分で交差し、
レジストパターンに形成された各帯状隙間は、レジストパターンを貫通して延びて平面視で十字状を形成することを特徴とする導電性メッシュシートの製造方法。 - 透明基材上の導電性金属膜に対してレジストパターンを介してエッチングを施すことにより、接続要素と接続要素間の分岐点とを有する導電性メッシュを形成する際用いられるレジストパターン作製用フォトマスクにおいて、
レジストパターンは接続要素に対応する接続要素部分を有するとともに、分岐点に対応する部分に帯状隙間が形成され、
レジストパターンに少なくとも一対の帯状隙間が形成され、各帯状隙間は分岐点に対応する部分で交差し、
レジストパターンに形成された各帯状隙間は、レジストパターンを貫通して延びて平面視で十字状を形成し、
フォトマスクはレジストパターンの接続要素部分に対応する開口が形成されたマスク部分を有することを特徴とするフォトマスク。 - 透明基材上の導電性金属膜に対してレジストパターンを介してエッチングを施すことにより、接続要素と接続要素間の分岐点とを有する導電性メッシュを形成する際用いられるレジストパターン作製用フォトマスクにおいて、
レジストパターンは接続要素に対応する接続要素部分を有するとともに、分岐点に対応する部分に帯状隙間が形成され、
レジストパターンに少なくとも一対の帯状隙間が形成され、各帯状隙間は分岐点に対応する部分で交差し、
レジストパターンに形成された各帯状隙間は、レジストパターンを貫通して延びて平面視で十字状を形成し、
フォトマスクはレジストパターンの接続要素部分に対応する形状をもつマスク部分を有することを特徴とするフォトマスク。
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