JP6309211B2 - 炭化ケイ素半導体装置 - Google Patents
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炭化ケイ素半導体基板と、
前記炭化ケイ素半導体基板上に形成された炭化ケイ素半導体層と、
前記炭化ケイ素半導体層上に設けられた電極と、
を備え、
前記炭化ケイ素半導体基板の下面であって前記電極の鉛直方向下方を含む領域に限定して、レーザー光を照射することによって形成された凹部が設けられている。
前記凹部の水平方向の幅は、前記電極の水平方向の幅よりも大きくなっていてもよい。
複数の凹部及び複数の電極が設けられ、
各凹部は、各電極の鉛直方向下方に設けられていてもよい。
前記凹部の縦断面形状はU字形状になっていてもよい。
前記凹部は、前記炭化ケイ素半導体基板内に形成され、その上端が前記炭化ケイ素半導体層に達していなくてもよい。
前記レーザー光のエネルギーは、0.5J/cm2以上であってもよい。
前記レーザー光によって、前記凹部の露出面に炭素の導電層が形成されてもよい。
炭化ケイ素半導体基板上に炭化ケイ素半導体層を形成する工程と、
前記炭化ケイ素半導体層上に電極を設ける工程と、
前記炭化ケイ素半導体基板の下面であって前記電極の鉛直方向下方又は前記電極の配置予定箇所の鉛直方向下方を含む領域に限定してレーザー光を照射することで凹部を形成する工程と、
を備える。
《構成》
以下、本発明に係る炭化ケイ素半導体装置(SiC半導体装置)及び炭化ケイ素半導体装置の製造方法の実施の形態について、図面を参照して説明する。ここで、図1乃至図4は本発明の実施の形態を説明するための図である。本発明の炭化ケイ素半導体装置は特に限定されることはないが、例えばショットキーバリアダイオード(SBD)やMOSFET等である。以下では、半導体装置としてショットキーバリアダイオードを用いて説明するが、このショットキーバリアダイオードはあくまでも半導体装置の一例に過ぎない点には留意が必要である。
次に、上述した構成からなる本実施の形態の半導体装置の製造工程について、主に図3を用いて説明する。
次に、上述した構成からなる本実施の形態による効果について説明する。
上述した実施の形態では、凹部15の縦断面形状がU字形状になっている態様を用いて説明した。しかしながら、この態様はあくまでも一例であり、別の態様も用いることができる。別の態様の一例としては、図4に示すように、凹部15’の縦断面形状が矩形状になっているものを挙げることができる。ちなみに、図4において「15’t」は、凹部15’の上端を示している。
15 凹部
15’ 凹部
15t 凹部の上端
15’t 凹部の上端
20 n型の炭化ケイ素半導体層
30 p型の炭化ケイ素半導体層
50 ショットキー電極(電極)
L レーザー光
W1 ショットキー電極の水平方向の幅
W2 凹部の水平方向の幅
Claims (3)
- 炭化ケイ素半導体基板と、
前記炭化ケイ素半導体基板上に形成された炭化ケイ素半導体層と、
前記炭化ケイ素半導体層上に設けられた複数のショットキー電極と、
を備え、
前記炭化ケイ素半導体基板の下面に複数の凹部が設けられており、
前記各凹部は、前記各ショットキー電極の鉛直方向下方に設けられており、かつ前記複数のショットキー電極が設けられていない箇所の鉛直下方には、前記凹部が設けられておらず、前記各凹部の縦断面形状はU字形状になっており、前記各凹部は当該凹部の縦断面形状に沿って形成されたオーミック電極により被覆され、前記ショットキー電極および前記ショットキー電極の上に設けられた引き出し電極はリング状の絶縁層により取り囲まれており、前記ショットキー電極、前記引き出し電極および前記絶縁層と、前記凹部とが一対一の関係で形成されていることを特徴とする炭化ケイ素半導体装置。 - 前記凹部の水平方向の幅は、前記ショットキー電極の水平方向の幅よりも大きくなっていることを特徴とする請求項1に記載の炭化ケイ素半導体装置。
- 前記凹部は、前記炭化ケイ素半導体基板内に形成され、その上端が前記炭化ケイ素半導体層に達していないことを特徴とする請求項1または2に記載の炭化ケイ素半導体装置。
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