JP6308165B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
本発明は、フォーカスリングに形成された切り欠きからのガス漏れを抑制し、プラズマ処理の均一性を向上させたプラズマ処理装置を提供するものである。
これにより、プラズマ処理を行う際に、フォーカスリングの切欠き部を閉塞して気流の発生を抑制することができる。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図1に示すように、プラズマ処理装置1は、ウエハWを載置するステージ11と、ステージ11の外周に設けられ、切欠き部12bを有するフォーカスリング12と、ウエハWが載置されたステージ11が挿入されて処理を実行する処理室であるチャンバ13と、を備える。
次に、フォーカスリング12の切欠き部12bを閉塞する突起部がシールドリング15ではなく、チャンバ本体14に形成されている場合について説明する。言い換えると、チャンバ本体14を閉塞部材として用いる。なお、実施の形態1に示したプラズマ処理装置1に用いた構成物品と同様の機能を奏する構成物品については、同一の符号を付し、説明を省略する。
2 フォーカスリング
2a ハンド部
2b 連結部
2c 爪部
11 ステージ
11a 長径部
11b 載置部
12 フォーカスリング
12a 上面
12b 切欠き部
12c 外側面
13 チャンバ
14 チャンバ本体
14a 本体部
14b 突出部
14c 壁部
15 シールドリング
15a 本体部
15b 突起部
15c 外側面
15d 内側面
15e 先端部
23 チャンバ
24 チャンバ本体
24a 本体部
24b 突出部
24c 突起部
24d 壁部
25 シールドリング
25a 本体部
25c 外側面
Claims (1)
- 側面に爪部を有するハンドを用いて搬送されたウエハが載置されるステージと、
前記ステージの周囲に配置され、前記ステージに前記ウエハが載置される際に前記ハンドの前記爪部が挿入される切欠き部を有するフォーカスリングと、
前記ステージが内部に配置されるチャンバと、を備えるプラズマ処理装置であって、
前記チャンバは、前記フォーカスリングの前記切欠き部を閉塞する突起部を有する閉塞部材を備える、
プラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2015081762A JP6308165B2 (ja) | 2015-04-13 | 2015-04-13 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015081762A JP6308165B2 (ja) | 2015-04-13 | 2015-04-13 | プラズマ処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2016201490A JP2016201490A (ja) | 2016-12-01 |
JP6308165B2 true JP6308165B2 (ja) | 2018-04-11 |
Family
ID=57423051
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2015081762A Active JP6308165B2 (ja) | 2015-04-13 | 2015-04-13 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
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- 2015-04-13 JP JP2015081762A patent/JP6308165B2/ja active Active
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