JP6301841B2 - 塗料及び近赤外線吸収フィルター - Google Patents

Description

本発明は、赤外線吸収色素、樹脂及び溶媒としてジアセトンアルコールを含有する塗料及び該塗料を用いて形成される近赤外線吸収フィルターに関する。

近赤外線吸収フィルターは、可視光線領域の透過率が高く赤外線を効率よく遮断することができるもので、プラズマディスプレイパネル、ＣＲＴ、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイ等のディスプレイパネル；カメラ、ビデオカメラなどの光学機器の受光素子や撮像素子に使用されているフォトダイオードやＣＣＤ、Ｃ−ＭＯＳ；光学レンズ、自動車用ガラス、建材用ガラス、太陽電池モジュール等の熱線遮断フィルター；ビデオカメラなどの光学機器の受光素子や撮像素子等に用いられている。

特許文献１には、溶剤としてジアセトンアルコールを含むポジ型感光性樹脂組成物が開示されており、特許文献２には、着色剤及び溶剤を含む着色剤含有硬化性組成物が開示されており、溶剤としてジアセトンアルコールが例示されている。特許文献３には、溶剤としてジアセトンアルコールを含有するポジ型感光性樹脂組成物が開示されており、特許文献４には、酸性染料とアルコール系有機溶剤を含有するインキが開示されており、特許文献５には、ジイモニウム化合物を用いて得られる近赤外線吸収フィルターが開示されている。

しかし、上記特許文献１〜５には、溶媒としてジアセトンアルコールを用いることにより、塗料を基板に塗布して得られるフィルムの耐光性が向上することは記載も示唆もされていない。

特開平１０−１２３７００号公報 ＵＳ２００７０４９６５０Ａ１ 特開２０１０−１２８０６５号公報 特許４１９９５８０号公報 特許４４０３４７３号公報

従って、本発明の目的は、耐光性が高い近赤外線吸収フィルターを提供することにある。

本発明者は、鋭意検討を重ねた結果、赤外線吸収色素（Ａ）、樹脂（Ｂ）及び溶媒（Ｃ）を含有し、溶媒（Ｃ）成分としてジアセトンアルコールを必須成分とする塗料を用いて形成される近赤外線吸収フィルターが、耐光性が高いことを知見し、本発明に到達した。

本発明は、赤外線吸収色素（Ａ）、樹脂（Ｂ）及び溶媒（Ｃ）を含有し、溶媒（Ｃ）成分としてジアセトンアルコールを必須成分とする塗料を提供するものである。

また、本発明は、上記塗料を用いて形成される近赤外線吸収フィルターを提供するものである。

本発明の近赤外線吸収フィルターは耐光性が高い点で優れるものである。

以下、本発明の塗料及び近赤外線吸収フィルターについて、好ましい実施形態に基づき説明する。

本発明の塗料において、赤外線吸収色素（Ａ）としては、赤外領域に特性吸収を有し従来（近）赤外線吸収色素として用いられているものを用いることができ、例えば、従来、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、ポルフィリン化合物、金属ジチオール錯体、クロム、コバルト金属錯塩化合物、アントラキノン類、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、ジイモニウム化合物、無機酸化物粒子等が挙げられ、中でもジイモニウム化合物が、赤外線の吸収能が高く可視光領域での透明性が高いことから好ましい。

上記ジイモニウム化合物の中でも、下記一般式（Ｉ）で表されるものが、耐湿熱性に優れるためさらに好ましい。

（式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷及びＲ¹⁸はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有してもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ¹⁹、Ｒ²⁰、Ｒ²¹及びＲ²²はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基又は置換基を有してもよいアミノ基を表し、上記アルキル基中のメチレン基は、−Ｏ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されていてもよく、ｔは１〜４の数を表し、Ａｎ^q-はｑ価のアニオンを表し、ｑは１又は２を表し、ｐは電荷を中性に保つ係数を表す。）

上記一般式（Ｉ）中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷、Ｒ¹⁸、Ｒ¹⁹、Ｒ²⁰、Ｒ²¹及びＲ²²で表される置換基を有してもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、トリブロモメチル、１，２−ジクロロエチル、３，３，３−トリフルオロプロピル、プロパ−１−エン−１−イル等が挙げられ、
Ｒ¹⁹、Ｒ²⁰、Ｒ²¹及びＲ²²で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、
Ｒ¹⁹、Ｒ²⁰、Ｒ²¹及びＲ²²で表される置換基を有してもよいアミノ基としては、アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、２−エチルヘキシルアミノ、ドデシルアミノ、アニリノ、クロロフェニルアミノ、トルイジノ、アニシジノ、Ｎ−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ，ナフチルアミノ、２−ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、ホルミルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチル−メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ等が挙げられる。

上記一般式（Ｉ）中のｐＡｎ^q-で表されるｑ価のアニオンとしては、メタンスルホン酸アニオン、ドデシルスルホン酸アニオン、ベンゼンスルホン酸アニオン、トルエンスルホン酸アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ナフタレンスルホン酸アニオン、ジフェニルアミン−４−スルホン酸アニオン、２−アミノ−４−メチル−５−クロロベンゼンスルホン酸アニオン、２−アミノ−５−ニトロベンゼンスルホン酸アニオン、特開平１０−２３５９９９号公報、特開平１０−３３７９５９号公報、特開平１１−１０２０８８号公報、特開２０００−１０８５１０号公報、特開２０００−１６８２２３号公報、特開２００１−２０９９６９号公報、特開２００１−３２２３５４号公報、特開２００６−２４８１８０号公報、特開２００６−２９７９０７号公報、特開平８−２５３７０５号公報、特表２００４−５０３３７９号公報、特開２００５−３３６１５０号公報、国際公開２００６／２８００６号公報等に記載されたスルホン酸アニオン等の有機スルホン酸アニオンの他、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、フッ化物イオン、塩素酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、オクチルリン酸イオン、ドデシルリン酸イオン、オクタデシルリン酸イオン、フェニルリン酸イオン、ノニルフェニルリン酸イオン、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスホン酸イオン、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸イオン、励起状態にある活性分子を脱励起させる（クエンチングさせる）機能を有するクエンチャー陰イオンやシクロペンタジエニル環にカルボキシル基やホスホン酸基、スルホン酸基等の陰イオン性基を有するフェロセン、ルテオセン等のメタロセン化合物陰イオン等が挙げられる。

本発明に係る上記一般式(Ｉ)で表されるジイモニウム化合物のカチオンの具体例としては、下記化合物Ｎｏ．１〜８が挙げられる。

上記赤外線吸収色素（Ａ）は、単独又は複数種を組み合わせて用いることができる。
上記赤外線吸収色素（Ａ）において、上記一般式（Ｉ）で表わされる化合物の含有量は、好ましくは５０〜１００質量％、より好ましくは７０〜１００質量％である。上記一般式（Ｉ）で表わされる化合物の含有量が５０質量％より小さいと、溶媒への溶解性が低下したり、耐熱性が低下したりする場合がある。

上記赤外線吸収色素（Ａ）は、塗膜の極大吸収波長（λｍａｘ）が７００ｎｍ以上であるのが好ましく、７８０〜８５０ｎｍがさらに好ましい。塗膜の極大吸収波長（λｍａｘ）が７００ｎｍ未満であると、目的の波長の光を吸収しないため好ましくない。

本発明の塗料において、上記赤外線吸収色素（Ａ）の含有量は、本発明の塗料中、好ましくは０．０１〜５０質量％、より好ましくは０．１〜１０質量％である。赤外線吸収色素（Ａ）の含有量が０．０１質量％より小さいと、本発明の塗料を用いて形成される近赤外線吸収フィルターにおいて目的の波長を吸収しない場合があり、５０質量％より大きいと、塗料中で赤外線吸収色素（Ａ）の析出が起こる場合がある。

本発明の塗料において、樹脂（Ｂ）としては、上記赤外線吸収色素（Ａ）を均一に分散できるものであれば特に限定されないが、ポリエステル系、ポリアクリル系、ポリアミド系、ポリウレタン系、ポリオレフィン系、ポリカーボネート系等の樹脂、さらにこれらの樹脂を有機過酸化物、架橋剤、光架橋開始剤等により架橋した樹脂を好適に用いることができる。さらに、樹脂のガラス転移温度及び該樹脂を含有する塗料を基板に塗布することにより得られる硬化膜（近赤外線吸収フィルター）のガラス転移温度が、利用する機器の使用保証温度以上であることが好ましい。

上記樹脂（Ｂ）の中でも、ポリアクリル系樹脂が、赤外線吸収色素（Ａ）との相溶性の点から好ましく、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物を単独又は複数で重合させたものがさらに好ましい。

上記エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物としては、特に限定されず、従来、公知のものを用いることができるが、例えば、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソブチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン等の不飽和脂肪族炭化水素；(メタ)アクリル酸、α―クロルアクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、シトラコン酸、フマル酸、ハイミック酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ビニル酢酸、アリル酢酸、桂皮酸、ソルビン酸、メサコン酸、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、フタル酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等の両末端にカルボキシ基と水酸基とを有するポリマーのモノ（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート・マレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート・マレート、ジシクロペンタジエン・マレート或いは１個のカルボキシル基と２個以上の(メタ)アクリロイル基とを有する多官能（メタ）アクリレート等の不飽和多塩基酸；(メタ)アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸グリシジル、下記化合物Ｎｏ．Ａ１〜Ｎｏ．Ａ４、（メタ）アクリル酸メチル、 （メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸−ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎ−オクチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノメチル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸アミノプロピル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノプロピル、（メタ）アクリル酸エトキシエチル、（メタ）アクリル酸ポリ（エトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸ブトキシエトキシエチル、（メタ）アクリル酸エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸フェノキシエチル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフリル、（メタ）アクリル酸ビニル、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸ベンジル、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、トリ［（メタ）アクリロイルエチル］イソシアヌレート、ポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマー等の不飽和一塩基酸及び多価アルコール又は多価フェノールのエステル；（メタ）アクリル酸亜鉛、（メタ）アクリル酸マグネシウム等の不飽和多塩基酸の金属塩；マレイン酸無水物、イタコン酸無水物、シトラコン酸無水物、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフリル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸−無水マレイン酸付加物、ドデセニル無水コハク酸、無水メチルハイミック酸等の不飽和多塩基酸の酸無水物；（メタ）アクリルアミド、メチレンビス−（メタ）アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス（メタ）アクリルアミド、キシリレンビス（メタ）アクリルアミド、α−クロロアクリルアミド、Ｎ−２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド等の不飽和一塩基酸及び多価アミンのアミド；アクロレイン等の不飽和アルデヒド；（メタ）アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、シアン化ビニリデン、シアン化アリル等の不飽和ニトリル；スチレン、４−メチルスチレン、４−エチルスチレン、４−メトキシスチレン、４−ヒドロキシスチレン、４−クロロスチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、ビニル安息香酸、ビニルフェノール、ビニルスルホン酸、４−ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルベンジルメチルエーテル、ビニルベンジルグリシジルエーテル等の不飽和芳香族化合物；メチルビニルケトン等の不飽和ケトン；ビニルアミン、アリルアミン、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニルピペリジン等の不飽和アミン化合物；アリルアルコール、クロチルアルコール等のビニルアルコール；ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、アリルグリシジルエーテル等のビニルエーテル；マレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等の不飽和イミド類；インデン、１−メチルインデン等のインデン類；１，３−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の脂肪族共役ジエン類；ポリスチレン、ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリ−ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ポリシロキサン等の重合体分子鎖の末端にモノ（メタ）アクリロイル基を有するマクロモノマー類；ビニルクロリド、ビニリデンクロリド、ジビニルスクシナート、ジアリルフタラート、トリアリルホスファート、トリアリルイソシアヌラート、ビニルチオエーテル、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾリン、ビニルカルバゾール、ビニルピロリドン、ビニルピリジン、水酸基含有ビニルモノマー及びポリイソシアネート化合物のビニルウレタン化合物、水酸基含有ビニルモノマー及びポリエポキシ化合物のビニルエポキシ化合物、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等の水酸基含有多官能アクリレートとトリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の多官能イソシアネートの反応物、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等の水酸基含有多官能アクリレートと無水コハク酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸等の二塩基酸無水物の反応物である酸価を有する多官能アクリレート；(メタ)アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸グリシジル等の水酸基を有するアクリレートとジイソシアネート化合物との反応生成物であるエチレン性不飽和モノイソシアネートと、多価アルコール又は多価フェノールを反応させて得られるウレタンアクリレート；アクリルポリオールとジイソシアネート化合物とを反応させて得られるウレタンアクリレート；フェノール及び／又はクレゾールノボラックエポキシ樹脂、ビフェニル骨格、ナフタレン骨格を有するノボラックエポキシ樹脂、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ化合物等のノボラック型エポキシ化合物、多官能エポキシ基を有するポリフェニルメタン型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂等のエポキシ基に不飽和一塩基酸を作用させ、更に多塩基酸無水物を作用させて得られたエポキシアクリレート；不飽和多塩基酸の無水物と多価アルコール又は多価フェノールのエステルが挙げられる。

これらの重合性化合物を、単独で又は２種以上を重合することによりポリアクリル系樹脂を得ることができる。

上記樹脂を得るために用いる有機過酸化物としては、熱や酸化還元系の存在で容易にパーオキシラジカルを発生するものが良く、例えば１,１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３,５,５−トリメチルシクロヘキサン、２,５−ジメチルヘキサン−２,５−ジヒドロキシパーオキシド、ジ−ｔ−ブチルパーオキシド、ｔ−ブチルクミルパーオキシド、ジクミルパーオキシド、α,α'−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、２,５−ジメチル−２,５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、２,５−ジメチル−２,５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３、ベンゾイルパーオキシド、ｔ−ブチルパーオキシベンゼン、２,５−ジメチル−２,５−ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシマレイン酸、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート等が挙げられ、過酸化物から発生したラジカルによりポリマー主鎖の水素引き抜き反応でポリマー主鎖にラジカルが発生し、架橋するという架橋形態を取り、ポリマー主鎖全体が架橋構造に取り込まれ、均一に架橋されるものである。

上記樹脂を得るために用いる架橋剤としては、多官能エポキシ化合物、多官能イソシアネート、ジ酸無水物、アセトフェノン、ベンゾフェノン、アントラキノン、トリアジン、アジリジン、メラミン化合物、金属塩、金属キレート化合物等；多官能アクリレート、オレフィン性不飽和化合物、共重合性ベンゾフェノン等の紫外線架橋剤；ヒドロキシケトン類、ベンジルジメチルケタール類、アミノケトン類、アシルフォスフィンオキサイド系、ベンゾフェノン系、トリクロロメチル基含有トリアジン誘導体、多官能ベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノンを重合したオリゴマー、１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オンの１級水酸基と２−イソシアナートエチルメタクリレートの反応物を重合したオリゴマー、２−ヒドロキシ−２−メチル−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノールオリゴマー等の後添加光架橋剤等が挙げられる。

上記樹脂を得るために用いる光架橋開始剤としては、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オンや２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１等のα−アミノケトン系、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンや２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロピオン−１−オンや等のα−ヒドロキシケトン系、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン等のベンジルジメチルケタール系が挙げられる。

本発明の塗料において、上記樹脂（Ｂ）の含有量は、本発明の塗料の固形分中、３０〜９９質量％、特に６０〜９５質量％が好ましい。上記樹脂（Ｂ）の含有量が３０質量％より小さいと、基板へ塗布後の近赤外線吸収フィルターの基板との密着性が低下する場合があり、９９質量％より大きいと、近赤外線吸収フィルターの強度が低下する場合がある。

本発明の塗料において、溶媒（Ｃ）としては、ジアセトンアルコールを必須成分とし、その他、通常、必要に応じて上記の各成分（本発明の赤外線吸収色素（Ａ）等）を溶解又は分散しえる溶媒と混合して用いることができる。その他の溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、ジエチルケトン、アセトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン等のケトン類；エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸−ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸シクロヘキシル、乳酸エチル、コハク酸ジメチル、テキサノール等のエステル系溶媒；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のセロソルブ系溶媒；メタノール、エタノール、イソ−又はｎ−プロパノール、イソ−又はｎ−ブタノール、アミルアルコール等のアルコール系溶媒；エチレングリコールモノメチルアセテート、エチレングリコールモノエチルアセテート、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート（ＰＧＭＥＡ）、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、エトキシエチルプロピオネート等のエーテルエステル系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等のＢＴＸ系溶媒；ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒；テレピン油、Ｄ−リモネン、ピネン等のテルペン系炭化水素油；ミネラルスピリット、スワゾール＃３１０（コスモ松山石油）、ソルベッソ＃１００（エクソン化学）等のパラフィン系溶媒；四塩化炭素、クロロホルム、トリクロロエチレン、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素系溶媒；クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒；カルビトール系溶媒、アニリン、トリエチルアミン、ピリジン、酢酸、アセトニトリル、二硫化炭素、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられ、これらの溶媒は１種又は２種以上の混合溶媒として使用することができる。これらの中でもケトン類、エーテルエステル系溶媒等、特にプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート、ジメチルアセトアミド、シクロヘキサノン等が、本発明の塗料において、赤外線吸収色素（Ａ）又は樹脂（Ｂ）と相溶性がよいので好ましい。

本発明の塗料において、上記溶媒（Ｃ）の合計量に対して、ジアセトンアルコールは３０〜１００質量％、特に５０〜９５質量％であるのが、液安定性がよいので好ましい。

本発明の塗料において、上記溶媒（Ｃ）の使用量は、溶媒（Ｃ）以外の組成物の濃度が５〜３０質量％になることが好ましく、５質量％より小さい場合、膜厚を厚くする事が困難であり所望の波長光を十分に吸収できないため好ましくなく、３０質量％を超える場合、組成物の析出による組成物の保存性が低下したり、粘度が向上したりするためハンドリングが低下するため好ましくない。

本発明の塗料には、更に無機化合物を含有させることができる。該無機化合物としては、例えば、酸化ニッケル、酸化鉄、酸化イリジウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化カリウム、シリカ、アルミナ等の金属酸化物；層状粘土鉱物、ミロリブルー、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、コバルト系、マンガン系、ガラス粉末、マイカ、タルク、カオリン、フェロシアン化物、各種金属硫酸塩、硫化物、セレン化物、アルミニウムシリケート、カルシウムシリケート、水酸化アルミニウム、白金、金、銀、銅等が挙げられ、これらの中でも、酸化チタン、シリカ、層状粘土鉱物、銀等が好ましい。本発明の塗料において、無機化合物の含有量は、上記アクリル樹脂１００質量部に対して、好ましくは０．１〜５０質量部、より好ましくは０．５〜２０質量部であり、これらの無機化合物は１種又は２種以上を使用することができる。

これら無機化合物は、例えば、充填剤、反射防止剤、導電剤、安定剤、難燃剤、機械的強度向上剤、特殊波長吸収剤、撥インク剤等として用いられる。

また、本発明の塗料には、必要に応じて、本発明の赤外線吸収色素以外の色素；ｐ−アニソール、ハイドロキノン、ピロカテコール、ｔ−ブチルカテコール、フェノチアジン等の熱重合抑制剤；熱重合開始剤；光重合開始剤；可塑剤；接着促進剤；充填剤；消泡剤；レベリング剤；表面調整剤；酸化防止剤；紫外線吸収剤；分散助剤；凝集防止剤；触媒；効果促進剤；架橋剤；増粘剤；界面活性剤；シランカップリング剤；メラミン等の慣用の添加物を加えることができる。

本発明の塗料において、赤外線吸収色素（Ａ）、樹脂（Ｂ）以外の任意成分（但し、溶媒（Ｃ）は除く）の含有量は、その使用目的に応じて適宜選択され特に制限されないが、好ましくは、上記樹脂（Ｂ）１００質量部に対して合計で５０質量部以下とする。

次に、本発明の近赤外線吸収フィルターについて説明する。
本発明の近赤外線吸収フィルターは、本発明の塗料を基板上に塗布することにより得られる。

上記基板は、特に限定されないが、その好ましい例としては、ガラス板、ポリエチレンテレフタレート板、ポリカーボネート板、ポリイミド板、ポリアミド板、ポリメタクリル酸メチル板、ポリスチレン板、ポリ塩化ビニル板、ポリオレフィン板、シクロオレフィンポリマー板、ポリテトラフルオロエチレン板、トリアセチルセルロース板、ノルボルネン板、ポリビニルアルコール板、酢酸セルロース板、ポリアリレート板、ポリスルホン板、ポリエーテルスルホン板、シリコンウェハ、反射板、方解石板、石英板、ガラス板、紙、木材、金属板等が挙げられる。
該基板は、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理等の従来公知の方法による表面処理や、アンカーコート剤やプライマー等のコーティングを施しても良い。

上記基板に塗布する方法としては、公知の方法を用いることができ、例えば、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、印刷コーティング法等を用いることができる。

本発明の近赤外線吸収フィルターは、８００〜１１００ｎｍの（近）赤外線領域における透過率が１０％以下、好ましくは８％以下を示すものである。

本発明の近赤外線吸収フィルターは、プラズマディスプレイパネル、ＣＲＴ、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイ等のディスプレイパネル；カメラ、ビデオカメラなどの光学機器の受光素子や撮像素子に使用されているフォトダイオードやＣＣＤ、Ｃ−ＭＯＳ；光学レンズ、自動車用ガラス、建材用ガラス、太陽電池モジュール等の熱線遮断フィルター；ビデオカメラなどの光学機器の受光素子や撮像素子；赤外線吸収インク・トナー用途；赤外線吸収材料は赤外感光性の感材用セーフライトフィルター、赤外領域の半導体レーザー光などを光源とする感光材料、光ディスク用記録材料等；キャッシュカードやＩＤカード等の偽造防止用途；太陽光線に含まれる赤外線吸収の調光材料；植物育成の制御等の農業用資材；保護メガネ等の視覚保護医療材料等各種の用途に使用することができ、その用途に特に制限はない。

以下、実施例等を挙げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例等に限定されるものではない。

［実施例１］塗料Ｎｏ．１の調製
（Ａ）成分として化合物Ｎｏ．１のビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド塩を０．０５ｇと、（Ｃ）成分としてジアセトンアルコール２．７５ｇを加え、撹拌して溶解した。その後、（Ｂ）成分としてＳＰＣ−２０００（昭和電工社製）５ｇを混合し、不溶物が無くなるまで撹拌し、塗料Ｎｏ．１を得た。

［実施例２〜６及び比較例１〜２］塗料Ｎｏ．２〜Ｎｏ．６及び比較塗料Ｎｏ．１〜Ｎｏ．２の調整
実施例１と同様の手順で、[表１]に示す配合で各成分を混合し、塗料Ｎｏ．２〜Ｎｏ．６及び比較塗料Ｎｏ．１〜Ｎｏ．２を得た。

［実施例７〜１２及び比較例３〜４］近赤外線吸収フィルターＮｏ．１〜Ｎｏ．６及び比較近赤外線吸収フィルターＮｏ．１〜Ｎｏ．２の製造
東レ社製ＰＥＴフィルムであるルミラーＵ９８の上に実施例１〜６で得られた塗料Ｎｏ．１〜Ｎｏ．６及び比較例１〜２で得られた比較塗料Ｎｏ．１〜Ｎｏ．２の２．５ｍＬを滴下し、＃１４バーコーターを用いて塗布した。その後、１００℃で１５分間乾燥して、近赤外線吸収フィルターＮｏ．１〜Ｎｏ．６及び比較近赤外線吸収フィルターＮｏ．１〜Ｎｏ．２を製造した。

[評価例１〜６及び比較評価例１〜２]近赤外線吸収フィルターＮｏ．１〜Ｎｏ．６及び比較近赤外線吸収フィルターＮｏ．１〜Ｎｏ．２の耐光性試験
実施例１〜６で得られた近赤外線吸収フィルターＮｏ．１〜Ｎｏ．６及び比較例１〜２で得られた比較近赤外線吸収フィルターＮｏ．１〜Ｎｏ．２について、スガ試験機製キセノン耐光性試験機テーブルサンＸＴ−１５００Ｌにて２５時間耐光性試験を実施し、１０００ｎｍにおける吸光度残存率を評価した。吸光度残存率は試験前の吸光度に対する試験後の吸光度の比率として算出した。評価結果を［表２］に示す。

上記[表２]の結果より、本発明の近赤外線吸収フィルターは耐光性が高いことは明らかである。

Claims (8)

1. 下記一般式（Ｉ）で表されるジイモニウム化合物（Ａ）、樹脂（Ｂ）及び溶媒（Ｃ）を含有し、溶媒（Ｃ）成分としてジアセトンアルコールを溶媒の合計量に対して、５０〜１００質量％含有する塗料であって、赤外線吸収色素中、一般式（I）で表されるジイモニウム化合物の含有量が７０〜１００質量％である、塗料。
   （式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷及びＲ¹⁸はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有してもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ¹⁹、Ｒ²⁰、Ｒ²¹及びＲ²²はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基又は置換基を有してもよいアミノ基を表し、上記アルキル基中のメチレン基は、−Ｏ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されていてもよく、ｔは１〜４の数を表し、Ａｎ^q-はｑ価のアニオンを表し、ｑは１又は２を表し、ｐは電荷を中性に保つ係数を表す。）
2. ジアセトンアルコールの含有量が、溶媒の合計量に対して、４．５／５．７５×１００〜１００質量％である、請求項１に記載の塗料。
3. 樹脂がポリアクリル系樹脂である、請求項１又は２に記載の塗料。
4. 請求項１〜３の何れか１項に記載の塗料を用いて形成される近赤外線吸収フィルター。
5. 下記一般式（Ｉ）で表されるジイモニウム化合物（Ａ）、樹脂（Ｂ）及び溶媒（Ｃ）を含有し、赤外線吸収色素中、一般式（I）で表されるジイモニウム化合物の含有量が７０〜１００質量％である塗料を乾燥させる工程を有する塗膜の製造方法であって、溶媒（Ｃ）成分としてジアセトンアルコールを必須成分とする、塗膜の製造方法。
   （式中、Ｒ ¹¹ 、Ｒ ¹² 、Ｒ ¹³ 、Ｒ ¹⁴ 、Ｒ ¹⁵ 、Ｒ ¹⁶ 、Ｒ ¹⁷ 及びＲ ¹⁸ はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有してもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ ¹⁹ 、Ｒ ²⁰ 、Ｒ ²¹ 及びＲ ²² はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基又は置換基を有してもよいアミノ基を表し、上記アルキル基中のメチレン基は、−Ｏ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されていてもよく、ｔは１〜４の数を表し、Ａｎ ^q- はｑ価のアニオンを表し、ｑは１又は２を表し、ｐは電荷を中性に保つ係数を表す。）
6. ジアセトンアルコールの含有量が、溶媒の合計量に対して、５０〜１００質量％である、請求項５に記載の塗膜の製造方法。
7. 樹脂がポリアクリル系樹脂である、請求項５又は６に記載の塗膜の製造方法。
8. 請求項５〜７の何れか１項に記載の製造方法を用いて近赤外線吸収フィルターを製造する方法。