JP6298234B2 - 放射線検出器用半導体構造および放射線検出器 - Google Patents
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Description
本発明は、半導体放射線検出器の分野における技術、特に、アバランシェフォトトランジスタに関する。
〔背景技術〕
単一光子検出用放射線レシーバーにおいて、アバランシェ効果を利用して信号増幅を行う半導体検出器がしばしば用いられている。
〔発明の概要〕
本発明の目的は、従来技術における欠点を回避するために、放射線検出器用半導体構造およびそれに基づいた放射線検出器に関する改善された技術を提供することにある。特に、より大きな間隙領域にわたっていわゆる「アフターパルシング」を減らすことだけでなく、放射線検出器のためにより大型の画素構造をより高い量子収量で製造することを可能にすることにある。加えて、動作基点と収量のより正確な製造をサポートすることにある。
〔さらなる実施形態の説明〕
以下に、開示内容のさらなる態様を、特に、実施形態も参照にしながら説明する。以下に示す図面の数字を参照する。
〔符号の説明〕
1 エピタキシャル基板
2 エピタキシャル基板1上に設けられた半導体基板
3 半導体基板2上に設けられたカバー層
4 半導体基板2内のドーピング区域
10 半導体基板14上に設けられたカバー層
12 基板
13 ドーピング区域/半導体基板2内の領域
14 基板12上に設けられた半導体基板
15 別のドーピング区域/半導体基板14内の領域
16 熱力学的平衡における電位進行曲線
17 アバランシェブレークスルーがない場合の電位進行曲線
18 表面エリアにおける電界強度が高い場合の電位進行曲線
19 トリガとなる事象が起きた後の電位進行曲線
20 「クエンチ」状態における電位進行曲線
21 上面ダイオードにおける表面電位
22 上面ダイオードにおける表面電位
23 ベースエリアにおける電位障壁の高さ
24 蓄積された電子電荷がある場合のベースエリアにおける電位障壁の高さ
25 完全に「クエンチした」構造のベースエリアにおける電位障壁の高さ
26 正孔の流出によるエミッタ領域の電位変動
27 蓄積された電子電荷によるエミッタ領域の電位変動
28 正孔電荷の輸送方向と最高電界強度の位置
29 電子電荷の輸送方向と最高電界強度の位置
30 正孔電荷の輸送方向と最高電界強度の位置
31 電子電荷の輸送方向と最高電界強度の位置
32 エミッタ領域を横に通過した電子電荷の輸送方向
33 アバランシェブレークスルー下の電界強度のエリア
34 コレクタ延設区域
35 エミッタ領域を横に通過した電子電荷の輸送方向
36 エミッタ領域に流れ込む電子電荷の輸送方向
37 エミッタ領域の最低電位
38 エミッタ領域の平均電位
39 エミッタ領域の最高電位
40 エミッタ領域からコレクタ延設領域に流れ込む電子電荷の輸送方向
41 半導体基板14内の別の上部ドーピング区域
42 半導体基板14内のアバランシェ電界強度の制限エリア
43 半導体基板14内の別の下部ドーピング区域
44 半導体基板14内のアバランシェ電界強度の制限エリア
45 スタート時間ドメイン
46 バイポーラ強化
47 アバランシェ「ケンチング」時間ドメイン
48 構造リセット時間ドメイン
49 動作基点復元時間ドメイン
50 上面ダイオードポート
51 動作基点設定ポート、受動的「ケンチング」
52 「浮遊」領域に対する電位損失曲線
100 半導体構造
Claims (11)
- 第1導電型の半導体材料からなる基板(12)と、
半導体基板(14)と、
ドーピング領域(13)と、
少なくとも一つのさらなるドーピング領域(15)と、
カバー層(10)と、
を備える放射線検出器用半導体構造において、
前記半導体基板(14)は、基板(12)上に設けられ、かつ、抵抗が前記基板(12)よりも高い半導体層が設けられ、第1導電型であり、ドーピング濃度で電気的にドープされており、
前記ドーピング領域(13)は、前記半導体基板(14)内に設けられ、かつ、互いに分離されており、第1導電型と反対の第2導電型であり、前記半導体基板(14)における前記ドーピング濃度よりも高いドーピング濃度で電気的にドープされており、
前記少なくとも一つのさらなるドーピング領域(15)は、前記半導体基板(14)内に設けられ、かつ、前記ドーピング領域(13)のうち一つ以上と接触して設けられており、第1導電型であり、前記半導体基板(14)における前記ドーピング濃度よりも高いドーピング濃度で電気的にドープされており、
前記カバー層(10)は、前記半導体基板(14)上に設けられ、かつ、第2導電型であって、
高電界強度のエリアであるアバランシェエリアが、前記半導体基板(14)内に設けられた前記ドーピング領域(13、15)と前記半導体基板(14)上に設けられた前記カバー層(10)との間で前記半導体基板(14)内に設けられており、前記アバランシェエリアにおいて、衝突により動作中に自由電荷担体が複製され、
クエンチエリアが、前記半導体基板(14)内に設けられた前記ドーピング領域(13、15)と前記基板(12)との間で前記半導体基板(14)内に設けられていることを特徴とする放射線検出器用半導体構造。 - 前記少なくとも一つのさらなるドーピング領域(15)は、前記ドーピング領域(13)における前記カバー層(10)に対向する側および/または前記基板(12)に対向する側に設けられていることを特徴とする、請求項1に記載の放射線検出器用半導体構造。
- 前記少なくとも一つのさらなるドーピング領域(15)が前記一つ以上のドーピング領域(13)と重なり合う重複エリアにおいて、前記少なくとも一つのさらなるドーピング領域(15)は、前記重複エリア外における前記少なくとも一つのさらなるドーピング領域(15)の層厚さと異なる層厚さで設けられていることを特徴とする、請求項1または2に記載の放射線検出器用半導体構造。
- 前記少なくとも一つのさらなるドーピング領域(15)について、前記重複エリア内における層厚さが前記重複エリア外よりも小さいことを特徴とする、請求項3に記載の放射線検出器用半導体構造。
- 前記少なくとも一つのさらなるドーピング領域(15)は、連続層として作製されていることを特徴とする、請求項1から4のうち少なくとも1項に記載の放射線検出器用半導体構造。
- 前記少なくとも一つのさらなるドーピング領域(15)は、前記ドーピング領域(13)のうち一つと平らに重なり合っており、本質的に連続的に均一の突出部が重複表面の周りに形成されており、前記重複表面において、前記少なくとも一つのさらなるドーピング領域(15)は、前記ドーピング領域(13)のうち一つに対して、横方向に突出していることを特徴とする、請求項1から5のうち少なくとも1項に記載の放射線検出器用半導体構造。
- 前記少なくとも一つのさらなるドーピング領域(15)の少なくとも部分は、前記一つ以上のドーピング領域(13)と同じ層厚さで設けられていることを特徴とする、請求項1から6のうち少なくとも1項に記載の放射線検出器用半導体構造。
- 前記半導体基板(14)における前記カバー層(10)と前記ドーピング領域(13、15)との間のエリアにおいて、一つ以上のさらなる上部ドーピング領域(41)が形成されており、前記一つ以上のさらなる上部ドーピング領域(41)は、前記アバランシェエリアを前記半導体基板(14)において前記カバー層(10)から離れて前記ドーピング領域(13、15)に向かって限定することを特徴とする、請求項1から7のうち少なくとも1項に記載の放射線検出器用半導体構造。
- 前記半導体基板(14)における前記カバー層(10)と前記ドーピング領域(13、15)との間のエリアにおいて、一つ以上の下部ドーピング領域(43)が形成されており、前記一つ以上の下部ドーピング領域(43)は、前記クエンチエリアを前記半導体基板(14)において前記ドーピング領域(132、15)から前記基板(12)に向かって限定することを特徴とする、請求項1から8のうち少なくとも1項に記載の放射線検出器用半導体構造。
- 前記半導体基板(14)は、抵抗が高く、比抵抗が少なくとも300オーム・cm以上であることを特徴とする、請求項1から9のうち少なくとも1項に記載の放射線検出器用半導体構造。
- 請求項1から10のうち少なくとも1項に記載の半導体構造を備えることを特徴とする
放射線検出器。
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