JP6272744B2 - 板状導電体及び板状導電体の表面処理方法 - Google Patents
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Description
(1) 板状導電体であって、
導電性材料によって形成される第1導電体層と、
金又は銀によって前記第1導電体層の表面の一部に部分メッキにより形成される第2導電体層と、
前記第2導電体層が装備されていない前記第1導電体層の表面と前記第2導電体層の表面とを覆うと共に、前記第2導電体層の周囲の凹みを埋めて、凹凸の無い平滑な表面を形成する第3導電体層と、
を備え、
前記第3導電体層は、フッ素ドープ酸化スズで形成されたことを特徴とする板状導電体。
前記第1導電体層及び前記第2導電体層の上に、フッ素ドープ酸化スズにより、第3導電体層を形成することを特徴とする板状導電体の表面処理方法。
導電性材料によって形成される第1導電体層(3)と、
金又は銀によって前記第1導電体層の表面の一部に部分メッキにより形成される第2導電体層(4)と、
前記第2導電体層(4)が装備されていない前記第1導電体層(3)の表面と前記第2導電体層(4)の表面とを覆うと共に、前記第2導電体層(4)の周囲の凹みを埋めて、凹凸の無い平滑な表面(5a)を形成する第3導電体層(5)と、
を備え、
前記第3導電体層(5)は、フッ素ドープ酸化スズで形成されたことを特徴とする板状導電体(2)。
前記第1導電体層(3)及び前記第2導電体層(4)の上に、フッ素ドープ酸化スズにより、第3導電体層(5)を形成することを特徴とする板状導電体の表面処理方法。
3 第1導電体層
4 第2導電体層
5 第3導電体層
31 基礎導体層
32 下地導体層
Claims (3)
- 板状導電体であって、
導電性材料によって形成される第1導電体層と、
金又は銀によって前記第1導電体層の表面の一部に部分メッキにより形成される第2導電体層と、
前記第2導電体層が装備されていない前記第1導電体層の表面と前記第2導電体層の表面とを覆うと共に、前記第2導電体層の周囲の凹みを埋めて、凹凸の無い平滑な表面を形成する第3導電体層と、
を備え、
前記第3導電体層は、フッ素ドープ酸化スズで形成されたことを特徴とする板状導電体。 - 前記第1導電体層は、銅又は銅合金で形成される基礎導体層と、該基礎導体層の上に積層形成されるニッケル又はニッケル合金製の下地導体層と、を備えていることを特徴とする請求項1に記載の板状導電体。
- 銅又は銅合金からなる第1導電体層の上に、金又は銀によって表面の一部に部分メッキにより第2導電体層を形成した板状導電体の表面処理方法であって、
前記第1導電体層及び前記第2導電体層の上に、フッ素ドープ酸化スズにより、第3導電体層を形成することを特徴とする板状導電体の表面処理方法。
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