JP6268854B2 - スクリーン印刷用マスク、その製造方法及びはんだペースト印刷方法 - Google Patents

スクリーン印刷用マスク、その製造方法及びはんだペースト印刷方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6268854B2
JP6268854B2 JP2013196481A JP2013196481A JP6268854B2 JP 6268854 B2 JP6268854 B2 JP 6268854B2 JP 2013196481 A JP2013196481 A JP 2013196481A JP 2013196481 A JP2013196481 A JP 2013196481A JP 6268854 B2 JP6268854 B2 JP 6268854B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
mesh
screen printing
opening
solder paste
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2013196481A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2015063003A (ja
Inventor
裕希 百川
裕希 百川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP2013196481A priority Critical patent/JP6268854B2/ja
Publication of JP2015063003A publication Critical patent/JP2015063003A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6268854B2 publication Critical patent/JP6268854B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Printing Methods (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Screen Printers (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)

Description

本発明は、スクリーン印刷用マスク、その製造方法及びはんだペースト印刷方法に関する。
近年、電子機器に実装される電子部品の小型化が著しい。このような電子部品の例として、LSI(Large Scale Integrated circuit)、抵抗、コンデンサ等がある。そして、LSIを収納するパッケージには様々な形態のものが用いられており、表面実装型のLSIパッケージとしては、BGA(BallGridArray)タイプ等が知られている。
このLSIパッケージは、小型、薄型化が進められると共に多ピン化している。そして、限られた実装面積に多数のピンを配列するために、ピン間隔(ピッチ)は狭くなる傾向にある。なお、この場合のピンは、基板との接続端子を意味する。
特に、BGAタイプのLSIパッケージでは、0.4(mm)ピッチ以下の狭ピッチ用実装が求められており、接合に使用されるはんだペーストを適量供給することが難しくなっている。
また、抵抗、コンデンサ等の角形チップタイプの部品(チップ部品)についても、年々小型化が図られ、0402(0.4*0.2mm)と呼称されるサイズより小さいサイズのチップ部品が実装されるようになっている。以下、ピッチの狭い部品を小型部品と記載する。
無論、全ての搭載部品がこの様なサイズではない。従って、これら電子部品の搭載基板には、上述した小型部品と一般的に用いられている比較的大型部品(ピッチが大きい部品であり、以下においては一般部品と記載する)とが、同時に実装される場合が増えている。
しかし、一般部品と小型部品とでは、最適なはんだ量が異なるため、これらが同一基板に実装される場合には、両部品に最適なはんだ量を供給することが難しくなる。
一般に、所定量のはんだを供給するために、開口したメタルマスクを用い、この開口にスキージングによりはんだペーストを充填し、メタルマスクを剥がすことによりマスク厚に対応したはんだ量のペーストパターンを形成する技術が採用されている。このことを図7〜図8を参照して説明する。
図7は、一般部品110と小型部品111とを同一基板に搭載する際に、小型部品111に適応したはんだ量を供給した場合の説明図である。図8は、一般部品110と小型部品111とを同一基板に搭載する際に、一般部品110に適応したはんだ量を供給した場合の説明図である。
0603(0.6*0.3mm)サイズ以下のチップ部品や0.4mmピッチ以下のBGA部品等の小型部品111の接合用のはんだを供給するためには、小型部品111に合わせてメタルマスクのマスク厚を薄くする必要がある。しかし、この場合には図7に示すように一般部品110に対するはんだ量が不足する。従って、はんだ量が不足する一般部品110でのはんだ接合強度や信頼性が低下してしまう。
逆に、一般部品110に合わせてマスク厚の厚いメタルマスクを用いた場合には、図8に示すように、小型部品111へのはんだ量が過多となる。従って、はんだ量が過多となった小型部品111では、接合端子の領域からはみ出したはんだによる短絡等の不良が発生することがある。
そこで、図9に示すように、小型部品に対してはマスク厚を薄くし、一般部品に対してはマスク厚を厚くした段付きマスク112が提案されている。
しかし、段付きマスク112の場合には、スキージング面が段差を持つため、段差周辺でスキージの動きが乱れて、はんだペーストが開口に充填できない領域が発生する。このため、はんだの欠けや未はんだのペーストパターンが発生することがある。
一方、特開昭62−121095には、図10に示すようなメタルマスクが提案されている。図10は、当該メタルマスクを用いてはんだペーストを印刷した際の側面図を示している。図10に示すメタルマスクは、それぞれ開口部104を備えたメッシュワイヤスクリーン印刷用マスク105とメタルスクリーン印刷用マスク106とにより構成されている。
メッシュワイヤスクリーン印刷用マスク105に設けられたメッシュは開口104を覆うように設けられている。従って、メッシュワイヤスクリーン印刷用マスク105により印刷されたはんだペースト量は、メタルスクリーン印刷用マスク106により印刷されたはんだペースト量より、メッシュの厚みに相当する量だけ少なくできるようになる。
特開昭62−121095号公報
しかしながら、特開昭62−121095号公報にかかるメタルマスクは、メタルスクリーン印刷用マスクとメッシュワイヤスクリーン印刷用マスクとの組合せ構造であるため、各マスクの熱膨張率の違いや、版枠への取付けテンションにより、撓みや皺が発生しやすく、最悪の場合には割れが生じて、良好なマスクが得られないことが危惧される。
そこで、本発明の主目的は、撓み、皺、割れが発生し難いスクリーン印刷用マスク、その製造方法及びはんだペースト印刷方法を提供することである。
上記課題を解決するため、基板にはんだペーストを印刷する際に用いるマスクにかかる発明は、スクリーン印刷用マスクの基部をなすベース部と、該ベース部の全面にメッシュが固着されて形成された薄膜部と、薄膜部における所定領域のメッシュを、当該メッシュ面の高さと概ね等しい高さまで他の部材により埋め込んで形成された厚膜部と、薄膜部のベース部に設けられた薄膜部側の複数の開口部、及び、厚膜部のベース部、メッシュ、埋め込まれた他の部材を通して設けられた厚膜部側の複数の開口部と、を備えることを特徴とする。
また、基板にはんだペーストを印刷する際に用いるマスクの製造方法にかかる発明は、基板にはんだペーストを印刷する際に用いるスクリーン印刷用マスクの製造方法であって、予め狭ピッチ用開口が形成されたベース部にメッシュが載置されて、該メッシュとベース部とをメッキ付けしてメッシュ貼付板を作成するメッシュ貼付工程と、メッシュ貼付板の所定領域を薄膜部として、該薄膜部の領域にメッキレジストを形成するレジスト工程と、メッキレジストをマスクとして、メッシュを他の部材で埋める充填工程と、メッキレジストを剥離し、剥離された領域を薄膜部とする剥離工程と、厚膜部に通常ピッチ用開口を形成する開口形成工程と、を含むことを特徴とする。
さらに、はんだペースト印刷方法にかかる発明は、配線パターンが設けられた基板と、上記スクリーン印刷用マスクとを位置合わせする手順と、スクリーン印刷用マスクを基板に接触させた状態でスキージを摺動させ、はんだペーストを狭ピッチ用開口及び通常ピッチ用開口に充填する充填手順と、基板からスクリーン印刷用マスクを引き離す手順と、を含み、スクリーン印刷用マスクを最初に用いる際には、充填手順は、狭ピッチ用開口に対応したメッシュにはんだペーストを充填する手順を含むことを特徴とする。
本発明によれば、一般部品用のペーストパターンを形成する厚膜部と、小型部品用のペーストパターンを形成する薄膜部とが、メッシュ貼付板を基本材料として一体に形成されているので、撓み、皺、割れの発生が抑制できるようになる。
本実施形態にかかるマスク及びそれを用いてペーストパターンが形成された基板の断面図である。 厚膜部及び薄膜部の断面図で、(a)は厚膜部の断面図、(b)は薄膜部の断面図である。 マスクの製造方法を示す前半側の工程図である。 マスクの製造方法を示す後半側の工程図である。 マスクを用いてペーストパターンを形成する際のはんだ印刷方法を示す前半側の図である。 マスクを用いてペーストパターンを形成する際のはんだ印刷方法を示す後半側の図である。 関連技術の説明に適用される小型部品に適応したはんだ量を供給した場合の説明図である。 関連技術の説明に適用される一般部品に適応したはんだ量を供給した場合の説明図である。 関連技術の説明に適用される段付きメタルマスクの構成及び問題点を示す図である。 関連技術の説明に適用されるメッシュワイヤスクリーン印刷用マスクとメタルスクリーン印刷用マスクとを含むメタルマスクの断面図である。
本発明の実施形態を、図を参照して説明する。なお、本実施形態においては、マスクとしてメタルマスクを例に説明するが、当該メタルマスクに限定するものではないことを敢えて付言する。
(メタルマスクの構造)
図1は本実施形態にかかるメタルマスク2及びそれを用いてペーストパターンが形成された基板4の断面図である。なお、図1においては要部の拡大図も合わせて示している。
基板4は、基材4bと、この基材4bの上に形成された配線パターン4aを備える。そして、メタルマスク2により形成されたペーストパターン3(3a,3b)の位置は、配線パターン4aの位置に対応している。
図1に示すように、メタルマスク2には、開口部10が設けられている。この開口部10は、一般部品のピッチに合わせて開口された複数の通常ピッチ用開口10a、及び、小型部品のピッチに合わせて開口された複数の狭ピッチ用開口10bを含んでいる。以下、通常ピッチ用開口10aが形成されている領域を厚膜部Ra、狭ピッチ用開口10bが形成されている領域を薄膜部Rbと記載する。
図2(a)は、厚膜部Raの断面図であり、図2(b)は薄膜部Rbの断面図である。ベース部7とメッシュ6とは、メッキ付けされてメッシュ貼付板11が形成され、このメッシュ貼付板11の所定領域が薄膜部Rbをなし、残りの領域が、メッキが埋め込まれた厚膜部Rbをなしている。即ち、厚膜部Raは、ベース部7、メッシュ6、メッキ部9が一体化して形成され、薄膜部Rbは、ベース部7、メッシュ6が一体化して形成されている。以下、詳細に説明する。
上述したように、メッシュ6は、厚膜部Ra及び薄膜部Rbの全域に配置されている。しかし、図1及び図2に示すように、薄膜部Rbのメッシュ6は、露出して設けられているが(解放面が存在する)、厚膜部Raのメッシュ6はメッキ部9により覆われている。即ち、メタルマスク2を構成するベース部7及びメッシュ6は、厚膜部Raと薄膜部Rbとに一体に設けられている。このため、厚膜部Raと薄膜部Rbとにおける熱膨張率の差は小さくなり、メタルマスク2の撓みや皺の発生が抑制できるようになっている。この点については、後述するメタルマスクの製造方法において詳細に説明する。
また、薄膜部Rbにおけるベース部7の厚みW1とメッシュ6の厚みW2との和W(=W1+W2)は、厚膜部Raの厚みWと概ね等しい。これにより、メタルマスク2のスキージ面(図1において基板4と反対側の面)は、滑らかな(段差のない)面となっている。従って、スキージは動きが乱されることなく滑らかに摺動することができ、薄膜部Rbと厚膜部Raとの境界近傍に開口がある場合でも、ペーストパターンのはんだの欠けや未はんだが発生しない(均一な印刷性が確保できる)。
メッシュ6は、ステンレス等の金属を用いて形成されている。そして、例えば厚膜部Raの厚みがW=130μm、ベース部7の厚みがW2=80μmの場合、メッシュ6の厚みW1はW1=50μmとなる。このようなメッシュ6として、線径が直径約25μmの線材により形成されたメッシュ材が利用できる。無論、厚み方向に圧縮したカレンダータイプのメッシュ材を用いる場合には、圧縮後の厚みが50μm程度のものであればよい。
通常、はんだペーストは、15μm〜35μm程度の粒径のはんだ粉末を含有している。従って、メッシュ6のメッシュ目の大きさは、少なくともこの粉末粒径より大きいことが必要である。メッシュ6の好ましいメッシュ目の大きさは、はんだ粉末の最大径の倍以上である。例えば、ステンレス製で、230メッシュ、線径Φ25μm、メッシュ厚50μm、メッシュ目85μmのものが例示できる。
(メタルマスクの製造方法)
次に、メタルマスク2の製造方法を、図3及び図4を参照して説明する。図3及び図4は、図1のメタルマスク2の製造方法を示す工程図で、図3は前半側の工程図、図4は後半側の工程図である。
工程_a,b: まず、メッシュ6を準備し、このメッシュ6とベース部7とを貼り合わせてメッシュ貼付板11を形成する(メッシュ貼付工程)。ベース部7は、メタルマスク2の大きさである。このとき薄膜部Rbにおけるベース部7には、狭ピッチ用開口10bを予め形成しておく。厚膜部Raの通常ピッチ用開口10aは、後述する後工程_gで作製するため、現時点で開けておく必要はない。
メッシュ6とベース部7との貼り合わせは、メッキにより行うことができる。前述のようにメッシュ6とベース部7とは金属であり、両者を密着させた状態でメッキを行うことにより、これらの接点領域での接合が行える。このとき、ベース部7の裏面(メッシュ6と反対側の面)にもメッキが行われるため、最終的に形成するメタルマスク2の厚みWになるようにメッキ厚を調整する。メッキに用いる金属としては、ニッケルもしくはニッケル合金が望ましい。
工程_c: 続いて、薄膜部Rbに対応する領域及びベース部7の裏面に、メッキレジスト8を形成する(レジスト工程)。
工程_d: そして、2回目のメッキを行い(メッキ充填工程)、厚膜部Raとなる領域のメッシュ6をメッキ部9で埋める。メッシュ6は、凹凸形状に波打っているので、この形状に従いメッキが成長する。そこで、メッキ部9の厚みの最も薄い部分が、厚膜部Raの所望の厚さと同等以上の厚さとなるまでメッキを行う。
工程_e,f: メッキが十分成長したら、メッキレジスト8を除去し(剥離工程)、メッキ表面を所望の厚みに平滑化する(平滑化工程)。平滑化の手法は特に限定されず、機械的切削法、機械化学的平滑法、電気化学的平滑法や、これらを組合せた方法等が適用可能である。
これにより、厚膜部Raと薄膜部Rbとの厚みが同じメタルマスク2が形成される。即ち、段差のないスキージング面が形成される。
また、ベース部7上にメッシュ6が配置されて、厚膜部Raのメッシュ6はメッキ部9により埋め込まれているため、一体構造のメタルマスク2を形成することができる。従って、厚膜部Raと薄膜部Rbとの熱膨張率の差の小さいメタルマスク2となる。
工程_g: 最後に、厚膜部Raの通常ピッチ用開口10aを形成してメタルマスク2が完成する(開口形成工程)。なお、開口部10(10a,10b)の形成方法も特に限定はされず、機械加工、レーザ加工、化学加工等を用いることができる。
ところで、また、開口部10(10a,10b)を形成した後の、当該開口部10の側壁面が荒れている(荒面である)場合がある。この荒面は、開口部10からのはんだペーストの抜け性を阻害する。そこで、荒面を平滑にするために、開口部10の形成後にメッキを行ってもよい。この場合、メッキの材質や施工方法は特に限定されない。また、メッキは、開口部10(10a,10b)の側壁のみにメッキを施してもよいし(側壁平滑化工程)、全体に対してもよい。開口部10(10a,10b)の側壁のみにメッキを施す場合はマスク厚が変動しない利点があり、マスク全体に対して行う場合にはメッキ箇所を特定するためのメッキレジスト等を設ける手間が省ける利点がある。
さらに、はんだペーストの滑りを良くするため、メタルマスク2の製造後に撥液処理等を行ってもよい。この場合も、メッキや撥液材の種類、施工方法が限定されないのは言うまでもない。
(はんだ印刷方法)
次に、図5及び図6を参照して基板4へのはんだペースト印刷方法について説明する。なお、図5及び図6は、図1のメタルマスク2を用いてペーストパターン3を形成する際のはんだ印刷方法を示す図で、図5は前半側の図、図6は後半側の図である。
手順_a,b: 配線パターン4aが形成された基板4を準備し、メタルマスク2と基板4を位置合わせる。なお、この位置合わせは、メタルマスク2に予め設けた認識マークと基板4上に予め設けた認識マークとを用いて行う。
手順_c: 続いて、メタルマスク2を基板4に接触させた状態でスキージ15を摺動させ、はんだペースト16をメタルマスク2の厚膜部Raの通常ピッチ用開口10a、及び、薄膜部Rbの狭ピッチ用開口10bに充填する。なお、薄膜部Rbに充填されたはんだペースト16は、先ずメッシュ6の充填に用いられるため、何度かスキージ15を摺動させて試し刷りを行い、その後本番の印刷を実施することが好ましい。
手順_d: 最後に、メタルマスク2と基板4とを引き離して、版離れを行う。これにより、基板4の表面に所望量のはんだペーストが印刷される。即ち、小型部品が搭載される薄膜部Rbの狭ピッチ用開口10bにより印刷されたペーストパターン3bの厚みは、一般部品が搭載される薄膜部RbRaの通常ピッチ用開口10aにより印刷されたペーストパターン3aの厚みより、小さい。従って、厚膜部Raと薄膜部Rbとの境界近傍に開口部10がある場合でも、境界以外の領域と同様の印刷性が得られるようになる。
また、印刷したペーストパターンは、小型部品と一般部品とに対して適正量となるため、これらの部品を接合した際に、はんだの過不足の発生が防止できて、信頼性の高い接合が可能になる。加えて、スキージ面が平坦であるため(段差がない)、スキージ15の寿命が長くなる。
上記実施の形態の一部又は全部は、以下の付記のようにも記載されうるが、以下には限られない。
<付記1>
基板にはんだペーストを印刷する際に用いるスクリーン印刷用マスクであって、
前記スクリーン印刷用マスクの基部をなすベース部と、
該ベース部の全面にメッシュが固着されて形成された薄膜部と、
前記薄膜部における所定領域の前記メッシュを、当該メッシュ面の高さと概ね等しい高さまで他の部材により埋め込んで形成された厚膜部と、
前記薄膜部の前記ベース部に設けられた薄膜部側の複数の開口部、及び、前記厚膜部の前記ベース部、前記メッシュ、埋め込まれた前記他の部材を通して設けられた厚膜部側の複数の開口部と、
を備えることを特徴とするスクリーン印刷用マスク。
<付記2>
付記1に記載のスクリーン印刷用マスクであって、
前記開口の大きさ及び前記メッシュのメッシュ目の大きさが、前記はんだペーストに含有されるはんだ粉末の直径より大きいことを特徴とするスクリーン印刷用マスク。
<付記3>
付記1又は2に記載のスクリーン印刷用マスクであって、
前記メッシュと前記ベース部とが、メッキにより固着されていることを特徴とするスクリーン印刷用マスク。
<付記4>
付記1乃至3のいずれか1項に記載のスクリーン印刷用マスクであって、
前記スクリーン印刷用マスクは、メタルマスクであることを特徴とするスクリーン印刷用マスク。
<付記5>
付記1乃至4のいずれか1項に記載のスクリーン印刷用マスクであって、
前記厚膜部に埋め込まれる前記他の部材はメッキであることを特徴とするスクリーン印刷用マスク。
<付記6>
基板にはんだペーストを印刷する際に用いるスクリーン印刷用マスクの製造方法であって、
予め狭ピッチ用開口が形成されたベース部にメッシュが載置されて、該メッシュと前記ベース部とを固着してメッシュ貼付板を作成するメッシュ貼付工程と、
前記メッシュ貼付板の所定領域を薄膜部として、該薄膜部の領域にレジストを形成するレジスト工程と、
前記レジストをマスクとして、前記メッシュを他の部材で埋める充填工程と、
前記レジストを剥離し、剥離された領域を薄膜部とする剥離工程と、
前記厚膜部に通常ピッチ用開口を形成する開口形成工程と、
を含むことを特徴とするスクリーン印刷用マスクの製造方法。
<付記7>
付記6に記載のスクリーン印刷用マスクの製造方法であって、
前記充填工程で埋める前記他の部材はメッキにより充填されることを特徴とするスクリーン印刷用マスクの製造方法。
<付記8>
付記6又は7に記載のスクリーン印刷用マスクの製造方法であって、
前記充填工程により埋め込まれた前記他の部材を、前記メッシュの解放面と同じ高さまで平滑化して厚膜部を形成する平滑化工程を含むことを特徴とするスクリーン印刷用マスクの製造方法。
<付記9>
付記8に記載のスクリーン印刷用マスクの製造方法であって、
前記平滑化工程は、機械的切削法、機械化学的平滑法、電気化学的平滑法、及び、これらを組合せた方法により平滑化することを特徴とするスクリーン印刷用マスクの製造方法。
<付記10>
付記6乃至9に記載のスクリーン印刷用マスクの製造方法であって、
前記レジスト工程においては、前記メッシュの搭載面と反対側の裏面にも前記レジストを塗布することを特徴とするスクリーン印刷用マスクの製造方法。
<付記11>
付記6乃至10のいずれか1項に記載のスクリーン印刷用マスクの製造方法であって、
開口形成工程は、機械加工、レーザ加工、化学加工等により通常ピッチ用開口を形成することを特徴とするスクリーン印刷用マスクの製造方法。
<付記12>
付記6乃至11のいずれか1項に記載のスクリーン印刷用マスクの製造方法であって、
前記狭ピッチ用開口又は前記通常ピッチ用開口の側壁に第二の他の部材を形成して、当該側壁を平滑化する側壁平滑化工程を含む、
ことを特徴とするスクリーン印刷用マスクの製造方法。
<付記13>
付記12に記載のスクリーン印刷用マスクの製造方法であって、
前記側壁平滑化工程で埋める前記第二の他の部材はメッキにより充填されることを特徴とするスクリーン印刷用マスクの製造方法。
<付記14>
付記6乃至13のいずれか1項に記載のスクリーン印刷用マスクの製造方法であって、
前記スクリーン印刷用マスクは、メタルマスクであることを特徴とするスクリーン印刷用マスク。
<付記15>
はんだペースト印刷方法であって、
配線パターンが設けられた基板と、付記1乃至4のいずれか1項に記載のスクリーン印刷用マスクとを位置合わせする手順と、
前記スクリーン印刷用マスクを前記基板に接触させた状態でスキージを摺動させ、はんだペーストを狭ピッチ用開口及び通常ピッチ用開口に充填する充填手順と、
前記基板から前記スクリーン印刷用マスクを引き離す手順と、を含み、
前記スクリーン印刷用マスクを最初に用いる際には、前記充填手順は、前記狭ピッチ用開口に対応したメッシュに前記はんだペーストを充填する手順を含むことを特徴とするはんだペーストの印刷方法。
2 スクリーン印刷用マスク
3(3a,3b) ペーストパターン
4 基板
4a 配線パターン
4b 基材
6 メッシュ
7 ベース部
8 メッキレジスト
9 メッキ部
10 開口部
10a 通常ピッチ用開口
10b 狭ピッチ用開口
11 メッシュ貼付板
15 スキージ
16 はんだペースト

Claims (10)

  1. 基板にはんだペーストを印刷する際に用いるスクリーン印刷用マスクであって、
    前記スクリーン印刷用マスクの基部をなすベース部と、
    該ベース部の全面にメッシュが固着されて形成された薄膜部と、
    前記薄膜部における所定領域の前記メッシュを、当該メッシュ面の高さと概ね等しい高さまで他の部材により埋め込んで形成された厚膜部と、
    前記薄膜部の前記ベース部に設けられた薄膜部側の複数の開口部、及び、前記厚膜部の前記ベース部、前記メッシュ、埋め込まれた前記他の部材を通して設けられた厚膜部側の複数の開口部と、
    を備えることを特徴とするスクリーン印刷用マスク。
  2. 請求項1に記載のスクリーン印刷用マスクであって、
    前記開口の大きさ及び前記メッシュのメッシュ目の大きさが、前記はんだペーストに含有されるはんだ粉末の直径より大きいことを特徴とするスクリーン印刷用マスク。
  3. 請求項1又は2に記載のスクリーン印刷用マスクであって、
    前記メッシュと前記ベース部とが、メッキにより固着されていることを特徴とするスクリーン印刷用マスク。
  4. 請求項1乃至3のいずれか1項に記載のスクリーン印刷用マスクであって、
    前記スクリーン印刷用マスクは、メタルマスクであることを特徴とするスクリーン印刷用マスク。
  5. 基板にはんだペーストを印刷する際に用いるスクリーン印刷用マスクの製造方法であって、
    予め狭ピッチ用開口が形成されたベース部にメッシュが載置されて、該メッシュと前記ベース部とを固着してメッシュ貼付板を作成するメッシュ貼付工程と、
    前記メッシュ貼付板の所定領域にレジストを形成するレジスト工程と、
    前記レジストをマスクとして、当該メッシュ面の高さと概ね等しい高さまで前記メッシュを他の部材により埋め込んで、厚膜部を形成する充填工程と、
    前記レジストを剥離し、剥離された領域を薄膜部とする剥離工程と、
    前記厚膜部に通常ピッチ用開口を形成する開口形成工程と、
    を含むことを特徴とするスクリーン印刷用マスクの製造方法。
  6. 請求項5に記載のスクリーン印刷用マスクの製造方法であって、
    前記充填工程により埋め込まれた前記他の部材を、前記メッシュの解放面と同じ高さまで平滑化して厚膜部を形成する平滑化工程を含むことを特徴とするスクリーン印刷用マスクの製造方法。
  7. 請求項5又は6に記載のスクリーン印刷用マスクの製造方法であって、
    前記レジスト工程においては、前記メッシュ貼付板の前記メッシュ側の面の前記所定領域にレジストを形成すると共に、前記メッシュ貼付板の前記メッシュ側の面の反対側の面上にレジストを形成することを特徴とするスクリーン印刷用マスクの製造方法。
  8. 請求項5乃至7のいずれか1項に記載のスクリーン印刷用マスクの製造方法であって、
    前記狭ピッチ用開口又は前記通常ピッチ用開口の側壁に第二の他の部材を形成して、当該側壁を平滑化する側壁平滑化工程を含む、
    ことを特徴とするスクリーン印刷用マスクの製造方法。
  9. 請求項5乃至8のいずれか1項に記載のスクリーン印刷用マスクの製造方法であって、
    前記スクリーン印刷用マスクは、メタルマスクであることを特徴とするスクリーン印刷用マスク。
  10. はんだペースト印刷方法であって、
    配線パターンが設けられた基板と、請求項1乃至4のいずれか1項に記載のスクリーン印刷用マスクとを位置合わせする手順と、
    前記スクリーン印刷用マスクを前記基板に接触させた状態でスキージを摺動させ、はんだペーストを狭ピッチ用開口及び通常ピッチ用開口に充填する充填手順と、
    前記基板から前記スクリーン印刷用マスクを引き離す手順と、を含み、
    前記スクリーン印刷用マスクを最初に用いる際には、前記充填手順は、前記狭ピッチ用開口に対応したメッシュに前記はんだペーストを充填する手順を含むことを特徴とするはんだペーストの印刷方法。
JP2013196481A 2013-09-24 2013-09-24 スクリーン印刷用マスク、その製造方法及びはんだペースト印刷方法 Active JP6268854B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013196481A JP6268854B2 (ja) 2013-09-24 2013-09-24 スクリーン印刷用マスク、その製造方法及びはんだペースト印刷方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013196481A JP6268854B2 (ja) 2013-09-24 2013-09-24 スクリーン印刷用マスク、その製造方法及びはんだペースト印刷方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015063003A JP2015063003A (ja) 2015-04-09
JP6268854B2 true JP6268854B2 (ja) 2018-01-31

Family

ID=52831341

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013196481A Active JP6268854B2 (ja) 2013-09-24 2013-09-24 スクリーン印刷用マスク、その製造方法及びはんだペースト印刷方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6268854B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106739432A (zh) * 2017-03-02 2017-05-31 合肥钱锋特殊胶粘制品有限公司 一种改进型太阳能晶体硅电池片印刷网版的贴膜治具

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06234202A (ja) * 1993-02-08 1994-08-23 Kyushu Hitachi Maxell Ltd スクリーン印刷用マスクの製造方法
JPH08183151A (ja) * 1994-12-28 1996-07-16 Kyushu Hitachi Maxell Ltd メッシュ一体型メタルマスクの製造方法
JP2003257654A (ja) * 2001-12-25 2003-09-12 Hitachi Ltd 画像表示装置およびその製造方法
JP2005138341A (ja) * 2003-11-05 2005-06-02 Murata Mfg Co Ltd ペースト材料の印刷方法及びその印刷装置
EP1955863B1 (en) * 2005-11-28 2013-06-26 Mitsubishi Electric Corporation Printing mask
JP5892411B2 (ja) * 2011-10-06 2016-03-23 日立金属株式会社 スクリーン印刷方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015063003A (ja) 2015-04-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101551898B1 (ko) 배선 기판, 반도체 장치 및 이들의 제조 방법
US7851928B2 (en) Semiconductor device having substrate with differentially plated copper and selective solder
TWI379624B (en) Printed circuit board and method of producing the same
JP2008300507A (ja) 配線基板とその製造方法
TWI669038B (zh) 電路板及其製作方法
KR101384793B1 (ko) 내식성 및 내마모성이 우수한 단자를 구비하는 인쇄회로기판 및 그 제조 방법
TWI661751B (zh) 電路板及其製作方法
JP6268854B2 (ja) スクリーン印刷用マスク、その製造方法及びはんだペースト印刷方法
JP2009056706A (ja) メタルマスク版及びその製造方法
CN105304580A (zh) 半导体装置及其制造方法
JP2015056561A (ja) プリント配線板及びその製造方法
JP4299601B2 (ja) 多層配線基板
US20090124043A1 (en) Method of manufacturing a package board
JP2022066525A (ja) 多層基板、および、部品実装基板
JP2015050307A (ja) 配線基板およびその製造方法
JP2005150417A (ja) 半導体装置用基板及びその製造方法並びに半導体装置
US9974166B2 (en) Circuit board and manufacturing method thereof
TWI305124B (en) Glass circuit board and manufacturing method thereof
US6420207B1 (en) Semiconductor package and enhanced FBG manufacturing
JP2009087793A (ja) 凸形スパイラルコンタクタ、及びその製造方法
TW201138581A (en) Circuit board structure and fabrication method thereof
JP2006032554A (ja) 電子部品の製造方法
JP5897241B2 (ja) 部品内蔵配線板
CN108461405A (zh) 线路载板及其制造方法
JP2007335851A (ja) 回路基板とその製造方法及び半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160816

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170509

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170516

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170712

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20171205

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20171218

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6268854

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150