JP6256484B2

JP6256484B2 - ピリダジン化合物の製造方法

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Publication number: JP6256484B2
Application number: JP2015557094A
Authority: JP
Inventors: 康行仲江; 孝行若松; 宮本　隆史; 隆史宮本
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 2013-05-24
Filing date: 2014-04-24
Publication date: 2018-01-10
Anticipated expiration: 2034-04-24
Also published as: JP2016518309A; EP3004065A1; BR112015028992A2; TW201504215A; AR096373A1; US20160090363A1; ES2652151T3; WO2014188863A1; EP3004065B1; CN105228987A; HUE035517T2; US9732042B2; CN105228987B; PL3004065T3

Description

本発明は、ピリダジン化合物の製造方法、その製造中間体およびその製造方法に関する。

特許文献１には、式［１］

〔式中、Ｘは水素原子、フッ素原子、塩素原子またはメチル基を表し、Ｙは水素原子、フッ素原子、塩素原子またはメチル基を表す。〕
で示される化合物などが殺菌剤の有効成分として有用であることが記載されており、その有利な製造方法が求められていた。
さらに、特許文献２には、ある種のピリダジン化合物が記載されている。

米国特許第７５６９５１８号明細書米国特許出願公開第２００９／１５６６０８号明細書

本発明は式［１］で示される化合物の製造方法、その製造中間体およびその製造中間体の製造方法を提供する。

即ち、本発明は以下のとおりである。
《１》式［４］

〔式中、Ｒ¹は、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１２アルキル基、または群Ａより選ばれる１以上の原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリール基を表し、
Ｑは、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１２アルキルスルホニル基、
群Ａより選ばれる１以上の原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリールスルホニル基、
またはベンゼン環上の１以上の水素原子が群Ｂより選ばれる原子もしくは基で置換されていてもよいベンジル基を表し、
Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、またはメチル基を表す。
群Ａ：ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルコキシ基、ハロゲン原子、およびニトロ基からなる群。
群Ｂ：ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルコキシ基、ハロゲン原子、およびニトロ基からなる群。〕
で示される化合物（以下、化合物［４］とも記す。）と、
式［５］

〔式中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｚは塩素原子または臭素原子を表す。〕
で示される化合物（以下、化合物［５］とも記す。）とを反応させることによる、
式［３］

〔式中、Ｘ、ＹおよびＱは前記と同じ意味を表す。〕
で示される化合物（以下、化合物［３］とも記す。）を得る工程；
化合物［３］を脱保護することにより、
式［２］

〔式中、ＸおよびＹは前記と同じ意味を表す。〕
で示される化合物（以下、化合物［２］とも記す。）を得る工程；および
式［２］で示される化合物を塩素化剤と反応させることにより
式［１］

〔式中、ＸおよびＹは前記と同じ意味を表す。〕
で示される化合物（以下、化合物［１］とも記す。）を得る工程；
を包含する、化合物［１］の製造方法。
《２》化合物［４］と、化合物［５］とを反応させることにより、化合物［３］を得る工程；および
化合物［３］をオキシ塩化リンと混合させて加熱することにより、化合物［１］を得る工程；
を包含する、化合物［１］の製造方法。
《３》式［４Ａ］

〔式中、Ｒ¹は、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１２アルキル基、または群Ａより選ばれる１以上の原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリール基を表し、
Ｑ¹はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１２アルキルスルホニル基、または
群Ａより選ばれる１以上の原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリールスルホニル基を表し、
Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、またはメチル基を表す。
群Ａ：ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルコキシ基、ハロゲン原子、およびニトロ基からなる群。〕
で示される化合物（以下、化合物［４Ａ］とも記す。）と、化合物［５］とを反応させることによる、
式［３Ａ］

〔式中、Ｘ、ＹおよびＱ¹は前記と同じ意味を表す。〕
で示される化合物（以下、化合物［３Ａ］とも記す。）を得る工程；および
化合物［３Ａ］と２級アミンとを混合させたのち、混合物に塩素化剤を加えることにより、化合物［１］を得る工程；
を包含する、式［１］で表される化合物の製造方法。
《４》化合物［３］。
《５》化合物［４］と、化合物［５］とを反応させることによる、化合物［３］
の製造方法。
《６》化合物［４］。

本発明により、式［１］で示される化合物を製造する方法、その製造中間体およびその製造中間体を製造する方法が提供される。

参考例１１で得られた形態１の粉末Ｘ線回折法パターン。参考例１１で得られた形態１のＤＳＣ／ＴＧＡ結果。参考例１２で得られた形態２の粉末Ｘ線回折法パターン。参考例１２で得られた形態２のＤＳＣ／ＴＧＡ結果。参考例１３で得られた形態３の粉末Ｘ線回折法パターン。参考例１３で得られた形態３のＤＳＣ／ＴＧＡ結果。形態１および形態３の粉末Ｘ線回折法パターンの重ね合わせ。

以下、本発明について詳細に説明する。

本明細書中「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子を意味する。中でも塩素原子およびフッ素原子が好ましい。

本明細書中「ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１２アルキル基」とは、「Ｃ１〜Ｃ１２アルキル基」の１以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい基を表し、２以上のハロゲン原子で置換されるとき、該ハロゲン原子は互いに異なっていてもよい。ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１２アルキル基としては例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、１−エチルプロピル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、イソアミル基、シアミル基、テキシル（２，３−ジメチル−２−ブチル）基、シクロプロピル基、シクロヘキシル基、２，２，２―トリクロロエチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、１２−クロロドデシル基、３，３−ジクロロ−３−フルオロプロピル基、およびジクロロフルオロメチル基が挙げられる。中でも、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基が好ましい。

本明細書中「Ｃ１〜Ｃ１２アルキル基」とは、直鎖、分岐鎖または環状の炭素原子数１〜１２のアルキル基を表し、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、１−エチルプロピル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、イソアミル基、シアミル基、テキシル基、シクロプロピル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、ノルボルニル基、およびアダマンチル基が挙げられる。中でも、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基が好ましい。

本明細書中「ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基」とは、「Ｃ１〜Ｃ４アルキル基」の１以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい基を表し、２以上のハロゲン原子で置換されるとき、該ハロゲン原子は互いに異なっていてもよい。ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基としては例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、３，３−ジクロロ−３−フルオロプロピル基、およびジクロロフルオロメチル基が挙げられる。

本明細書中「Ｃ１〜Ｃ４アルキル基」とは、直鎖、分岐鎖または環状の炭素原子数１〜４のアルキル基を表し、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ブチル基、およびｔｅｒｔ−ブチル基が挙げられる。

本明細書中「群Ａより選ばれる１以上の原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリール基」とは、「Ｃ６〜Ｃ２４アリール基」のもつ１以上の水素原子が群Ａより選ばれる原子もしくは基で置換されていてもよい基を表し、２以上の原子もしくは基で置換されるとき、該原子もしくは基は互いに異なっていてもよい。群Ａより選ばれる１以上の原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリール基としては例えば、フェニル基、トリル基、ニトロフェニル基、クロロフェニル基、アニシル基、クロロフルオロフェニル基、ジメトキシフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、トリフルオロメトキシフェニル基、およびクロロターフェニル基が挙げられる。中でも、置換されていてもよいＣ６〜Ｃ１４アリール基が好ましく、特に、置換されていてもよいフェニル基が好ましい。

本明細書中「アリール基」とは、芳香族炭化水素の芳香環から水素原子１つを除いた置換基であり、炭素数は、芳香環に直接結合したアルキル基も含めた数を表す。

本明細書中「Ｃ６〜Ｃ２４アリール基」とは、単環、もしくは多環の炭素原子数６−２４のアリール基を表し、これらの環は縮合していてもよい。Ｃ６〜Ｃ２４アリール基としては例えば、フェニル基、トリル基、メシチル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントラセニル基、ピレニル基、ターフェニル基、ビナフチル基、クォーターフェニル基、３’，５’−ジフェニルビフェニル基、インダニル基、およびジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基が挙げられる。中でも、Ｃ６〜Ｃ１４アリール基が好ましい。

本明細書中「群Ａより選ばれる１以上の原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ１４アリール基」とは、「Ｃ６〜Ｃ１４アリール基」のもつ１以上の水素原子が群Ａより選ばれる原子もしくは基で置換されていてもよい基を表し、２以上の原子もしくは基で置換されるとき、該原子もしくは基は互いに異なっていてもよい。群Ａより選ばれる１以上の原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ１４アリール基としては例えば、フェニル基、トリル基、クロロフェニル基、アニシル基、およびクロロフルオロフェニル基が挙げられる。

本明細書中「Ｃ６〜Ｃ１４アリール基」とは、単環、もしくは多環の炭素原子数６−１４のアリール基を表し、これらの環は縮合していてもよい。Ｃ６〜Ｃ１４アリール基としては例えば、フェニル基、トリル基、ナフチル基、ビフェニル基、インダニル基、およびジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基が挙げられる。中でも、フェニル基および４−トリル基が好ましい。

本明細書中「ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１２アルキルスルホニル基」とは、「Ｃ１〜Ｃ１２アルキルスルホニル基」の１以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい基を表し、２以上のハロゲン原子で置換されるとき、該ハロゲン原子は互いに異なっていてもよい。ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１２アルキルスルホニル基としては例えば、メチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、２，２，２−トリクロロエチルスルホニル基、ペンタフルオロエチルスルホニル基、３，３−ジクロロ−３−フルオロプロピルスルホニル基、および１２−クロロドデシルスルホニル基が挙げられる。中でも、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル基が好ましい。

本明細書中「Ｃ１〜Ｃ１２アルキルスルホニル基」とは、直鎖、分岐鎖または環状の炭素原子数１〜１２のアルキルスルホニル基を表し、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基、ヘプチルスルホニル基、オクチルスルホニル基、ノニルスルホニル基、デシルスルホニル基、ウンデシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基、イソアミルスルホニル基、シアミルスルホニル基、テキシルスルホニル基、シクロプロピルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルメチルスルホニル基、ノルボルニルスルホニル基、およびアダマンチルスルホニル基が挙げられる。中でも、Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル基が好ましい。

本明細書中「ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキルスルホニル基」とは、「Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル基」の１以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい基を表し、２以上のハロゲン原子で置換されるとき、該ハロゲン原子は互いに異なっていてもよい。ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキルスルホニル基としては例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、シクロプロピルスルホニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、２，２，２−トリクロロエチルスルホニル基、およびペンタフルオロエチルスルホニル基が挙げられる。中でも、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、およびトリフルオロメチルスルホニル基が好ましい。

本明細書中「Ｃ１〜Ｃ４アルキルスルホニル基」とは、直鎖、分岐鎖または環状の炭素原子数１〜４のアルキルスルホニル基を表し、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、シクロプロピルスルホニル基、およびｔｅｒｔ−ブチルスルホニル基が挙げられる。

本明細書中「群Ａより選ばれる１以上の原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリールスルホニル基」とは、「Ｃ６〜Ｃ２４アリールスルホニル基」のもつ１以上の水素原子が群Ａより選ばれる原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリールスルホニル基を表し、２以上の原子もしくは基で置換されるとき、該原子もしくは基は互いに異なっていてもよい。置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリールスルホニル基としては例えば、フェニルスルホニル基、トリルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、メシチルスルホニル基、ビフェニルスルホニル基、アントラセニルスルホニル基、ピレニルスルホニル基、ターフェニルスルホニル基、ビナフチルスルホニル基、クォーターフェニルスルホニル基、３’，５’−ジフェニルビフェニルスルホニル基、ニトロフェニルスルホニル基、クロロフェニルスルホニル基、アニシルスルホニル基、クロロフルオロフェニルスルホニル基、ジメトキシフェニルスルホニル基、ペンタフルオロフェニルスルホニル基、トリフルオロメチルフェニルスルホニル基、トリフルオロメトキシフェニルスルホニル基、およびクロロターフェニルスルホニル基が挙げられる。中でも、置換されていてもよいＣ６〜Ｃ１４アリールスルホニル基が好ましく、特に、置換されていてもよいフェニルスルホニル基が好ましい。

本明細書中「Ｃ６〜Ｃ２４アリールスルホニル基」とは、単環、もしくは多環の炭素原子数６−２４のアリールスルホニル基を表し、これらの環は縮合していてもよい。Ｃ６〜Ｃ２４アリールスルホニル基としては例えば、フェニルスルホニル基、トリルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、ビフェニルスルホニル基、アントラセニルスルホニル基、ピレニルスルホニル基、ターフェニルスルホニル基、ビナフチルスルホニル基、クォーターフェニルスルホニル基、３’，５’−ジフェニルビフェニルスルホニル基、インダニルスルホニル基、およびジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルスルホニル基が挙げられる。中でも、Ｃ６〜Ｃ１４アリールスルホニル基が好ましい。

本明細書中「群Ａより選ばれる１以上の原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ１４アリールスルホニル基」とは、「Ｃ６〜Ｃ１４アリールスルホニル基」のもつ１以上の水素原子が群Ａより選ばれる原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ１４アリールスルホニル基を表し、２以上の原子もしくは基で置換されるとき、該原子もしくは基は互いに異なっていてもよい。置換されていてもよいＣ６〜Ｃ１４アリールスルホニル基としては例えば、フェニルスルホニル基、トリルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、ニトロフェニルスルホニル基、クロロフェニルスルホニル基、アニシルスルホニル基、クロロフルオロフェニルスルホニル基、ジメトキシフェニルスルホニル基、ペンタフルオロフェニルスルホニル基、トリフルオロメチルフェニルスルホニル基、およびトリフルオロメトキシフェニルスルホニル基が挙げられる。中でも、フェニルスルホニル基、および４−トリルスルホニル基が好ましい。

本明細書中「Ｃ６〜Ｃ１４アリールスルホニル基」とは、単環、もしくは多環の炭素原子数６−１４のアリールスルホニル基を表し、これらの環は縮合していてもよい。Ｃ６〜Ｃ１４アリールスルホニル基としては例えば、フェニルスルホニル基、トリルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、ビフェニルスルホニル基、インダニルスルホニル基、およびジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルスルホニル基が挙げられる。中でも、フェニルスルホニル基および４−トリルスルホニル基が好ましい。

本明細書中「ベンゼン環の１以上の水素原子が群Ｂより選ばれる原子もしくは基で置換されていてもよいベンジル基」とは、ベンゼン環の有する１以上の水素原子が群Ｂより選ばれる原子もしくは基で置換されていてもよいベンジル基を表し、２以上の原子もしくは基で置換されるとき、該原子もしくは基は互いに異なっていてもよい。置換されていてもよいベンジル基としては例えば、ベンジル基、トリルメチル基（メチルベンジル基）、クロロフェニルメチル基（クロロベンジル基）、アニシルメチル基（メトキシベンジル基）、ジメトキシフェニルメチル基（ジメトキシベンジル基）、ニトロフェニルメチル基（ニトロベンジル基）、トリフルオロメチルフェニルメチル基（トリフルオロメチルベンジル基）、シクロプロピルオキシフェニルメチル基、（２，２−ジクロロシクロプロピルオキシ）フェニルメチル基、およびトリフルオロメトキシフェニルメチル基（トリフルオロメトキシベンジル基）が挙げられる。中でも、ベンジル基、トリルメチル基、クロロフェニルメチル基、およびアニシルメチル基が好ましく、特に、ベンジル基、および４−アニシルメチル基が好ましい。

本明細書中「ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルコキシ基」とは、直鎖、分岐鎖または環状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基の１以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい基を表し、２以上のハロゲン原子で置換されるとき、該ハロゲン原子は互いに異なっていてもよい。直鎖、分岐鎖または環状の炭素原子数１〜４のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、ブトキシ基、およびｔｅｒｔ−ブトキシ基が挙げられ、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルコキシ基としては例えば、メトキシ基、２，２，２−トリクロロエトキシ基、トリフルオロメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、２、２-ジクロロシクロプロピルオキシ基、ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、および３，３−ジクロロ−３−フルオロプロピルオキシ基が挙げられる。

本明細書中、「塩素化剤」としては、オキシ塩化リン、３塩化リン、５塩化リン、塩化スルフリル、塩化チオニル、ホスゲンおよびこれらの混合物が挙げられ、中でもオキシ塩化リンが好ましい。

本明細書中「２級アミン」とは、２級の鎖状アミンおよび２級の環状アミンを表し、２級の鎖状アミンとしては、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミンなどが挙げられ、２級の環状アミンとしては、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、および窒素上が無置換のアゾール類（例えば、イミダゾール、１，２，４−トリアゾール）が挙げられる。中でも２級の環状アミンが好ましく、ピペリジンおよびモルホリンが特に好ましい。

化合物［１］の態様としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。
式［１］において、ＸおよびＹが各々水素原子である化合物。

化合物［２］の態様としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。
式［２］において、ＸおよびＹが各々水素原子である化合物。

化合物［３］の態様としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。
式［３］において、ＸおよびＹが各々水素原子である化合物；
式［３］において、Ｑが、１以上の水素原子が群Ａより選ばれる原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリールスルホニル基、
またはベンゼン環の１以上の水素原子が群Ｂより選ばれる原子もしくは基で置換されていてもよいベンジル基である化合物；
式［３］において、Ｑが、Ｃ６〜Ｃ２４アリールスルホニル基、またはベンジル基である化合物；
式［３］において、Ｑが、Ｃ６〜Ｃ１４アリールスルホニル基、またはベンジル基である化合物；
式［３］において、Ｑが４−トリルスルホニル基、フェニルスルホニル基またはベンジル基である化合物；
式［３］において、Ｑが４−トリルスルホニル基またはフェニルスルホニル基である化合物；
式［３］において、Ｑが４−トリルスルホニル基である化合物；
式［３］において、Ｑがフェニルスルホニル基である化合物；
式［３］において、Ｑがベンジル基である化合物。
式［３］において、ＸおよびＹが各々水素原子であり、
Ｑが、１以上の水素原子が群Ａより選ばれる原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリールスルホニル基、
またはベンゼン環の１以上の水素原子が群Ｂより選ばれる原子もしくは基で置換されていてもよいベンジル基である化合物；
式［３］において、ＸおよびＹが各々水素原子であり、
Ｑが、Ｃ６〜Ｃ２４アリールスルホニル基、またはベンジル基である化合物；
式［３］において、ＸおよびＹが各々水素原子であり、
Ｑが、Ｃ６〜Ｃ１４アリールスルホニル基、またはベンジル基である化合物；
式［３］において、ＸおよびＹが各々水素原子であり、Ｑが４−トリルスルホニル基、フェニルスルホニル基またはベンジル基である化合物；
式［３］において、ＸおよびＹが各々水素原子であり、Ｑが４−トリルスルホニル基またはフェニルスルホニル基である化合物；

式［３］において、ＸおよびＹが各々水素原子であり、Ｑがフェニルスルホニル基である化合物；
式［３］において、ＸおよびＹが各々水素原子であり、Ｑが４−トリルスルホニル基である化合物；
式［３］において、ＸおよびＹが各々水素原子であり、Ｑがベンジル基である化合物。
式［３］において、Ｘがフッ素原子であり、Ｙが水素原子であり、Ｑがフェニルスルホニル基である化合物；
式［３］において、Ｘがフッ素原子であり、Ｙが水素原子であり、Ｑが４−トリルスルホニル基である化合物；
式［３］において、Ｘがフッ素原子であり、Ｙが水素原子であり、Ｑがベンジル基である化合物；
式［３］において、Ｘがフッ素原子であり、Ｙが塩素原子であり、Ｑが４−トリルスルホニル基である化合物；
式［３］において、Ｘが水素原子であり、Ｙが塩素原子であり、Ｑがベンジル基である化合物；

化合物［４］の態様としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。
式［４］において、Ｙが水素原子である化合物；
式［４］において、Ｒ¹が、１以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１２アルキル基、または１以上の水素原子が群Ａより選ばれる原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリール基である化合物；
式［４］において、Ｒ¹が、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル基、またはＣ６〜Ｃ２４アリール基である化合物；
式［４］において、Ｒ¹が、１以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６アルキル基、または１以上の水素原子が群Ａより選ばれる原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ１４アリール基である化合物；
式［４］において、Ｒ¹が、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、またはＣ６〜Ｃ１４アリール基である化合物；
式［４］において、Ｒ¹がメチル基、フェニル基または４−トリル基である化合物；
式［４］において、Ｒ¹がメチル基である化合物；
式［４］において、Ｑが４−トリルスルホニル基である化合物；
式［４］において、Ｒ¹がメチル基であり、Ｑがフェニルスルホニル基である化合物；
式［４］において、Ｒ¹がメチル基であり、Ｑが４−トリルスルホニル基である化合物；
式［４］において、Ｙが水素原子であり、Ｑが、１以上の水素原子が群Ａより選ばれる原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリールスルホニル基、またはベンゼン環の１以上の水素原子が群Ｂより選ばれる原子もしくは基で置換されていてもよいベンジル基であり、Ｒ¹が、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６アルキル基、または１以上の水素原子が群Ａより選ばれる原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリール基である化合物；
式［４］において、Ｙが水素原子であり、Ｑが、Ｃ６〜Ｃ２４アリールスルホニル基またはベンジル基であり、Ｒ¹がＣ１〜Ｃ６アルキル基またはＣ６〜Ｃ２４アリール基である化合物；
式［４］において、Ｙが水素原子であり、Ｑが、Ｃ６〜Ｃ１４アリールスルホニル基またはベンジル基であり、Ｒ¹がＣ１〜Ｃ６アルキル基またはＣ６〜Ｃ１４アリール基である化合物；
式［４］において、Ｙが水素原子であり、Ｑが、４−トリルスルホニル基またはベンジル基であり、Ｒ¹がメチル基、フェニル基または４−トリル基である化合物；
式［４］において、Ｙが水素原子であり、Ｑが、１以上の水素原子が群Ａより選ばれる原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリールスルホニル基であり、Ｒ¹が、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６アルキル基である化合物；
式［４］において、Ｙが水素原子であり、Ｑが、Ｃ６〜Ｃ２４アリールスルホニル基であり、Ｒ¹が、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基である化合物；
式［４］において、Ｙが水素原子であり、Ｑが、Ｃ６〜Ｃ１４アリールスルホニル基であり、Ｒ¹が、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基である化合物；
式［４］において、Ｙが水素原子であり、Ｑが４−トリルスルホニル基であり、Ｒ¹がメチル基である化合物；
式［４］において、Ｙが水素原子であり、Ｑが、ベンゼン環の１以上の水素原子が群Ｂより選ばれる原子もしくは基で置換されていてもよいベンジル基であり、Ｒ¹が、１以上の水素原子が群Ａより選ばれる原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリール基である化合物；
式［４］において、Ｙが水素原子であり、Ｑがベンジル基であり、Ｒ¹が、Ｃ６〜Ｃ２４アリール基である化合物；
式［４］において、Ｙが水素原子であり、Ｑがベンジル基であり、Ｒ¹が、Ｃ６〜Ｃ１４アリール基である化合物；
式［４］において、Ｙが水素原子であり、Ｑがベンジル基であり、Ｒ¹がフェニル基または４−トリル基である化合物；
式［４］において、Ｒ¹がフェニル基である化合物；
式［４］において、Ｒ¹がフェニル基であり、Ｑが４−トリルスルホニル基である化合物；
式［４］において、Ｒ¹がフェニル基または４−トリル基であり、Ｑがベンジル基である化合物；
式［４］において、Ｒ¹がフェニル基であり、Ｑがベンジル基である化合物；
式［４］において、Ｙが水素原子であり、Ｑがベンジル基である化合物；
式［４］において、Ｙが水素原子であり、Ｑが４−トリルスルホニル基であり、Ｒ¹がフェニル基である化合物；

式［４］において、Ｒ¹がメチル基であり、Ｙが塩素原子であり、Ｑが４−トリルスルホニル基である化合物；
式［４］において、Ｒ¹がメチル基であり、Ｙが水素原子であり、Ｑがベンジル基である化合物；
式［４］において、Ｒ¹がメチル基であり、Ｙが水素原子であり、Ｑがフェニルスルホニル基である化合物；
式［４］において、Ｒ¹がメチル基であり、Ｙが水素原子であり、Ｑが４−トリルスルホニル基である化合物；

式［４］において、Ｒ¹がフェニル基であり、Ｙが塩素原子であり、Ｑが４−トリルスルホニル基である化合物；
式［４］において、Ｒ¹がフェニル基であり、Ｙが水素原子であり、Ｑがベンジル基である化合物；
式［４］において、Ｒ¹がフェニル基であり、Ｙが水素原子であり、Ｑがフェニルスルホニル基である化合物；
式［４］において、Ｒ¹がフェニル基であり、Ｙが水素原子であり、Ｑが４−トリルスルホニル基である化合物；

化合物［５］の態様としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。
式［５］において、Ｘが水素原子である化合物。

次に、本発明方法の各工程ついて説明する。式中、記号は前記と同じ意味を表す。

（製造法１）
化合物［３］を製造する工程について説明する。

化合物［３］は、化合物［４］と化合物［５］とを反応させることにより製造することができる。

［式中、記号は前記と同じ意味を表す。］
該反応は通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の炭化水素、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応の反応温度は通常−２０〜３０℃の範囲であり、より好ましくは０〜５℃の範囲である。反応時間は通常１〜１００時間の範囲である。
該反応に用いられる化合物［５］の使用量は、化合物［４］１モルに対して通常１〜１０モルの範囲であり、より好ましくは１〜１．２モルの範囲である。
反応終了後は、例えば反応混合物を塩酸や硫酸と混合した後、沈殿物をろ過により集めるか、あるいは有機溶媒抽出し、得られた有機層を乾燥、又は濃縮等の操作を行うことにより、化合物［３］を単離することができる。単離された化合物［３］はカラムクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（製造法２）
化合物［３］から化合物［２］を製造する工程について説明する。

化合物［２］は、化合物［３］を脱保護することにより製造することができる。

［式中、記号は前記と同じ意味を表す。］
化合物［２］は、公知の方法、例えば、Ｇｒｅｅｎｅ’ｓら、ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓｉｎＯｒｇａｎｉｃＣｈｅｍｉｓｔｒｙ４^th．ＷＩＬＥＹＩＮＴＥＲＳＣＩＥＮＣＥや、ＪｏｕｒｎａｌｏｆＨｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃｃｈｅｍｉｓｔｒｙ．２００３, ２０３．等に記載の方法により化合物［３］を脱保護することにより製造することが出来る。

（製造法３）
化合物［２］から化合物［１］を製造する工程について説明する。

化合物［１］は、化合物［２］と塩素化剤とを反応させることにより製造することができる。

［式中、記号は前記と同じ意味を表す。］
該反応は、米国特許第７５６９５１８号明細書に記載の方法により行われる。

（製造法４）
化合物［３］から化合物［１］を製造する工程について説明する。

化合物［１］は、化合物［３］をオキシ塩化リンと混合させて加熱することにより製造することができる。

［式中、記号は前記と同じ意味を表す。］
該反応は通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の炭化水素、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素等が挙げられ、オキシ塩化リンを溶媒として使用することもできる。
反応温度は通常６０〜１８０℃の範囲であり、反応時間は通常１〜１００時間の範囲である。
該反応に用いられるオキシ塩化リンの使用量は、化合物［３］１モルに対して１〜２０モルの範囲であり、好ましくは１〜５モルの範囲である。
反応終了後は、例えば反応混合物を水または水酸化ナトリウム水溶液等の塩基性水溶液と混合した後、沈殿物をろ過により集めるか、または有機溶媒抽出し、得られた有機層を乾燥、又は濃縮等の操作を行うことにより、化合物［１］を単離することができる。単離された化合物［１］はカラムクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（製造法５）
化合物［４Ａ］から化合物［３Ａ］を製造する工程について説明する。

化合物［３Ａ］は、化合物［４Ａ］と化合物［５］とを反応させることにより製造することができる。

［式中、記号は前記と同じ意味を表す。］
化合物［３Ａ］は、化合物［４］を化合物［４Ａ］に代えて、製造法１に準じて製造することができる。

（製造法６）
化合物［３Ａ］から化合物［１］を製造する工程について説明する。

化合物［１］は、化合物［３Ａ］と２級アミンとを混合させてＱ¹を脱保護した後、混合物に塩素化剤を加えることにより製造することができる。

［式中、記号は前記と同じ意味を表す。］
該反応は通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の炭化水素、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類およびこれらの混合物が挙げられる。
反応温度は通常２０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常１〜１００時間の範囲である。
該反応に用いられる２級アミンとしては、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミンなどの鎖状アミン、およびピロリジン、ピペリジン、モルホリン、イミダゾール、および１，２，４−トリアゾールなどの環状アミンが挙げられ、中でも環状アミンが好ましく、特にピペリジンおよびモルホリンが好ましい。
該反応に用いられる２級アミンの使用量は、化合物［３Ａ］１モルに対して１〜２モルの範囲であり、好ましくは１〜１．２モルの範囲である。
該反応に用いられる塩素化剤としては、オキシ塩化リン、３塩化リン、５塩化リン、ホスゲンおよびこれらの混合物が挙げられ、オキシ塩化リンが特に好ましい。
該反応に用いられる塩素化剤の使用量は、化合物［３Ａ］１モルに対して１〜１０モルの範囲であり、好ましくは１〜３モルの範囲であり、より好ましくは１〜１．１モルの範囲である。
反応終了後は、例えば反応混合物を水または水酸化ナトリウム水溶液等の塩基性水溶液と混合した後、沈殿物をろ過により集めるか、または有機溶媒抽出し、得られた有機層を乾燥、又は濃縮等の操作を行うことにより、化合物［１］を単離することができる。単離された化合物［１］はカラムクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（参考製造法１）
次に、化合物［４］を製造する工程について説明する。

化合物［４］は、式［６］

〔式中、ＹおよびＲ¹は前記と同じ意味を表す。〕
で示される化合物（以下、化合物［６］とも記す。）の窒素原子を保護することにより、製造することができる。

［式中、記号は前記と同じ意味を表す。］

化合物［４］において、ＱがＱ¹である化合物（すなわち、化合物［４Ａ］）を製造する場合には、化合物［４Ａ］は、
式［７］
Ｑ¹−Ｃｌ［７］
〔式中、記号は前記と同じ意味を表す。〕
で示される化合物（以下、化合物［７］とも記す。）と化合物［６］とを反応させることにより製造することが出来る。
化合物［７］としては、例えばメチルスルホニルクロリド、エチルスルホニルクロリド、プロピルスルホニルクロリド、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニルクロリド、ペンチルスルホニルクロリド、ヘキシルスルホニルクロリド、ヘプチルスルホニルクロリド、オクチルスルホニルクロリド、ノニルスルホニルクロリド、デシルスルホニルクロリド、ウンデシルスルホニルクロリド、ドデシルスルホニルクロリド、イソアミルスルホニルクロリド、テキシルスルホニルクロリド、シクロプロピルスルホニルクロリド、シクロヘキシルスルホニルクロリド、シクロヘキシルメチルスルホニルクロリド、ノルボルニルスルホニルクロリド、アダマンチルスルホニルクロリド、トシルクロリド、フェニルスルホニルクロリド、ナフチルスルホニルクロリド、メシチルスルホニルクロリド、ビフェニルスルホニルクロリド、アントラセニルスルホニルクロリド、ピレニルスルホニルクロリド、ターフェニルスルホニルクロリド、ビナフチルスルホニルクロリド、クォーターフェニルスルホニルクロリド、３’，５’−ジフェニルビフェニルスルホニルクロリド、ニトロフェニルスルホニルクロリド、クロロフェニルスルホニルクロリド、アニシルスルホニルクロリド、クロロフルオロフェニルスルホニルクロリド、ジメトキシフェニルスルホニルクロリド、およびペンタフルオロフェニルスルホニルクロリドが挙げられる。
該反応は通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の炭化水素、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリジン−２−オン、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトニトリル、アセトン、２−ブタノン等の非プロトン性極性溶媒およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応は通常、無機塩基等の塩基の存在下に行われる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば、水素化ナトリウム等のアルカリ金属の水素化物、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ金属の炭酸塩等の無機塩基、トリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、およびＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）等の有機塩基およびこれらの混合物が挙げられる。
反応温度は通常−２０〜１００℃であり、反応時間は通常１〜１００時間の範囲である。
該反応に用いられる化合物［７］の使用量は、化合物［６］１モルに対して１〜２モルの範囲であり、コスト面からより好ましくは１〜１．２モルの範囲である。
該反応に用いられる塩基の使用量は、化合物［６］１モルに対して１〜１００モルの範囲であり、好ましくは１〜１．２モルの範囲である。
反応終了後は、例えば反応混合物を水と混合するか、または、塩酸や硫酸と混合して中和した後、有機溶媒抽出し、得られた有機層乾燥、又は濃縮等の操作を行うことにより、化合物［４］を単離することができる。単離された化合物［４］はカラムクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

化合物［４］において、Ｑが、ベンゼン環の１以上の水素原子が群Ｂより選ばれる原子もしくは基で置換されていてもよいベンジル基である化合物は、塩化ベンジル、メチル塩化ベンジル、メトキシ塩化ベンジル、ジメトキシ塩化ベンジル、又はニトロ塩化ベンジル等の塩化ベンジル誘導体、または臭化ベンジル、メチル臭化ベンジル、メトキシ臭化ベンジル、ジメトキシ臭化ベンジル、ニトロ臭化ベンジル等の臭化ベンジル誘導体と、化合物［６］とを反応させることにより製造することが出来る。
該反応は通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の炭化水素、クロロベンゼン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリジン−２−オン、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトニトリル、アセトン、および２−ブタノン等の非プロトン性極性溶媒、メタノール等のアルコール類およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応は通常塩基の存在下に行われる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば、水素化ナトリウム等のアルカリ金属の水素化物、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ金属の炭酸塩等の無機塩基、およびトリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン等の有機塩基が挙げられる。
反応温度は通常−２０℃から溶媒の沸点の範囲であり、反応時間は通常１〜１００時間の範囲である。
該反応に用いられる塩化ベンジル誘導体または臭化ベンジル誘導体の使用量は、化合物［６］１モルに対して１〜１０モルの範囲である。より好ましくは１〜１．２モルの範囲である。
該反応に用いられる塩基の使用量は、化合物［６］１モルに対して１〜１００モルの範囲であり、好ましくは１〜１．２モルの範囲である。
反応終了後は、例えば反応混合物を水と混合するか、または、塩酸や硫酸と混合して中和した後、有機溶媒抽出し、得られた有機層を乾燥、又は濃縮等の操作を行うことにより、化合物［６］を単離することができる。単離された化合物［６］はカラムクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物［６］は、公知の方法、例えば特許文献２に記載の方法に準じて製造することができる。

（参考製造法２）
次に、化合物［５］を製造する工程について説明する。

化合物［５］は、公知の方法、例えば、式［８］で示される化合物（以下、化合物［８］とも記す。）と、マグネシウム（Ｍｇ）もしくはイソプロピルマグネシウムクロリド（ｉ−ＰｒＭｇＣｌ）とを反応させることにより製造することができる。

〔式中、i−Ｐｒはイソプロピル基を表し、Ｚは前記と同じ意味を表す。〕
化合物［５］は単離、精製することなく次の工程に使用することが出来る。
該反応は通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、およびエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、およびキシレン等の炭化水素、およびこれらの混合物が挙げられる。
反応温度は通常−２０〜３０℃の範囲であり、好ましくは０〜５℃の範囲である。反応時間は通常１〜１００時間の範囲である。

該反応に用いられるＭｇの使用量は、化合物［８］１モルに対して１〜１．５モルの範囲であり、好ましくは１〜１．０５モルの範囲である。
該反応にＭｇを用いる場合、反応開始剤として１，２−ジブロモエタン等を添加するのが好ましく、その使用量は、化合物［８］１モルに対して０．００１〜０．０１モルの範囲が好ましい。
該反応にＭｇを用いる場合、溶媒はテトラヒドロフラン等のエーテル類が好ましい。

該反応に用いられるイソプロピルマグネシウムクロリドの使用量は、化合物［８］１モルに対して通常１〜１．５モルの範囲であり、好ましくは１〜１．０５モルの範囲である。

以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例に限定されない。
本明細書において、記号は下記の意味を表す。
Ｍｓはメタンスルホニル基を表す。
Ｔｓは４−トリルスルホニル基を表す。
Ｐｈはフェニル基を表す。
Ｂｎはベンジル基を表す。
ＭＴＢＥは、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルを表す。
ＴＨＦは、テトラヒドロフランを表す。

実施例１

窒素雰囲気下で０．３ｇのＭｇと１５ｍＬのＴＨＦとを混合し、０℃で撹拌した。該混合物に、１，２−ジブロモエタン０．０８ｇのＴＨＦ０．５ｍＬ溶液を全量、および１−ブロモ−２，６−ジフルオロベンゼン（以下、化合物（８−１）と記す。）２．０ｇのＴＨＦ１０．０ｍＬ溶液の１．５ｍＬを加えた。５分後、さらに前記の化合物（８−１）の溶液２．５ｍＬを添加した。しばらく撹拌後、前記の化合物（８−１）の溶液の残量を滴下し、反応混合物を０℃で２時間撹拌した。このようにして調製した上記の２，６−ジフルオロフェニルマグネシウムブロミド（以下、化合物（５−１）とも記す。）の溶液を０℃に保温した滴下ロートへ移した。
別の反応容器にて窒素雰囲気下、４．０ｇの４−メタンスルホニル−６−メチル−５−フェニル−２−（４−トリルスルホニル）−２Ｈ−ピリダジン−３−オン（以下、化合物（４−１）と記す。）と１０．０ｍＬのＴＨＦとを混合し、０℃で撹拌した。該混合物に前記の化合物（５−１）の溶液を約１５分かけて滴下し、反応混合物を０℃で６時間さらに撹拌した。反応混合物を室温まで戻し、１０％塩酸およびヘキサンを加えた。反応混合物を激しく撹拌したのち、ろ過した。ろ上物を水、ＭＴＢＥおよびヘキサンで順次洗浄し、ろ上物を５０℃で減圧下に乾燥し、４−（２，６−ジフルオロフェニル）−６−メチル−５−フェニル−２−（４−トリルスルホニル）−２Ｈ−ピリダジン−３−オン（以下、化合物（３−１）とも記す。）４．０ｇを白色固体として得た（収率９２％）。
化合物（３−１）
¹H-NMR (CDCl₃, TMS) δ(ppm): 8.12 (2H, d, J = 8.3 Hz), 7.36 (2H, d, J = 8.1 Hz), 7.29-7.24 (3H, m), 7.19-7.11 (1H, m), 7.07-7.03 (2H, m), 6.70 (2H, dd, J = 8.3, 7.3 Hz), 2.45 (3H, s), 2.23 (3H, s).

実施例２

実験１：化合物（８−１）１０５ｍｇのＴＨＦ１．０ｍＬ溶液を窒素雰囲気下に０℃で撹拌し、２Ｍイソプロピルマグネシウムクロリド−ＴＨＦ溶液０．３ｍＬを添加し、反応混合物を同温で１時間撹拌して２，６−ジフルオロフェニルマグネシウムクロリド（以下、化合物（５−２）とも記す。）の溶液を調製し、その溶液を０℃で保温した。
実験２：化合物（８−１）１０５ｍｇのＴＨＦ１．０ｍＬ溶液を窒素雰囲気下に０℃で撹拌し、２Ｍイソプロピルマグネシウムクロリド−ＴＨＦ溶液０．３ｍＬを添加し、同温で１時間撹拌して化合物（５−２）の溶液を調製し、その溶液を０℃で保温した。
別の反応容器にて、６−メチル−５−フェニル−４−フェニルスルホニル−２−（４−トリルスルホニル）−２Ｈ−ピリダジン−３−オン（以下、化合物（４−３）と記す。）２００ｍｇとＴＨＦ１．０ｍＬとの混合物を０℃、窒素雰囲気下で撹拌し、実験１で調製した化合物（５−２）の溶液を全量添加した。反応混合物を同温で１．５時間撹拌した後、実験２で調製した化合物（５−２）の溶液を全量加えて、反応混合物をさらに１時間撹拌した。塩酸、ＭＴＢＥおよび酢酸エチルを反応混合物に加えた。分液により得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ＬＣ−ＩＳ（内部標準）定量にて化合物（３−１）の収率を求めると約１００％であった。

実施例３

実験１：化合物（８−１）１０８ｍｇのＴＨＦ１．０ｍＬ溶液を窒素雰囲気下に０℃で撹拌し、２Ｍイソプロピルマグネシウムクロリド−ＴＨＦ溶液０．３ｍＬを添加し、反応混合物を同温で１時間撹拌して化合物（５−２）の溶液を調製し、その溶液を０℃で保温した。
実験２：化合物（８−１）１０８ｍｇのＴＨＦ１．０ｍＬ溶液を窒素雰囲気下に０℃で撹拌し、２Ｍイソプロピルマグネシウムクロリド−ＴＨＦ溶液０．３ｍＬを添加し、同温で１時間撹拌して化合物（５−２）の溶液を調製し、その溶液を０℃で保温した。
別の反応容器にて、２−ベンジル−６−メチル−５−フェニル４−フェニルスルホニル−２Ｈ−ピリダジン−３−オン（以下、化合物（４−４）と記す。）２００ｍｇとＴＨＦ１．０ｍＬとの混合物を０℃、窒素雰囲気下で撹拌し、実験１で調製した化合物（５−２）の溶液を全量添加した。反応混合物を同温で１．５時間撹拌した後、実験２で調製した化合物（５−２）の溶液を全量加えて、反応混合物をさらに１時間撹拌した。塩酸および酢酸エチルを反応混合物に加えた。分液により得られた水層を酢酸エチルで抽出し、先に得られた有機層と混合し、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ＬＣ−ＩＳ定量にて２−ベンジル−４−（２，６−ジフルオロフェニル）−６−メチル−５−フェニル−２Ｈ−ピリダジン−３−オン（以下、化合物（３−２）とも記す。）の収率を求めると９６％であった。
化合物（３−２）
¹H-NMR (CDCl₃, TMS) δ(ppm): 7.55 (2H, d, J = 6.6 Hz), 7.39-7.31 (3H, m), 7.26-7.25 (3H, m), 7.16-7.14 (1H, m), 7.08-7.07 (2H, m), 6.73 (2H, dd, J = 8.3, 7.3 Hz), 5.39 (2H, s), 2.12 (3H, s).

実施例４

化合物（８−１）０．３ｇのＴＨＦ４．０ｍＬ溶液を窒素雰囲気下に０℃で撹拌し、２．０Ｍイソプロピルマグネシウムクロリド−ＴＨＦ溶液０．８ｍＬを添加し、同温で１時間撹拌した。その後、２−ベンジル−４−メタンスルホニル−６−メチル−５−フェニル−２Ｈ−ピリダジン−３−オン（以下、化合物（４−２）と記す。）０．５ｇを加え、反応混合物をさらに１６時間撹拌した。該混合物に１Ｎ塩酸を加えた後、反応混合物を室温に戻し、１Ｎ塩酸２０ｍＬおよび水３０ｍＬを加え、反応混合物を酢酸エチル６０ｍＬで２回抽出した。抽出液を混合し、減圧下に濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン−酢酸エチル）にて精製し、化合物（３−２）３０９ｍｇを得た（収率６０％）。

実施例５

２３５ｍｇの化合物（３−１）、５６ｍｇのモルホリン、および８５６ｍｇのトルエンの混合物を加熱し、５０℃で２．５時間、８０℃で４時間、および１００℃で２．５時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷し、ヘキサン１．０mＬを加えて、反応混合物を濾過した。残渣をヘキサンで洗浄後、減圧下に乾燥し、白色固体２２７ｍｇを得た。¹Ｈ−ＮＭＲより、化合物（２−１）の収率は７４％であった。

実施例６

１３６ｍｇの４−（２，６−ジフルオロフェニル)−６−メチル−５−フェニル−２Ｈ−ピリダジン−３−オン（以下、化合物（２−１）とも記す。）とトルエン８６５ｍｇとの混合物を窒素雰囲気下、１００℃で加熱撹拌し、０．１ｍＬのオキシ塩化リンを加えた。反応混合物を４．５時間さらに加熱撹拌し、室温まで放冷し、１０％水酸化ナトリウム水溶液、および酢酸エチルを反応混合物に加えた。分液により得られた水層を酢酸エチルで２回抽出した。合わせた有機層をＬＣ―ＩＳ定量すると、化合物（１−１）の収率は８５％であった。

実施例７

２．０ｇの化合物（３−１）、３９９ｍｇのピペリジンおよび１０．０ｇのトルエンの混合物を窒素雰囲気下に、１００℃で５時間加熱撹拌し、室温まで放冷した。そこへ、０．４ｍＬのオキシ塩化リンを加えて反応混合物を１００℃で９時間加熱撹拌した。反応混合物に、１００℃でオキシ塩化リン０．１ｍＬを加えて、反応混合物を１００℃さらに４時間加熱撹拌した後、室温まで放冷し、１０％水酸化ナトリウム水溶液９．４ｇを反応混合物に加えて分液した。水層をトルエンで抽出し、さらに水層を酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を混合し、ＬＣ−ＩＳ定量にて、３−クロロ−４−（２，６−ジフルオロフェニル）−６−メチル−５−フェニルピリダジン（以下、化合物（１−１）とも記す。）の収率を求めると、８０％であった。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮し、２．５ｇの粗生成物を得た。粗生成物をメタノール−ＭＴＢＥから再結晶し、目的物０．７ｇを得た。収率５１％。さらに、ろ液を減圧下に濃縮し、１．６ｇの残渣を得た。（ＬＣ−ＩＳ定量より、収率２９％）

実施例８

２０２ｍｇの化合物（３−１）、４１ｍｇのモルホリンおよびトルエン１．０ｇの混合物を窒素雰囲気下に、１００℃で８時間加熱撹拌した後、０．２ｍＬの３％モルホリン／トルエン溶液を加えて、反応混合物を１００℃でさらに４．５時間加熱撹拌した。混合物を室温まで放冷し、０．０５ｍＬのオキシ塩化リンを加えた。反応混合物を１００℃でさらに７時間加熱撹拌した後、室温まで放冷した。反応混合物にアセトニトリルを加えて、ＬＣ−ＩＳ定量すると化合物（１−１）の収率は８０％であった。

参考例１

窒素雰囲気下にて５５％水素化ナトリウム１６ｇとＴＨＦ８７０ｇを混合し、撹拌した。該混合物を０℃に冷却し、４−メタンスルホニル−６−メチル−５−フェニル−２Ｈ−ピリダジン−３−オン（以下、化合物（６−１）とも記す。）８７ｇを加え、次いでトシルクロリド７３ｇを加えた後、混合物を同温度で２時間撹拌した。反応混合物に１Ｎ塩酸８８ｇを加えた後、減圧下に濃縮した。残渣に水２ｋｇおよび酢酸エチル７ｋｇを加えて分液し、有機層を飽和食塩水１ｋｇで洗浄した。有機層を減圧下に濃縮し、そこへエタノール４１２ｇを加えて、得られた混合物を撹拌した後ろ過し、ろ上物をエタノール４１２ｇで洗浄した。得られた残渣を減圧下に乾燥し、化合物（４−１）１３１ｇを得た（収率９５％）。
化合物（４−１）
¹H-NMR (CDCl₃, TMS) δ(ppm): 8.11 (2H, d, J = 7.9Hz), 7.47-7.45 (3H, m), 7.40 (2H, d, J = 8.0Hz), 7.16-7.14 (2H, m), 3.28 (3H, s), 2.48 (3H, s), 2.09 (3H, s).

参考例２

窒素雰囲気下に５５％水素化ナトリウム１８ｇとＤＭＦ（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）９５０ｇを混合し、撹拌した。該混合物を０℃に冷却し、化合物（６−１）９７ｇを少しずつ加え、次いで臭化ベンジル７２ｇを滴下し、混合物を２時間撹拌した。該反応混合物に１Ｎ塩酸７３ｇを加え、さらに酢酸エチル１．７ｋｇおよび水１．０ｋｇを加えて分液した。水層を酢酸エチル１Ｌで２回抽出し、有機層を混合し、飽和食塩水１Ｌで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。濃縮残渣にエタノール５２４ｇおよびクロロホルム５３ｇを加えて混合物を８０℃に加熱した後、室温まで冷却した。析出した固体を濾過し、ろ上物をエタノール１２８ｇで２回洗浄し、ろ上物を減圧下に乾燥して、化合物（４−２）１１２ｇを得た（収率８６％）。
化合物（４−２）
¹H-NMR(CDCl₃, TMS) δ(ppm): 7.53 (2H, d, J = 7.1Hz), 7.46-7.44 (3H, m), 7.40-7.34 (3H, m), 7.17-7.14 (2H, m), 5.37 (2H, s), 3.33 (3H, s), 2.02 (3H, s).

参考例３

６−メチル−５−フェニル−４−フェニルスルホニル−２Ｈ−ピリダジン−３−オン（以下、化合物（６−２）とも記す。）２．０ｇ、トシルクロリド１．４ｇ、炭酸カリウム１．１ｇ、およびアセトニトリル１０ｇの混合物を窒素雰囲気下に８０℃で４時間加熱撹拌した後、室温まで放冷し、水およびＭＴＢＥを混合物に加えた。分液により得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、化合物（４−３）２．６ｇを得た。収率８９％。
化合物（４−３）
¹H-NMR (CDCl₃, TMS) δ(ppm): 8.03 (2H, d, J = 7.8 Hz), 7.89 (2H, d, J = 8.1 Hz), 7.59 (1H, t, J = 7.1 Hz), 7.53-7.49 (3H, m ), 7.46 (2H, t, J = 7.6 Hz), 7.34 (2H, d, J = 8.1 Hz), 7.20-7.16 (2H, m), 2.46 (3H, s), 2.04 (3H, s).

参考例４

化合物（６−２）２．０ｇ、炭酸カリウム１．０ｇ、メタノール１０ｇ、およびベンジルブロミド１．４ｇの混合物を室温で４．５時間撹拌後、ＭＴＢＥ、水および酢酸エチルを反応混合物に加えて分液し、有機層を得た。分液により得られた水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を混合し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮して粗生成物２．９ｇを得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン−ＭＴＢＥ）に付し、化合物（４−４）１．５ｇを得た（収率４３％）。
化合物（４−４）
¹H-NMR (CDCl₃, TMS) δ(ppm): 8.00-7.97 (2H, m), 7.60 (1H, t, J = 7.3 Hz), 7.52-7.47 (5H, m), 7.41-7.37 (2H, m), 7.32-7.27 (3H, m), 7.22 (2H, dd, J = 7.8, 1.5 Hz), 5.25 (2H, s), 1.97 (3H, s).

参考例５

エタノール１９０ｍｌ、２−メタンスルホニル酢酸ヒドラジド３０．０ｇおよび１−フェニルプロパン−１，２−ジオン３２．１ｇの混合物に、窒素雰囲気下、室温で酢酸２３．７ｇを加えた。該混合物を室温で６時間撹拌した後、沈殿した固体を濾過により集めた。濾過残渣をエタノールで洗浄することにより、２−メタンスルホニル酢酸−（1−メチル−２−オキソ−２−フェニル−エチリデンヒドラジド）（以下、化合物（７−１）と記す。）５０．５ｇを得た（収率９０％）。
化合物（７−１）
¹H-NMR (CDCl₃, TMS) δ(ppm): 2.23 (3H, s), 3.11 (3H, s), 4.35 (2H, s), 7.46-7.50 (2H, m), 7.56-7.58 (1H, m), 7.94-7.61 (2H, m), 9.23 (1H, m).

参考例６

トルエン４．６ｍＬおよび化合物（７−１）５６４ｍｇの混合物に、窒素雰囲気下、室温でピペリジン８５ｍｇを加えた。該混合物を１１０℃で１２時間撹拌した後、放冷した。そこに希塩酸を加えて、混合物を酢酸エチルで２回抽出した。有機層を混合し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン−酢酸エチル）に付し、化合物（６−１）４８１ｍｇを得た（収率９１％）。
化合物（６−１）
¹H-NMR (CDCl₃, TMS) δ(ppm): 2.04 (3H, s), 3.36 (3H, s), 7.18-7.21 (2H, m), 7.46-7.52 (3H, m), 11.61 (1H, br).

参考例７

実験１：２−フェニルスルホニル酢酸ヒドラジド３２１ｍｇ、１−フェニルプロパン−１，２−ジオン２０６ｍｇ、酢酸１８６ｍｇ、およびメタノール１．０ｇの混合物を室温で６時間撹拌した。
実験２：２−フェニルスルホニル酢酸ヒドラジド３２２ｍｇ、１−フェニルプロパン−１，２−ジオン２０１ｍｇ、酢酸１１ｍｇ、およびメタノール１．０ｇの混合物を室温で６時間撹拌した。
実験１および実験２の反応混合物を混合し、トルエン共沸により酢酸を除去（トルエンを加えて混合物を減圧下に濃縮する操作を３回行った）した後、混合物を減圧下に濃縮し、２−フェニルスルホニル酢酸−（1−メチル−２−オキソ−２−フェニル−エチリデンヒドラジド）（以下、化合物（７−２）とも記す。）を０．９５ｇ（ＬＣ純度８８％）得た。ＬＣ純度を含量として、収率８９％。
化合物（７−２）
¹H-NMR (CDCl₃ TMS) δ: 8.95 (1H, s), 7.98 (2H, d, J = 7.6 Hz), 7.82 (2H, d, J = 7.8 Hz), 7.68-7.60 (2H, m), 7.51 (４H, td, J = 7.5, 3.7 Hz), 4.48 (2H, s), 2.14 (3H, s).

参考例８

化合物（７−２）１０ｇ、ピペリジン２．７ｇ、およびトルエン３１ｇの混合物を９０℃で５時間撹拌した。該混合物を４０℃まで放冷し、水２０ｍＬ、１０％水酸化ナトリウム水溶液２０ｍＬ、およびトルエン２０ｍＬを加えて分液した。有機層を１０％水酸化ナトリウム水溶液２０mＬで抽出し、水層を混合し、撹拌下に濃塩酸を加えた。析出した固体を濾過により集め、残渣を水およびヘキサンで順次洗浄し、減圧下に乾燥して化合物（６−２）９．３５ｇを得た。収率９８％。
化合物（６−２）
¹H-NMR (CDCl₃ TMS) δ: 10.62 (1H, br s), 8.01-7.98 (2H, m), 7.61 (1H, t, J = 7.5 Hz), 7.55-7.48 (5H, m), 7.24 (2H, dd, J = 7.8, 1.8 Hz), 1.99 (3H, s).

参考例９
化合物（１−１）（１５ｇ）のトルエン（３５ｇ）溶液を水（４８ｇ）に加え、９０℃に加熱して、水とトルエンとの共沸によりトルエンを除去した。トルエンを完全に除去した後、得られたスラリーをろ過し、残渣を水で洗浄し、４０℃で減圧乾燥した。析出固体の粉末Ｘ線回折は純粋相の形態１を示した。

参考例１０
化合物（１−１）（１５ｇ）のキシレン（４５ｇ）溶液を１００℃に加熱して溶液を得て、そこに、１００℃でｎ−ヘプタン（３０ｇ）を加えた。得られた溶液を５℃に冷却し、１時間撹拌した。得られたスラリーをろ過し、ｎ−ヘプタンのキシレン溶液（５０ｗｔ％）で洗浄した。析出物を４０℃で減圧乾燥した。析出固体の粉末Ｘ線回折は純粋相の形態１を示した。

参考例１１
化合物（１−１）と５重量倍のメタノールとを合わせて、６３℃で０．３時間混合して、溶液を得た。得られた溶液を１０℃に冷却し、１．５時間撹拌した。得られたスラリーをろ過し、メタノールで洗浄した。析出物を５０℃で乾燥した。析出固体のＤＳＣ／ＴＧＡおよび粉末Ｘ線回折は純粋相の形態１を示した。図１および２は、形態１の物性チャートである。次の表は、形態１の粉末Ｘ線回折パターンのピークリストを示す。

参考例１２
化合物（１−１）（７６．２ｍｇ）と２ｍＬのメタノールとを１２ｍＬのバイアル内で合わせて、２５℃で０．５時間混合して、溶液を得た。得られた溶液を０．２μｍＰＴＦＥフィルターを通してろ過し、１２ｍＬのきれいなバイアルに入れた。そのバイアルを、蓋をせずに、５０℃のメタルブロックの上に置き、溶媒を、２日間かけて蒸発させた。析出固体のＤＳＣ／ＴＧＡおよび粉末Ｘ線回折は純粋相の形態２を示した。図３および４は、形態２の物性チャートである。次の表は、形態２の粉末Ｘ線回折パターンのピークリストを示す。

参考例１３
化合物（１−１）（２６０．６ｍｇ）と８ｍＬのメタノールとを１２ｍＬのバイアル内で合わせて、２５℃で０．５時間混合して、溶液を得た。得られた溶液を０．２μｍＰＴＦＥフィルターを通してろ過した。この溶液の一部分（〜１ｍＬ）を、１２ｍＬバイアルの蓋をゆるめて５０℃のメタルブロックの上に３日間おき、溶媒を蒸発させた。析出固体のＤＳＣおよび粉末Ｘ線回折は純粋相の形態３を示した。図５および６は、形態３の物性チャートである。次の表は、形態３の粉末Ｘ線回折パターンのピークリストを示す。

図７は、形態１から３の粉末Ｘ線回折パターンが各々異なることを示す。

粉末X線回折（PXRD）
回折計：PANalytical X’Pert Pro
X線：Niフィルター Cu Kα（45kV/40mA）
ステップサイズ：0.02°
測定モード：2θ法
検出器：X'celeratorTM RTMS (Real Time Multi-Strip)
入射光学系：入射スリット（0.25°）、0.04 rad Sollerスリット、散乱スリット（0.25°）、10mm長手制限スリット
受光光学系：受光スリット（0.25°）、0.04 rad Sollerスリット
試料はシリコン無反射試料板上に平らに設置する。

示差走査熱量測定（DSC）
示差走査熱量計：TA Instruments Q100（オートサンプラー、冷却システム付）
40 mL/min Ｎ２パージ
15℃/min（クリンプアルミニウムパン）

熱重量分析（TGA）
熱重量分析装置：TA Instruments Q500
40 mL/min Ｎ２パージ
15℃/min（白金又はアルミニウムパン）

植物病害防除化合物の有効成分として有用な式［１］で示されるピリダジン化合物を、本発明により製造することができる。

Claims

式［４］

〔式中、Ｒ¹は、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１２アルキル基、または群Ａより選ばれる１以上の原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリール基を表し、
Ｑは、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１２アルキルスルホニル基、
群Ａより選ばれる１以上の原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリールスルホニル基、
またはベンゼン環の１以上の水素原子が群Ｂより選ばれる原子もしくは基で置換されていてもよいベンジル基を表し、
Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、またはメチル基を表す。
群Ａ：ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルコキシ基、ハロゲン原子、およびニトロ基からなる群。
群Ｂ：ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルコキシ基、ハロゲン原子、およびニトロ基からなる群。〕
で示される化合物と、
式［５］

〔式中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｚは塩素原子または臭素原子を表す。〕
で示される化合物とを反応させることによる、
式［３］

〔式中、Ｘ、ＹおよびＱは前記と同じ意味を表す。〕
で示される化合物を得る工程；
式［３］で示される化合物を脱保護することにより、
式［２］

〔式中、ＸおよびＹは前記と同じ意味を表す。〕
で示される化合物を得る工程；および
式［２］で示される化合物を塩素化剤と反応させることにより
式［１］

〔式中、ＸおよびＹは前記と同じ意味を表す。〕
で示される化合物を得る工程；
を包含する、式［１］で表される化合物の製造方法。
式［４］

〔式中、Ｒ¹は、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１２アルキル基、または群Ａより選ばれる１以上の原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリール基を表し、
Ｑは、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１２アルキルスルホニル基、
群Ａより選ばれる１以上の原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリールスルホニル基、
またはベンゼン環の１以上の水素原子が群Ｂより選ばれる原子もしくは基で置換されていてもよいベンジル基を表し、
Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、またはメチル基を表す。
群Ａ：ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルコキシ基、ハロゲン原子、およびニトロ基からなる群。
群Ｂ：ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルコキシ基、ハロゲン原子、およびニトロ基からなる群。〕
で示される化合物と、
式［５］

〔式中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｚは塩素原子または臭素原子を表す。〕
で示される化合物とを反応させることによる、
式［３］

〔式中、Ｘ、ＹおよびＱは前記と同じ意味を表す。〕
で示される化合物を得る工程；および
式［３］で示される化合物をオキシ塩化リンと混合させて加熱することにより
式［１］

〔式中、ＸおよびＹは前記と同じ意味を表す。〕
で示される化合物を得る工程；
を包含する、式［１］で表される化合物の製造方法。
式［４Ａ］

〔式中、Ｒ¹は、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１２アルキル基、または群Ａより選ばれる１以上の原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリール基を表し、
Ｑ¹はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１２アルキルスルホニル基、または
群Ａより選ばれる１以上の原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリールスルホニル基を表し、
Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、またはメチル基を表す。
群Ａ：ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルコキシ基、ハロゲン原子、およびニトロ基からなる群。〕
で示される化合物と、
式［５］

〔式中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｚは塩素原子または臭素原子を表す。〕
で示される化合物とを反応させることによる、
式［３Ａ］

〔式中、Ｘ、ＹおよびＱ¹は前記と同じ意味を表す。〕
で示される化合物を得る工程；および
式［３Ａ］で示される化合物と２級アミンとを混合させたのち、混合物に塩素化剤を加えることにより、式［１］

〔式中、ＸおよびＹは前記と同じ意味を表す。〕
で表される化合物を得る工程；
を包含する、式［１］で表される化合物の製造方法。
式［３］

〔式中、Ｑは、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１２アルキルスルホニル基、
群Ａより選ばれる１以上の原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリールスルホニル基、
またはベンゼン環の１以上の水素原子が群Ｂより選ばれる原子もしくは基で置換されていてもよいベンジル基を表し、
Ｘは水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、またはメチル基を表す。
群Ａ：ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルコキシ基、ハロゲン原子、およびニトロ基からなる群。
群Ｂ：ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルコキシ基、ハロゲン原子、およびニトロ基からなる群。〕
で示される化合物。
式［４］

〔式中、Ｒ¹は、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１２アルキル基、またはが群Ａより選ばれる１以上の原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリール基を表し、
Ｑは、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１２アルキルスルホニル基、
群Ａより選ばれる１以上の原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリールスルホニル基、
またはベンゼン環の１以上の水素原子が群Ｂより選ばれる原子もしくは基で置換されていてもよいベンジル基を表し、
Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、またはメチル基を表す。
群Ａ：ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルコキシ基、ハロゲン原子、およびニトロ基からなる群。
群Ｂ：ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルコキシ基、ハロゲン原子、およびニトロ基からなる群。〕
で示される化合物と、
式［５］

〔式中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Ｚは塩素原子または臭素原子を表す。〕
で示される化合物とを反応させることによる、
式［３］

〔式中、Ｘ、ＹおよびＱは前記と同じ意味を表す。〕
で示される化合物の製造方法。
式［４］

〔式中、Ｒ¹は、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１２アルキル基、または群Ａより選ばれる１以上の原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリール基を表し、
Ｑは、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１２アルキルスルホニル基、
群Ａより選ばれる１以上の原子もしくは基で置換されていてもよいＣ６〜Ｃ２４アリールスルホニル基、
またはベンゼン環の１以上の水素原子が群Ｂより選ばれる原子もしくは基で置換されていてもよいベンジル基を表し、
Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、またはメチル基を表す。
群Ａ：ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルコキシ基、ハロゲン原子、およびニトロ基からなる群。
群Ｂ：ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルコキシ基、ハロゲン原子、およびニトロ基からなる群。〕
で示される化合物。