JP6250697B2 - 電子音響部品 - Google Patents
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Description
このトランスデューサは、さらに相対的電極厚h:λ=0.01を有する。この電極厚はh=0.075μmであってよい。基板は(YXl)/αカットでα=55°であり、厚さは0.35μmである。担体ウェーハは、珪素から成る。パッシベーション層は、二酸化珪素から成っており、かつ0.55μmの厚さを有する。
担体ウェーハは、350μm以上の厚さを有する。
a/p : メタライジング比
a : 電極幅
BB : バスバー
CW : 担体ウェーハ
EFI : 電極フィンガ
EL : 電極層
f : 周波数
h : 電極フィンガの厚さ/電極層の厚さ
IDT : トランスデューサ
Im(ε): 誘電率の虚部
LTF : ラダー型フィルタ構造
p : ピッチ
PAL : パッシベーション層
PBR : 並列分岐共鳴器
PIL : 圧電体層
Re(ε): 誘電率の実部
S21 : 伝達関数
SBR : 直列分岐共鳴器
T : 温度
t : 厚さ
TCF : 周波数の温度係数
v : 位相速度
vfree : 自由表面での音響波の位相速度
vmet : メタライズ化された表面での音響波の位相速度
δ : 指向性
ε : 誘電率
θ : 回転角
κ2 : 結合係数
λ : 音響波長
Φ : 位相
Claims (9)
- 電子音響RFフィルタ部品であって、
1つのパッシベーション層を有する1つの担体ウェーハと、
前記パッシベーション層の上の1つの圧電体層と、
前記圧電体層上の1つの電極層における1つの櫛歯状のトランスデューサと、
を備え、
前記部品は、剪断モードで動作するように設計されており、
前記圧電体層は、LiNbO3の単結晶の基板から成り、
前記担体ウェーハはSiから成り、
さらに、
前記基板は(YXl)/αカットで、50°≦α≦60°であり、かつ厚さは0.25μmであり、前記パッシベーション層は、SiO2から成っており、かつ0.25μmの厚さを有し、
又は、
前記基板は(YXl)/αカットで、50°≦α≦60°であり、かつ厚さは0.35μmであり、前記パッシベーション層は、SiO2から成っており、かつ0.25μmの厚さを有し、
又は、
前記基板は(YXl)/αカットで、α=55°であり、かつ厚さは0.25μmであり、前記パッシベーション層は、SiO2から成っており、かつ0.25μmの厚さを有し、
又は、
前記基板は(YXl)/αカットで、α=55°であり、かつ厚さは0.35μmであり、前記パッシベーション層は、SiO2から成っており、かつ0.55μmの厚さを有し、
又は、
前記トランスデューサは、η=0.5のメタライジング比および相対的電極厚h:λ=0.01を有し、前記基板は(YXl)/αカットで、α=55°であり、かつ厚さは0.35μmであり、前記パッシベーション層は、SiO2から成っており、かつ0.55μmの厚さを有し、
又は、
前記トランスデューサは、η=0.5のメタライジング比および相対的電極厚h:λ=0.01を有し、前記基板は(YXl)/αカットで、α=55°であり、かつ厚さは0.175μmであり、前記パッシベーション層は、SiO2から成っており、かつ0.275μmの厚さを有し、
又は、
前記トランスデューサは、0.4≦η≦0.5のメタライジング比および相対的電極厚h:λ=0.05を有し、前記基板は(YXl)/αカットで、α=55°であり、かつ厚さは0.35μmであり、前記パッシベーション層は、SiO2から成っており、かつ0.55μmの厚さを有し、
又は、
前記トランスデューサは、η=0.8のメタライジング比を有し、前記基板は、(YXl)/αカットで、α=52°であり、前記パッシベーション層はSiO2から成り、
又は、
前記基板は(YXl)/αカットで、α=52°であり、かつ厚さは0.2μmであり、前記パッシベーション層は、SiO2から成っており、かつ0.4μmの厚さを有し、
又は、
前記基板は(YXl)/αカットで、α=55°であり、かつ厚さは0.35μmであり、前記パッシベーション層は、SiO2から成っており、かつ0.55μmの厚さを有し、
又は、
前記基板は(YXl)/αカットで、α=52°であり、かつ厚さは0.20μmであり、前記パッシベーション層は、SiO2から成っており、かつ0.40μmの厚さを有する、
ことを特徴とする部品。 - 電子音響RFフィルタ部品であって、
1つのパッシベーション層を有する1つの担体ウェーハと、
前記パッシベーション層の上の1つの圧電体層と、
前記圧電体層上の1つの電極層における1つの櫛歯状のトランスデューサと、
を備え、
前記部品は、剪断モードで動作するように設計されており、
前記圧電体層は、LiTaO3の単結晶の基板から成り、
さらに、
前記基板は(YXl)/αカットで、α=48°であり、かつ厚さは0.465μmであり、前記パッシベーション層は、SiO2から成っており、かつ0.10μmの厚さを有し、
又は、
前記基板は、(YXl)/αカットで、α=55°であり、前記パッシベーション層は、SiO2から成っており、かつ1.0μmの厚さを有し、前記部品は、LSAWで動作するように設計されており、前記担体ウェーハは、350μm以上の厚さを有し、
又は、
前記基板は(YXl)/αカットで、α=48°であり、かつ厚さは0.465μmであり、前記パッシベーション層は、SiO2から成っており、かつ1.0μmの厚さを有する、
ことを特徴とする部品。 - 請求項2に記載の部品において、
前記担体ウェーハは、導波路となる材料で設計されていることを特徴とする部品。 - 前記基板の下側にブラッグミラーパターンをさらに備えることを特徴とする、請求項2に記載の部品。
- 前記担体ウェーハは、Si,サファイヤ,またはダイヤモンド状炭素から成っていることを特徴とする、請求項4に記載の部品。
- 電子音響RFフィルタ部品であって、
1つのパッシベーション層を有する1つの担体ウェーハと、
前記パッシベーション層の上の1つの圧電体層と、
前記圧電体層上の1つの電極層における1つの櫛歯状のトランスデューサと、
を備え、
前記部品は、剪断モードで動作するように設計されており、
前記基板はLiNbO3から成り、(YXl)/αカットで、45°≦α≦60°であり、かつ厚さは1.1μmであり、
前記パッシベーション層は、SiO2から成っており、かつ3μmの厚さを有し、
前記担体ウェーハは、350μm以上の厚さを有する、
ことを特徴とする部品。 - 電子音響RFフィルタ部品であって、
1つのパッシベーション層を有する1つの担体ウェーハと、
前記パッシベーション層の上の1つの圧電体層と、
前記圧電体層上の1つの電極層における1つの櫛歯状のトランスデューサと、
を備え、
前記部品は、剪断モードで動作するように設計されており、
さらに、
前記基板はLiNbO3から成り、(YXl)/αカットで、α=52°であり、かつ厚さは1.0μmであり、前記パッシベーション層は、SiO2から成っており、かつ1.0μmの厚さを有し、前記担体ウェーハは、350μm以上の厚さを有し、
又は、
前記基板はLiNbO3から成り、(YXl)/αカットで、α=52°であり、かつ厚さは1.1μmであり、前記担体ウェーハは、350μm以上の厚さを有し、
又は、
前記基板はLiNbO3から成り、(YXl)/αカットで、α=52°であり、前記パッシベーション層は、SiO2から成っており、かつ1.5μmの厚さを有し、前記担体ウェーハは、350μm以上の厚さを有し、
又は、
前記基板はLiNbO3から成り、(YXl)/αカットで、α=52°であり、かつ厚さは1.2μmであり、前記パッシベーション層は、SiO2から成っており、かつ1.5μmの厚さを有し、前記担体ウェーハは、350μm以上の厚さを有し、
又は、
前記基板はLiNbO3から成り、(YXl)/αカットで、α=52°であり、かつ厚さは1.2μmであり、前記パッシベーション層は、SiO2から成っており、かつ4.0μm以上の厚さを有し、前記担体ウェーハは、350μm以上の厚さを有し、
又は、
前記基板は、LiNbO3から成っており、かつ1.4μmの厚さを有し、前記パッシベーション層は、SiO2から成っており、かつ5μmの厚さを有し、前記トランスデューサは、0.4≦η≦0.5のメタライジング比および相対的電極厚h:λ=0.068を有し、前記担体ウェーハは、350μm以上の厚さを有し、
又は、
前記基板は、LiNbO3から成っており、かつ1.2μmの厚さを有し、前記パッシベーション層は、SiO2から成っており、かつ5μmの厚さを有し、前記トランスデューサは、0.4≦η≦0.5のメタライジング比および相対的電極厚h:λ=0.068を有し、前記担体ウェーハは、350μm以上の厚さを有する、
ことを特徴とする部品。 - 電子音響RFフィルタ部品であって、
1つのパッシベーション層を有する1つの担体ウェーハと、
前記パッシベーション層の上の1つの圧電体層と、
前記圧電体層上の1つの電極層における1つの櫛歯状のトランスデューサと、
を備え、
前記部品は、剪断モードで動作するように設計されており、
さらに、
前記基板はLiTaO3から成り、(YXl)/αカットで、48°≦α≦52°であり、前記パッシベーション層は、SiO2から成っており、かつ前記担体ウェーハの半分厚さを有し、前記担体ウェーハは、350μm以上の厚さを有し、
又は、
前記基板はLiTaO 3 から成り、(YXl)/αカットで、48°≦α≦52°であり、かつ厚さは1.2μmであり、前記パッシベーション層は、SiO 2 から成っており、前記担体ウェーハは、350μm以上の厚さを有し、
又は、
前記基板はLiTaO 3 から成り、(YXl)/52°であり、かつ厚さは1.2μmであり、前記パッシベーション層は、SiO 2 から成っており、かつ1.4μmの厚さを有し、
又は、
前記基板はLiTaO3から成り、(YXl)/αカットで、α=48°であり、かつ厚さは1.2μmであり、前記パッシベーション層は、SiO2から成っており、かつ1.3μmの厚さを有し、前記担体ウェーハは、350μm以上の厚さを有し、
又は、
前記基板はLiTaO3から成り、(YXl)/αカットで、α=48°であり、かつ厚さは2μmであり、前記パッシベーション層は、SiO2から成っており、かつ1.5μmの厚さを有し、前記担体ウェーハは、350μm以上の厚さを有し、
又は、
前記基板はLiTaO3から成り、(YXl)/αカットで、α=48°であり、かつ厚さは2μmであり、前記パッシベーション層は、SiO2から成っており、かつ2μmの厚さを有し、前記担体ウェーハは、350μm以上の厚さを有する、
ことを特徴とする部品。 - 前記部品は、1710MHz≦f≦1785MHzの中心周波数fで動作する、ことを特徴とする請求項1、2、6〜8のいずれか1項に記載の部品。
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