JP6250323B2 - ミラー駆動装置 - Google Patents

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Description

本発明は、ミラー駆動装置に関する。
近年、微少な大きさの機械的要素及び電子回路要素を融合したMEMS(MicroElectro Mechanical System)技術(マイクロマシン技術ともいう)を用いたミラー駆動装置の研究が盛んに行われている。ミラー駆動装置の一例としては、例えば特許文献1に記載されたものが知られている。
特許文献1に記載のミラー駆動装置は、支持部にトーションバー部を介して揺動駆動可能に設けられたミラー部と、支持部を挟む位置に配置された一対の永久磁石と、を備えている。ミラー部は、表面に反射膜が形成されていると共に、その表面と反射膜との間にミラー部の形状に沿った電磁コイルが設けられている。
特開2012−88487号公報
ミラー部の駆動力を効率的に得るためには、ミラー部の軽量化を図り、慣性モーメントを低減させる必要がある。ここで、一般に、ミラー部の反射膜に照射されたときのレーザー光の形状は円形形状を呈している。そのため、上記従来のミラー駆動装置のようにミラー部が矩形形状を呈している構造では、レーザー光が照射されない無駄な領域(隅部)が存在する。その結果、従来のミラー駆動装置では、ミラー部が重いために慣性モーメントが大きく、駆動力を確保し難い。また、従来のミラー駆動装置の構造では、ミラー部(可動板)の形状に沿ってコイルを形成するため、永久磁石により形成される磁場と電磁コイルに流れる電流の向きによっては直交する辺が存在しない場合や、交差しない部分が多く存在する場合があるため、駆動力を効率的に得ることができない。
本発明は、駆動力を効率的に得ることができるミラー駆動装置を提供することを目的とする。
本発明に係るミラー駆動装置は、支持部と、連結部材を介して、支持部に対して揺動可能に支持されると共に、円形形状を呈する可動部と、可動部の主面上に配置されたミラーと、可動部の周囲に磁場を形成する磁石と、を備え、可動部は、ミラーの下方で且つ主面に対して直交する方向から見てミラーの内側に少なくとも一部が配置された駆動コイルを有し、駆動コイルは、主面に対して直交する方向から見て2n角形形状(nは整数で且つ3以上)を呈しており、その少なくとも一辺が磁場の方向に直交していることを特徴とする。
このミラー駆動装置では、可動部は円形形状を呈している。これにより、可動部が矩形形状を呈する構造に比べて空気抵抗を小さくすることができると共に、軽量化が図れるため慣性モーメントを低減させることができる。また、ミラー駆動装置では、駆動コイルは、主面に対して直交する方向から見て2n角形形状(nは整数で且つ3以上)を呈しており、その少なくとも一辺が磁界の方向に直交している。これにより、磁場の方向と駆動コイルに流れる電流の向きとが直交するため、ローレンツ力を効果的に発生させることができる。したがって、ミラー駆動装置では、駆動力を効率的に得ることができる。
一実施形態においては、磁場は、可動部の主面の面方向に沿って形成されており、磁場の方向は、主面に対して直交する方向から見て、揺動軸に対して所定の角度を成している。これにより、駆動コイルに流れる電流と磁場の方向とが直交するため、ローレンツ力をより効果的に発生させることができる。したがって、駆動力を効率的に得ることができる。
一実施形態においては、可動部は、駆動コイルが埋め込まれる溝部を有する基材を有し、駆動コイルは、溝部内に配置された金属材料であるCuによって構成されていてもよい。このように、駆動コイルを溝部に金属材料を配置するダマシン法により形成することにより、可動部の主面の平坦性を確保できる。また、駆動コイルをCuで構成することにより、電気抵抗率を小さくすることができ、駆動コイルに大きな電流を流すことができる。その結果、より大きなローレンツ力を発生させることができるため、駆動力をより効果的に得ることができる。
本発明によれば、駆動力を効率的に得ることができる。
一実施形態に係るミラー駆動装置を示す平面図である。 図1に示すミラー駆動装置の駆動コイルの構成を示す平面図である。 図1におけるIII−III線に沿った断面構成を示す図である。 永久磁石を示す斜視図である。 磁場を模式的に示す図である。 可動部の断面構成の一部を示す図である。 (a)は図2におけるa−a線に沿った断面構成を示す図であり、(b)は図2におけるb−b線に沿った断面構成を示す図である。 比較例の駆動コイルと磁場との関係を模式的に示す図である。 駆動電流と光学振れ角との関係を示すグラフである。
本発明の実施形態について図面を参照して説明するが、以下の本実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の内容に限定する趣旨ではない。説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。
図1は、一実施形態に係るミラー駆動装置を示す平面図である。図2は、図1に示すミラー駆動装置の駆動コイルの構成を示す平面図である。図3は、図1におけるIII−III線に沿った断面構成を示す図である。各図に示されるように、ミラー駆動装置1は、永久磁石3と、固定フレーム(支持部)5と、可動部7と、ミラー9と、を備えている。
永久磁石3は、矩形状を呈する平板状を成している。永久磁石3は、可動部7の下方に配置されている。永久磁石3は、一対の主面3a,3bを有する。永久磁石3は、可動部7の周囲(後述する駆動コイル12の周囲)に磁場(磁界)を形成する。図4は、永久磁石を示す斜視図である。図3及び図4に示されるように、永久磁石3は、第1磁性部30と、第2磁性部31と、第3磁性部32と、を有している。図4に示されるように、第1磁性部30及び第2磁性部31は、それぞれ、永久磁石3において、永久磁石3の底面の対角線方向における一端側及び他端側に配置されている。第3磁性部32は、第1磁性部30と第2磁性部31との間に配置されている。第1磁性部30と第3磁性部32との境界面33、及び第3磁性部32と第2磁性部31との境界面34は、Z軸に平行で、かつX軸及びY軸の両方と交差する平面である。
第1磁性部30は、第1極性の磁極30aと、第1極性とは異なる第2極性の磁極30bと、を有する。第2磁性部31は、第1極性の磁極31aと、第2極性の磁極31bと、を有する。第3磁性部32は、第1極性の磁極32aと、第2極性の磁極32bと、を有する。磁極32aは、第3磁性部32における、第1磁性部30と対向する側に配置されている。磁極32bは、第3磁性部32における、第2磁性部31と対向する側に配置されている。本実施形態では、第1極性はS極の極性であり、第2極性はN極の極性である。逆に、第1極性がN極の極性であり、第2極性がS極の極性であってもよい。
第1磁性部30、第3磁性部32及び第2磁性部31は、ハルバッハ配列を構成している。具体的には、第1磁性部30において、第1極性の磁極30aと第1磁性部30の第2極性の磁極30bとは、Z軸方向において対向している。第1磁性部30に隣接する第3磁性部32において、第1極性の磁極32aと第3磁性部32の第2極性の磁極32bとは、X,Y方向に平行な方向において対向している。第3磁性部32に隣接し、且つ第3磁性部32に関して第1磁性部30の反対側に位置する第2磁性部31において、第1極性の磁極31aと第2極性の磁極31bとは、Z軸方向において対向している。このように、第1磁性部30、第3磁性部32、及び第2磁性部31のうち隣り合う2つにおいて、それぞれが有する2つの磁極が対向する方向は、互いに垂直な方向である。
永久磁石3により形成される磁場の方向は、所定の角度を成している。詳細には、図5に示されるように、磁場Fは、後述する可動部7の主面7aの面方向に沿って形成され、磁場Fの方向は、固定フレーム5と可動部7とを連結する直線状のトーションバー(連結部材)10a,10bにおける可動部7との接続箇所Cを少なくとも含む(接続箇所Cを繋ぐ)直線Lに対して約45°の角度を成している。永久磁石3の厚さは、例えば2mm〜3mm程度に設定することができる。
固定フレーム5は、矩形状を呈する枠体である。固定フレーム5は、永久磁石3の主面3a上に配置されている。固定フレーム5の厚さは、例えば250μm〜300μm程度に設定することができる。
可動部7は、固定フレーム5の開口内に位置している。可動部7は、円形形状を呈する平板状を成している。ここで言う円形形状には、真円及び楕円を含む。本実施形態では、可動部7は、真円形状を呈している。可動部7は、トーションバー10a,10bを介して、固定フレーム5に対して揺動可能に支持されている。トーションバー10a,10bは、直線状を呈しており、固定フレーム5と可動部7とを連結している。トーションバー10a,10bは、可動部7を両側から挟む位置に配置されている。本実施形態では、トーションバー10a,10bが直線状を呈しているため、トーションバー10a,10bの延在方向(もしくは揺動軸(揺動軸の延びる方向))と、トーションバー10a,10bと可動部7との接続箇所Cのそれぞれを含む上記直線Lとは、同一方向とされている。なお、トーションバーは、直線状である構成に限らず、例えば、直線部分と、この直線部分の両端を交互に連結する複数の折り返し部分と、を有する蛇行形状であってもよい。このような構成において、トーションバーと固定フレーム5との接続箇所と、トーションバーと可動部7との接続箇所とのそれぞれは、同一直線上に位置していてもよいし、同一直線上に位置していなくてもよい。同一直線上に位置していない場合、磁場Fの方向と所定の角度を成すのはトーションバー(連結部材)の延在方向もしくは揺動軸の延びる方向のいずれかである。
ミラー9は、可動部7の主面7a上に配置されている。本実施形態では、図1に示されるように、ミラー9は円形形状を呈している。ミラー9は、金属薄膜により構成された光反射膜である。ミラー9に用いられる金属材料としては、例えばアルミ(Al)、金(Au)、銀(Ag)が挙げられる。
可動部7には、駆動コイル12が配置されている。駆動コイル12は、ミラー9の下方に配置されており、可動部7に埋め込まれている。駆動コイル12は、可動部7の主面7aに対して直交する方向から見て、ミラー9の内側、すなわちミラー9に覆われる(隠れる)位置に配置されている。図2に示されるように、駆動コイル12は、可動部7の主面7aに直交する方向から見て、多角形形状、詳細には2n角形形状(nは整数であり且つ3以上(n≧3))を呈しており、本実施形態では、八角形形状を呈している。
駆動コイル12は、少なくとも一辺が磁場の方向に直交している。本実施形態では、駆動コイル12が八角形形状を呈しており、図5に示されるように、八辺のうちの二辺が磁場Fの方向に直交しており、その他の二辺が磁場Fと交差している。
続いて、駆動コイル12の詳細な構成について以下に説明する。図6は、可動部における駆動コイルの断面構成を示す図である。図6に示されるように、可動部7は、基材14と、駆動コイル12と、被覆層16と、絶縁層18と、を有する。基材14は、駆動コイル12に対応する形状を呈する溝部20を有する。すなわち、溝部20は、主面14a(主面7a)に対して直交する方向から見て、八角形形状に形成されている。溝部20は、例えば、基材14の表面に所定のパターンのマスクを形成し、続いて、当該マスクを介して基材14をエッチングすることにより形成できる。基材14は、例えば、Siで構成される。基材14の厚みは、例えば20μm〜60μm程度に設定することができる。
基材14の主面14a及び溝部20の内壁面には、絶縁層22が配置されている。絶縁層22は、基材14を熱酸化して得られる熱酸化膜である。絶縁層22は、例えばSiOで構成される。溝部20内で且つ絶縁層22の内壁面には、シード層24が配置されている。すなわち、シード層24は、絶縁層22と駆動コイル12との間に位置している。シード層24は、駆動コイル12を構成する金属材料に対して付着性を有する緻密な金属材料を、基材14(絶縁層22)上にスパッタリングすることにより得られる。シード層24を構成する金属材料としては、例えばTiNが挙げられる。
溝部20内で且つシード層24上には、駆動コイル12を構成する金属材料が配置されている。駆動コイル12は、ダマシン法により、シード層24上に当該金属材料を埋め込むことにより得られる。溝部20内に当該金属材料を埋め込むための手法としては、めっき、スパッタリング又はCVDが挙げられる。
溝部20内に当該金属材料を配置した後に、化学機械研磨(CMP:ChemicalMechanical Polishing)によって主面14a側を平坦化してもよい。この平坦化工程においては、駆動コイル12とシード層24との間に生ずる電位差等により、駆動コイル12のうちシード層24と接する境界部26が局所的に減肉することがある。当該金属材料としては、例えばCu又はAuが挙げられる。駆動コイル12の厚さは、例えば5μm〜10μm程度に設定することができる。
被覆層16は、溝部20の開口を覆うように主面14a上まで延びている。すなわち、被覆層16は、主面14aに対して直交する方向から見て、駆動コイル12のうち主面14a側の表面全体を覆うと共に、基材14のうち溝部20の周囲を覆っている。被覆層16は、例えばスパッタリング法又はCVD法により基材14上面全体に金属材料を堆積し、続いて、パターニングすることにより得られる。
被覆層16を構成する金属材料は、駆動コイル12を構成する金属材料の拡散を抑制する機能を有する。被覆層16を構成する金属材料としては、例えばAl又はAlを含む合金が挙げられる。Alを含む合金としては、Al−Si合金、Al−Cu合金、Al−Si−Cu合金が挙げられる。Al−Si合金の組成比は、例えばAlが99%、Siが1%とすることができる。Al−Cu合金の組成比は、例えばAlが99%、Cuが1%とすることができる。Al−Si−Cu合金の組成比は、例えばAlが98%、Siが1%、Cuが1%とすることができる。被覆層16の厚さは、例えば1μm程度に設定することができる。
絶縁層18は、基材14上及び被覆層16上を覆うように配置されている。絶縁層18を構成する材料としては、例えばSiO、SiN又はTEOSが挙げられる。絶縁層18上には、ミラー9が配置されている。
図2に示されるように、駆動コイル12の一端部には、引出し導体40の一端が電気的に接続されている。駆動コイル12の他端部には、引出し導体42の一端が電気的に接続されている。引出し導体40,42は、トーションバー10aに沿って延在し、固定フレーム5まで引き出されている。引出し導体40,42の他端は、固定フレーム5に配置された電極44,46に電気的に接続されている。電極44,46は、図示しない電源に接続されている。
図7(a)は、図2におけるa−a線に沿った断面構成を示す図であり、図7(b)は、図2におけるb−b線に沿った断面構成を示す図である。
図7(a)に示されるように、トーションバー10aと可動部7との接続箇所C付近では、駆動コイル12(配線)は、Cu又はAuと材料とするダマシン配線によって形成されている。また、図示しないが、トーションバー10aと固定フレーム5との接続箇所では、引出し導体40,42と電極44,46とを接続する配線がダマシン配線によって形成されている。図7(b)に示されるように、トーションバー10aの中央部付近では、引出し導体40は、例えばAl又はAlを含む合金等の材料、すなわち駆動コイル12を形成するCuよりも塑性変形し難い材料により形成されている。駆動コイル12の他端部と引出し導体40の一端とは、図示しない接続部により電気的に接続されている。図7(a)及び(b)に示されるように、駆動コイル12と引出し導体40とは、高さ位置が異なっている。そのため、駆動コイル12と引出し導体40とは、可動部7の主面7aに対して直交する方向に延在する上記接続部により接続されている。図7(b)では、引出し導体40を示しているが、引出し導体42も同様の構成を有している。
以上説明したように、本実施形態に係るミラー駆動装置1では、可動部7が円形形状を呈している。これにより、可動部7が矩形形状を呈する構造に比べて空気抵抗を小さくすることができると共に、軽量化が図れるため慣性モーメントを低減させることができる。ここで、空気抵抗は、本実施形態のミラー駆動装置1では、シミュレーションにおいて1.45×10−3[N]であり、ミラー(可動部)の周囲に駆動コイルが配置された従来のミラー駆動装置では、1.70×10−3[N]である。したがって、本実施形態のミラー駆動装置1では、可動部7における空気抵抗を小さくすることができる。
また、ミラー駆動装置1では、永久磁石3は可動部7の下方に配置されており、駆動コイル12は、可動部7の主面7aに対して直交する方向から見て八角形形状を呈している。これにより、前述のように本実施形態ではトーションバー10a,10b(連結部材)の延在方向もしくは揺動軸の延びる方向に対して45°の角度を成す磁場Fが発生しているが、このような場合であっても、磁場Fの方向と駆動コイル12の二辺に流れる電流の向きとが直交し、且つ、その他の二辺に流れる電流の向きと磁場Fの方向とが交差するため、ローレンツ力を効果的に発生させることができる。したがって、ミラー駆動装置1では、駆動力を効率的に得ることができる。
ここで、図8は、比較例の駆動コイルと磁場との関係を模式的に示す図である。図8(a)に示されるように、駆動コイル50が四角形形状を呈する(2n角形形状においてnが3よりも小さい)場合には、磁場Fと直交する辺が存在しない。そのため、四角形形状を呈する駆動コイル50では、ローレンツ力が発生し難いため、駆動力が低下する。また、駆動コイル50のように四角形形状では、ミラー9の下方において使用できる面積が小さいため、駆動コイル50の長さを確保し難い。その結果、駆動力が低下する。
また、図8(b)に示されるように、四角形形状を呈する駆動コイル50の辺が磁場Fと直交するように配置すると、駆動コイル50において、磁場Fと全く交差しない(磁場Fと平行な)辺が存在する。磁場Fと交差しない二辺は、駆動コイル50の長さの1/2に相当するため、他の二辺が磁場Fと直交している場合であっても、十分な駆動力を得ることができない。また、図8(b)に示す構成では、トーションバー10a,10bへの配線を駆動コイル50の角部から出さなければならない。この場合、角部には負荷(応力)が集中し易いため、配線が断線する可能性が高くなるといった問題も生じ得る。
また、駆動コイルをミラー9と同じ形状、すなわち円形形状とした場合には、磁場Fと直交する辺が存在しないため、十分な駆動力を得ることができない。本実施形態のミラー駆動装置1では、駆動コイル12の形状を六角形形状以上の多角形形状(八角形形状)としている。これにより、ミラー駆動装置1では、磁場Fと直交する辺が存在すると共に、磁場Fと直交しなくとも交差する辺が存在する。磁場Fと直交又は交差しない辺は、駆動コイル12が八角形形状である場合、全体の長さの1/3となる。さらに、駆動コイル12を六角形形状以上の多角形形状とすることにより、ミラー9の下方の面積を有効に使用、すなわち駆動コイル12の長さを有効に確保できる。したがって、ミラー駆動装置1では、駆動力を効率的に得ることができる。
図9は、駆動電流と光学振れ角との関係を示すグラフである。図9では、横軸が駆動電流[mA]を示しており、縦軸が光学振れ角[°]を示している。図9では、線L1は本実施形態のミラー駆動装置1の結果を示し、線L2及び線L3は従来のミラー駆動装置の結果を示している。図9に示す結果では、本実施形態のミラー駆動装置1の駆動コイル12の巻き数を「3」、駆動コイル12の間隔を0.6μmとしている。また、従来のミラー駆動装置は、ミラー(可動部)の周囲にコイルが配置された構成であり、駆動コイルの巻き数をそれぞれ「1」(L2)、「3」(L3)、駆動コイルの間隔をそれぞれ1μm(L2)、0.6μm(L3)としている。
図9に示されるように、本実施形態のミラー駆動装置1では、従来のミラー駆動装置に比べて、約2倍の光学振れ角が得られている。このことは、ミラー駆動装置1において、可動部7を円形形状にし、且つ、駆動コイル12をミラー9の下方に配置することにより、空気抵抗を小さくすると共に、軽量化が図られたことが寄与している。このように、ミラー駆動装置1では、従来の構成に比べて、高い駆動力が得られている。
本実施形態では、ミラー9の下方で且つ可動部7の主面7aに対して直交する方向から見てミラー9の内側に駆動コイル12を配置している。ミラーの周囲に駆動コイルが配置された従来の構成では、小型化を図ろうとすると、どうしてもミラーの面積が小さくなる。これに対して、ミラー駆動装置1では、上記の構成とすることにより、ミラー9の面積を確保しつつ、小型化を図ることができる。
本実施形態では、可動部7は、駆動コイル12が埋め込まれる溝部20を有する基材14を有し、駆動コイル12は、溝部20内に配置された金属材料であるCuによって構成されている。このように、駆動コイル12をダマシン法により形成することにより、可動部7の主面7aの平坦性を確保できる。また、駆動コイル12をCuで構成することにより、電気抵抗率を小さくすることができ、駆動コイル12に大きな電流を流すことができる。その結果、より大きなローレンツ力を発生されることができるため、駆動力をより得ることができる。
本実施形態では、トーションバー10aに配置された引出し導体40,42は、Al又はAlを含む合金により構成されている。直線状のトーションバー10aには、その中央部に応力が集中する。そこで、ミラー駆動装置1では、駆動コイル12を形成する材料(Cu又はAu)よりも塑性変形し難いAl又はAlを含む合金を引出し導体40,42に採用しているため、応力が加わるトーションバー10aの中央部における引出し導体40,42の強度を確保することができる。したがって、ミラー駆動装置1では、トーションバー10aの機械的な強度を確保でき、応力集中による引出し導体40,42の破損等を抑制できる。
上記トーションバー10aに配置される引出し導体40,42と、トーションバー10aと固定フレーム5、及び、トーションバー10aと可動部7との接続箇所Cにおける配線との構成について、別の観点では、本実施形態は、支持部と、同一直線上に延びるトーションバーと、トーションバーを介して支持部に対して揺動可能に支持される可動部と、可動部に配置されたミラーと、可動部に形成された駆動電気要素(例えば、駆動コイルや圧電体の電極)と、トーションバー上に当該トーションバーの延在方向に沿って配置され、駆動電気要素と接続された配線と、を備え、トーションバーと支持部との接続箇所付近、及び、トーションバーと可動部との接続箇所付近の配線は、溝部内に配置された第1金属材料であるCuによってダマシン配線として構成されており、トーションバーの中央部付近の配線は、第1金属材料よりも塑性変形し難い第2金属材料によって構成されているミラー駆動装置と捉えることができる。
本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態では、可動部7の真円形状を呈している構成を一例に説明したが、可動部7は楕円形状を呈していてもよい。
上記実施形態では、ミラー9が円形形状を呈する構成を一例に説明したが、ミラー9は他の形状であってもよい。
上記実施形態では、駆動コイル12が八角形形状を呈する構成を一例に説明したが、駆動コイル12は、2n角形形状(n≧3)であればよく、六角形形状等であってもよい。六角形形状の駆動コイル12においても、その二辺が磁場Fと直交すると共に、他の二辺が磁場Fと交差する。
上記実施形態では、駆動コイル12の巻き数を2としているが、駆動コイル12の巻き数は、ミラー駆動装置1の設計に応じて適宜設定されればよい。
上記実施形態では、駆動コイル12の引出し導体40,42を、一方のトーションバー10aを介して電極44,46まで引き出しているが、例えば、引出し導体40をトーションバー10a、引出し導体42をトーションバー10bに配置してもよい。つまり、引出し導体40,42を、トーションバー10a,10bのそれぞれを介して一本ずつ電極44,46まで引き出す構成であってもよい。このような構成の場合には、いずれかのトーションバー10a,10bが破損した場合、引出し導体40,42のいずれかが断線して信号が出力されなくなるため、その信号の出力に応じてトーションバー10a,10bの破損を検知でき、動作を中断させることができる。また、引出し導体40,42をそれぞれに配置することにより、応力の低減を一層図ることができると共に、引出し導体40,42間のショートも防止できる。
上記実施形態では、直線状のトーションバー10a,10bを一例に説明したが、トーションバーの構成はこれに限定されず、上述のように蛇行形状等であってもよい。
上記実施形態では、駆動コイル12の全体がミラー9の内側に配置されている構成を一例に説明したが、駆動コイル12は、その一部がミラー9の内側に配置されていればよい。
上記実施形態では、固定フレーム5と可動部7とをトーションバー10a,10bを介して連結してトーションバー10a,10b(連結部材)の延在方向もしくは揺動軸の延びる方向の周りに可動部7を揺動させ、ミラー9を1次元的に駆動させる1次元駆動型の装置を一例に説明したが、ミラー駆動装置は、ミラー9を2次元的に駆動させる2次元駆動型の装置であってもよい。この場合、ミラー駆動装置は、支持部と、支持部に揺動可能に支持される第1可動部と、第1可動部に揺動可能に支持される第2可動部と、第2可動部に配置されたミラーと、第1可動部に配置された第1コイルと、第2可動部に配置された第2コイルと、備えていればよい。上記実施形態の可動部7は、第2可動部に相当し、駆動コイル12は、第2コイルに相当する。第1可動部と第2可動部とは、互いに直交する直線(軸)周りにそれぞれ揺動可能に設けられている。これにより、ミラー駆動装置は、ミラー9を2次元的に駆動させる2次元駆動型の装置として構成される。また、磁場Fの向きは、2つの揺動軸に対し、所定の角度を有していることが好ましい。これにより、各軸ごとの磁石を配置する必要がなくなる。
1…ミラー駆動装置、3…永久磁石、5…固定フレーム(支持部)、7…可動部、7a…主面、9…ミラー、10a,10b…トーションバー(連結部材)、12…駆動コイル、14…基材、20…溝、C…接続箇所、L…直線。

Claims (3)

  1. 支持部と、
    連結部材を介して、前記支持部に対して揺動可能に支持されると共に、円形形状を呈する可動部と、
    前記可動部の主面上に配置されたミラーと、
    前記可動部の周囲に磁場を形成する磁石と、を備え、
    前記可動部は、前記ミラーの下方で且つ前記主面に対して直交する方向から見て前記ミラーの内側に少なくとも一部が配置された駆動コイルを有し、
    前記駆動コイルは、前記主面に対して直交する方向から見て、前記可動部の形状に沿わない2n角形形状(nは整数で且つ3以上)を呈しており、その2n角形の少なくとも一辺が前記磁場の方向に直交していることを特徴とするミラー駆動装置。
  2. 前記磁場は、前記可動部の前記主面の面方向に沿って形成されており、
    前記磁場の方向は、前記主面に対して直交する方向から見て、揺動軸に対して所定の角度を成していることを特徴とする請求項1記載のミラー駆動装置。
  3. 前記可動部は、前記駆動コイルが埋め込まれる溝部を有する基材を有し、
    前記駆動コイルは、前記溝部内に配置された金属材料であるCuによって構成されていることを特徴とする請求項1又は2記載のミラー駆動装置。
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