JP6219258B2 - レーザ装置、及び光音響計測装置 - Google Patents

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Description

本発明は、レーザ装置に関し、更に詳しくは、アレキサンドライト結晶を含むレーザロッドを有し、Qスイッチパルス発振を行うレーザ装置に関する。また、本発明は、そのようなレーザ装置を含む光音響計測装置に関する。
生体内部の状態を非侵襲で検査できる画像検査法の一種として、超音波検査法が知られている。超音波検査では、超音波の送信及び受信が可能な超音波探触子を用いる。超音波探触子から被検体(生体)に超音波を送信させると、その超音波は生体内部を進んでいき、組織界面で反射する。超音波探触子でその反射超音波を受信し、反射超音波が超音波探触子に戻ってくるまでの時間に基づいて距離を計算することで、内部の様子を画像化することができる。
また、光音響効果を利用して生体の内部を画像化する光音響イメージングが知られている。一般に光音響イメージングでは、レーザパルスなどのパルスレーザ光を生体内に照射する。生体内部では、生体組織がパルスレーザ光のエネルギーを吸収し、そのエネルギーによる断熱膨張により超音波(光音響信号)が発生する。この光音響信号を超音波プローブなどで検出し、検出信号に基づいて光音響画像を構成することで、光音響信号に基づく生体内の可視化が可能である。
光音響波の計測には、強度が強いパルスレーザ光を照射する必要があることが多く、光源には、Qスイッチパルス発振を行う固体レーザ装置が用いられることが多い。レーザ装置は、レーザロッド(レーザ媒質)と、レーザロッドを励起するためのフラッシュランプ(励起ランプ)とを有する。また、レーザ装置は、Qスイッチパルス発振のためのQスイッチを有する。光音響計測に用いることができるレーザ装置が、例えば特許文献1や特許文献2に記載されている。これら文献には、レーザ媒質にアレキサンドライト結晶を用いた例が記載されている。
特開2013−089680号公報 特開2013−074180号公報
アレキサンドライト結晶は、誘導放出断面積が小さく、上準位寿命が比較的長いことからQスイッチパルスレーザに好適に使用できる。しかし、アレキサンドライト結晶は宝石の一種であり、それ自体が非常に高価である。従って、アレキサンドライトレーザを安価に作製するためには、アレキサンドライト結晶の小体積化が必須である。
アレキサンドライト結晶を小体積化した場合に、光音響用に十分な出力(例えば100mJ度以上)と十分なパルス長(例えば100n秒程度以下)とをQスイッチ発振で得るためには、出力ミラーの反射率を70%程度以上に高めてレーザの閉じ込めを強くする必要がある。しかしながら、その場合に、共振器内に所望の出力まで光を閉じ込めきることができず、異常発振が発生し、Qスイッチの反射防止コート(AR(antireflection)コート)やレーザ媒質のARコートが破壊されることがあることが判明した。すなわち、アレキサンドライトレーザを小型化すると、高出力・短パルスで正常にQスイッチ発振させることが困難であるということが判明した。
また、ミラーの反射率を高めてレーザの閉じ込めを強くすると、閉じ込められている状況でも異常発振が発生し、レーザ結晶のARコートやQスイッチのARコートが破壊されることがたびたび発生するという新たな事実が判明した。このような状況は信頼性の上で特に大きな問題であり、製品として許容できるレベルにはない。
さらに、Qスイッチは温度特性を持っており、周辺環境の温度変化や装置温度の変化などによってQスイッチの温度が変化すると、レーザを閉じ込められる(レーザ発振を抑制した状態に維持できる)印加電圧が変化する。温度変化が大きいと、レーザを閉じ込めることができずにQスイッチから漏れ始めるが、その漏れの際に巨大なエネルギー密度の異常発振が起こることがわかった。この巨大なエネルギー密度の発振によってQスイッチのARコートやアレキサンドライト結晶のARコートが破壊に至るため、このことが製品化の大きな障壁となる。
本発明は、上記に鑑み、アレキサンドライト結晶を用いたレーザ装置において、小型化した場合でも異常発振を抑制でき、Qスイッチやアレキサンドライト結晶のARコートの破壊を抑制することができるレーザ装置を提供することを目的とする。
また、本発明は、上記のレーザ装置を含む光音響計測装置を提供する。
上記目的を達成するために、本発明は、アレキサンドライト結晶を含むレーザロッドと、レーザロッドに励起光を照射する励起光源と、レーザロッドを挟み込む一対のミラーを含む共振器と、共振器の光路内に挿入され、共振器のQ値を制御するQスイッチと、レーザロッドとQスイッチとの間及びレーザロッドと一対のミラーのうちの一方との間の少なくとも一方に挿入され、レーザロッドから出射した光のうち偏光方向が所定方向の光を選択的に透過するノンコートのブリュースター型の偏光子とを備えたことを特徴とするレーザ装置を提供する。
本発明のレーザ装置では、共振器の光路は、その範囲内において密閉されることが好ましい。
本発明のレーザ装置では、レーザロッド及びQスイッチの少なくとも一方が、その光入射端に反射防止膜を有していてもよい。
Qスイッチはポッケルスセルを含んでいてもよく、ポッケルスセルへの印加電圧が第1の電圧のときに共振器のQ値がレーザ発振しきい値よりも高くなり、印加電圧が第1の電圧よりも高い第2の電圧のときに共振器のQ値がレーザ発振しきい値以下となるように構成してもよい。第1の電圧は例えば0V(電圧無印加)であり、第2の電圧は例えばポッケルスセルを1/4波長板として働かせる電圧であってもよい。
本発明では、投入エネルギーが20Jのとき、共振器のQ値をレーザ発振しきい値以下にするQスイッチへの印加電圧の範囲が0.5kV以上であることが好ましい。
本発明の好ましい態様では、偏光子が、レーザロッドから出射した光の光軸に対してブリュースター角で配置されたガラス板で構成される。
本発明では、投入エネルギーが20Jのとき、レーザの出力エネルギーが140mJ以上であることが好ましい。
本発明のレーザ装置では、偏光子が、レーザロッドと一対のミラーのうちの出力側のミラーとの間の挿入される構成を採用してもよい。あるいは、偏光子が、レーザロッドとQスイッチとの間及びレーザロッドと一対のミラーのうちの一方との間の双方に挿入される構成でもよい。
本発明は、また、アレキサンドライト結晶を含むレーザロッドと、レーザロッドに励起光を照射する励起光源と、レーザロッドを挟み込む一対のミラーを含む共振器と、共振器の光路内に挿入され、共振器のQ値を制御するQスイッチと、レーザロッドとQスイッチとの間及びレーザロッドと一対のミラーのうちの一方との間の少なくとも一方に挿入され、レーザロッドから出射した光のうち偏光方向が所定方向の光を選択的に透過する偏光子ブリュースター型の偏光子であって、偏光方向が所定方向の光と偏光方向が所定の方向と直交する方向の光とを分離する膜を有するブリュースター型の偏光子とを備えたことを特徴とするレーザ装置を提供する。
上記において、Qスイッチがポッケルスセルを含んでいてもよく、ポッケルスセルへの印加電圧が第1の電圧のときに共振器のQ値がレーザ発振しきい値よりも高くなり、印加電圧が第1の電圧よりも高い第2の電圧のときに共振器のQ値がレーザ発振しきい値以下となるように構成してもよい。
上記のレーザ装置では、投入エネルギーが20Jのとき、共振器のQ値をレーザ発振しきい値以下にするQスイッチへの印加電圧の範囲が2.5kV以上であることが好ましい。
また、上記のレーザ装置では、投入エネルギーが20Jのとき、レーザの出力エネルギーが140mJ以上であることが好ましい。
本発明は、更に、本発明のレーザ装置と、レーザ装置から出射したレーザ光が被検体に照射された後に被検体内で生じた光音響波を検出する光音響波検出手段と、検出された光音響波に基づいて信号処理を実施する信号処理手段とを備えたことを特徴とする光音響計測装置を提供する。
本発明のレーザ装置は、共振器内にブリュースター型の偏光子を有する。アレキサンドライト結晶を用いたレーザ装置において、コスト低減のためにアレキサンドライトを含むレーザロッドを小体積化すると、異常発振が起きやすくなり、Qスイッチやアレキサンドライト結晶のARコートが破壊されることがある。共振器内にブリュースター型の偏光子を設けることで、レーザロッドを小体積化した場合でも異常発振を抑制でき、Qスイッチやアレキサンドライト結晶のARコートの破壊を抑制することができる。
本発明の第1実施形態のレーザ装置を示すブロック図。 (a)及び(b)は、それぞれ偏光子を有しないレーザ装置におけるビームプロファイルを示す図。 (a)及び(b)は、第1実施形態のレーザ装置におけるビームプロファイルを示す図。 投入エネルギーとQスイッチをオフに維持できる電圧範囲との関係を示すグラフ。 投入エネルギーと出力エネルギーとの関係を示すグラフ。 本発明の第2実施形態のレーザ装置に用いられる偏光子を示す図。 第2実施形態における投入エネルギーとQスイッチをオフに維持できる電圧範囲との関係を示すグラフ。 第2実施形態における投入エネルギーと出力エネルギーとの関係を示すグラフ。 本発明の第3実施形態に係るレーザ装置を示すブロック図。 レーザ装置の中央付近の断面を示す断面図。 共振器の光路を密閉しない場合のレーザの出力強度の揺らぎを示すグラフ。 共振器の光路を密閉した場合のレーザの出力強度の揺らぎを示すグラフ。 本発明のレーザ装置を含む光音響計測装置を示すブロック図。
以下、図面を参照し、本発明の実施の形態を詳細に説明する。図1は、本発明の第1実施形態のレーザ装置を示す。レーザ装置10は、レーザロッド11、フラッシュランプ12、レーザチャンバ13、ミラー14、15、Qスイッチ16、及び偏光子17を有する。レーザロッド11はレーザ媒質である。レーザロッド11には、棒状に形成されたアレキサンドライト結晶が用いられる。レーザロッド11の端部(光入射面)には、反射防止コート(ARコート)が施されている。すなわち、レーザロッド11は、光入射端に反射防止膜を有する。
フラッシュランプ12は、励起光源であり、レーザロッド11を励起するための励起光を出射する。レーザロッド11及びフラッシュランプ12は、レーザチャンバ13内に収容されている。レーザチャンバ13は、内部にレーザロッド11及びフラッシュランプ12を収容するための空間を有している。また、レーザチャンバ13の内側には反射面が形成されており、フラッシュランプ12から出射した光は、直接レーザロッド11に照射されるか、又は反射面で反射してレーザロッド11に照射される。レーザチャンバ13の内側は拡散反射面としてもよい。
ミラー14、15は、レーザロッド11を挟んで対向しており、ミラー14、15により共振器が構成される。光共振器内の光路は必ずしも直線状である必要はなく、ミラー14、15間の光路上にプリズムなどを設け、光軸を曲げてもよい。ミラー14はアウトプットカプラー(OC:output coupler)であり、ミラー15は全反射ミラーである。ミラー14の反射率は好ましくは70%以上である。出力光であるレーザ光はミラー14から出射する。
共振器の光路上には、共振器のQ値を制御するためのQスイッチ16が挿入される。図1では、Qスイッチ16は、レーザロッド11とミラー15との間の、レーザロッド11から誘導放出された光の光軸上に配置されている。Qスイッチ16は、印加電圧に応じて透過する光の偏光状態を変化させる。Qスイッチ16には、例えばポッケルスセルを用いられる。Qスイッチ16の光入射面を構成する側面には、レーザロッド11と同様にARコートが施されている。より詳細には、Qスイッチ16のポッケルスセルを覆うガラスにARコートが施されている。すなわち、Qスイッチ16は、光入射端に反射防止膜を有する。
共振器のQ値は、Qスイッチ16への印加電圧を変化させることで変化させることで制御される。Qスイッチ16は、印加電圧がQスイッチオンに対応した第1の電圧のとき共振器を高Q状態にする。高Q状態とは、共振器のQ値がレーザ発振しきい値よりも高い状態を指す。第1の電圧は、例えば0V(電圧印加なし)であり、このときQスイッチ16を透過する光の偏光状態は変化しない。一方、Qスイッチ16は、印加電圧がQスイッチオフに対応した第2の電圧のとき、共振器を低Q状態にする。低Q状態とは、共振器のQ値がレーザ発振しきい値よりも低い状態を指す。第2の電圧は、例えばQスイッチ16を1/4波長板として働かせる電圧であり、例えば2kVである。
Qスイッチ16には、レーザロッド11側から偏光方向が所定方向の直線偏光の光が入射する。Qスイッチ16への印加電圧が0V(第1の電圧)のとき、Qスイッチ16に入射した直線偏光の光は偏光状態を変化させずにミラー15に入射し、ミラー15で反射してQスイッチ16に逆向きに入射する。この光は、偏光状態を変化させずにQスイッチ16を通過し、レーザロッド11に帰還する。この場合、共振器のQ値は高く、レーザ発振が起こる。
Qスイッチ16への印加電圧が第2の電圧のとき、Qスイッチ16は1/4波長板として働き、レーザロッド11側からQスイッチ16へ入射した直線偏光の光は、Qスイッチ16を通過する際に円偏光となってミラー15に入射し、ミラー15で反射してQスイッチ16に逆向きに入射する。この光は、Qスイッチ16を通過する際に円偏光から直線偏光となり、レーザロッド11に帰還する。Qスイッチ16を往路とは逆向きに通過した直線偏光の偏光方向は、往路の偏光方向とは90°異なっており、この場合、共振器のQ値は低く、レーザ発振は起こらない。
図示しない制御手段(駆動手段)は、Qスイッチ16への印加電圧が第2の電圧の状態でフラッシュランプ12を点灯させる。フラッシュランプ12の点灯後、レーザロッド11における反転分布密度が十分に高くなるタイミングで、Qスイッチ16への印加電圧を第2の電圧から第1の電圧に変化させる。共振器のQ値を低Q状態から高Q状態に急速に変化させることで、ジャイアントパルスが得られる。共振器から出力されるパルスレーザ光のレーザの出力エネルギーは好ましくは100mJ以上、更に好ましくは140mJ以上である。パルスレーザ光のパルス時間幅は好ましくは100n秒以下、更に好ましくは60n秒以下である。
なお、上記では第1の電圧の印加時がQスイッチオンに対応し、第2の電圧の印加時がQスイッチオフに対応することとしたが、Qスイッチのオン・オフと、印加電圧との関係は逆であってもよい。すなわち、Qスイッチ16への印加電圧が、Qスイッチ16を1/4波長板として働かせる電圧(第2の電圧)としたときをQスイッチオンに対応させ、Qスイッチ16への印加電圧が0V(第1の電圧)のときをQスイッチオフに対応させてもよい。その場合は、Qスイッチ16とミラー15との間に1/4波長板を挿入すればよい。
ここで、レーザ装置を安価に製造するためには、高価なアレキサンドライト結晶をできるだけ小体積化することが好ましい。しかしながら、アレキサンドライト結晶を小体積化すると、エネルギー密度が非常に高くなり、高い出力で短いパルス時間幅のパルスレーザ光を得ようとしたときに異常発振が起こりやすくなり、異常発振により、レーザロッド11やQスイッチ16のARコートが破壊されることがあることがわかった。従って、レーザ装置を長期にわたって安定的に使用することが困難である。
アレキサンドライト結晶を用いたレーザでは、アレキサンドライト結晶が異方性を持ち、それ自身が偏光子の役割を果たすため、本来、共振器内に偏光子を導入する必要はない。しかし、本発明者らは、共振器内にポラライザ(偏光子)を挿入することで、小体積のアレキサンドライト結晶を用い、高い出力で短いパルス時間幅のパルスレーザ光を得ようとした場合でも異常発振を抑制でき、レーザ装置を長期にわたって安定的に使用することが可能であることを見出した。
偏光子17は、共振器内のレーザロッド11と出力側のミラー14との間に挿入される。偏光子17は、コーティングなしの石英ガラスやホウケイ酸ガラスなどの素のガラス板をブリュースター角に配置したものであり、レーザロッド11から出射した光のうち偏光方向が所定方向の光を選択的に透過する。石英ガラスとホウケイ酸ガラスでは、石英ガラスの方がレーザの透過率が高く、好適である。なお、偏光子17は、上記に代えて、レーザロッド11とQスイッチ16との間に挿入されていてもよい。または、双方に挿入されていてもよい。
共振器内に挿入される偏光子の種類について考察する。二色性(選択吸収型)の偏光子は、有機材料が高エネルギー密度のレーザに耐えられないために、使用不可である。複屈折型の偏光子は、2つの複屈折結晶を組み合わせているために不連続境界を持っており、高エネルギー密度のレーザ光で境界面にダメージが発生するために、使用不可である。本実施形態において使用可能な偏光子は、反射・散乱型のブリュースター型の偏光子である。特に、ノンコートのガラス板では、高エネルギー密度の光によって破壊される要素が存在せず、好適に用いることができる。なお、用語「ノンコート」については、最低限、偏光方向が所定方向の光と、偏光方向が所定の方向と直交する方向の光とを分離するための膜や反射防止膜、保護膜などの、高いエネルギー密度の光によって破壊され得る膜を有していないという意味で使用されており、いかなる膜をも有していないことまでは要しない。
本実施形態では、ブリュースター型の偏光子17を用いることで、小型低コストのためにレーザロッド11を小体積化したレーザ装置において高い出力で短いパルス時間幅のレーザ光を得ようとする場合でも、異常発振を抑制できる。レーザロッド11は、好ましくは直径が4mm以下、望ましくは3mm以下である。また、ロッド長は好ましくは70mm以下、望ましくは60mm以下である。
レーザの投入エネルギー、つまり励起のときに励起光源であるフラッシュランプ12に投入するエネルギーについては、フラッシュランプ12に電力を供給する電源部分のコストに直結し、全体の装置コストに大きく影響するため、22J以下が好ましい。そのような低投入エネルギーで、所望の出力とパルス時間幅、例えばレーザの出力エネルギー100mJ以上、更に好ましくは150mJ以上で、かつ、パルス時間幅100n秒以下、更に好ましくは60n秒以下を得るために、投入エネルギーに対する出力エネルギーの効率は0.007以上であることが好ましく、0.008以上であることが更に好ましい。すなわち、投入エネルギーが22Jであれば、おおよそ150mJ以上のレーザの出力エネルギーが得られることが好ましく、おおよそ180mJ以上のレーザの出力エネルギーが得られることが更に好ましい。
図2(a)及び(b)は、偏光子17を有しないレーザ装置におけるビームプロファイルを示す。同図(a)は、レーザロッド11の端部から200mmの位置におけるビームプロファイルを示し、(b)は、レーザロッド11の端部から600mmの位置におけるビームプロファイルを示す。双方において、投入エネルギーは14Jであり、パルス時間幅は47n秒で、出力側のミラー14の反射率は70%である。同図(a)及び(b)を参照すると、偏光子17が設けられていない場合、ビーム中心部分のエネルギー密度が高いことがわかる。
図3(a)及び(b)は、偏光子17を有するレーザ装置におけるビームプロファイルを示す。同図(a)は、レーザロッド11の端部から200mmの位置におけるビームプロファイルを示し、(b)は、レーザロッド11の端部から600mmの位置におけるビームプロファイルを示す。双方において、投入エネルギーは14Jであり、パルス時間幅は47n秒で、出力側のミラー14の反射率は70%である。図3(a)及び(b)と図2(a)及び(b)とを比較すると、偏光子17が設けられることでエネルギー密度を均一化できていることがわかる。レーザロッド11を小体積化し、かつ出力側のミラー14の反射率を高めて閉じ込めを強くした場合でも、局所的にエネルギー密度が高い個所の発生を抑制できることから、異常発振を防ぐことができ、ARコートなどが破壊される危険性を低下させることができる。
図4は、投入エネルギーとQスイッチ16をオフに維持できる電圧範囲(ホールド・オフウィンドウ)との関係を示す。Qスイッチ16は、印加電圧0VのときがQスイッチオンに対応し、印加電圧がQスイッチ16を1/4波長板として働かせる電圧のときがQスイッチオフに対応する。同図には、偏光子17が存在する場合の投入エネルギーとホールド・オフウィンドウとの関係と(黒丸のプロット)、偏光子17が存在しない場合の投入エネルギーとホールド・オフウィンドウとの関係(白丸のプロット)とが描かれている。Qスイッチ16をオフにできる電圧範囲が狭いほど、Qスイッチ16の印加電圧を、Qスイッチ16を1/4波長板として働かせる電圧に正確に制御する必要があり、温度変化に起因してQスイッチ16を1/4波長板として働かせる電圧が変化すると、Qスイッチ16をオフに維持しにくくなる。ホールド・オフウィンドウの幅は、温度変化に対する余裕度と関連する。
偏光子17が存在する場合と存在しない場合とを比較すると、同じ投入エネルギーに対して、偏光子17が存在する構成ではホールド・オフウィンドウの幅を広く取れていることがわかる。例えば投入エネルギーが20Jのとき、偏光子17が存在する構成では、ホールド・オフウィンドウの幅を0.5kV以上とすることができている。従って、偏光子17が存在する構成とした場合、温度変化に起因してQスイッチ16を1/4波長板として働かせる電圧が多少変動したときでも、レーザを閉じ込めきれずにQスイッチ16から漏れだすことを抑制でき、温度変化に起因する異常発振を抑制することができる。異常発振を抑制することで、レーザロッド11やQスイッチ16のARコートなどの破壊を防止できる。
図5は、投入エネルギーと出力エネルギーとの関係を示す。ここでも、Qスイッチ16は、印加電圧0VのときがQスイッチオンに対応し、印加電圧がQスイッチ16を1/4波長板として働かせる電圧のときがQスイッチオフに対応する。レーザの出力エネルギーは、オフィールフォトニクスソリューションズ社製パイロエレクトリックセンサPE25BF-Cで測定した。同図には、偏光子17が存在する場合の投入エネルギーと出力エネルギーとの関係と(黒丸のプロット)、偏光子17が存在しない場合の投入エネルギーと出力エネルギーとの関係(白丸のプロット)とが描かれている。図4も参照すると、偏光子17が存在しない構成の場合、Qスイッチ16をオフに維持できないことから入力エネルギーをあまり上げることができず、従って150mJの出力を得ることは困難である。一方、偏光子17が存在する構成の場合、20Jを超えるエネルギーを投入することができ、150mJの出力を得ることも可能である。
本実施形態では、特に偏光子17にノンコートのガラス板などをブリュースター角に配置した偏光子を用いている。ノンコートのガラス板は、高エネルギー密度のレーザでも破壊のおそれなく安定に使用することができる。本来、偏光子が必要ないアレキサンドライトレーザにおいてそのような偏光子17を用いることで、エネルギーの閉じ込めを飛躍的に向上させることができ、かつ異常発振の発生が抑制されるという劇的な効果が見られる。特に、出力側のミラー14の反射率を70%とし、共振器内の閉じ込めを強くした場合に、偏光子17なしで高出力・短パルスのパルスレーザ光を実現することは困難である。また、温度に対する許容幅も劇的に向上でき、室温レベルの変化ではQスイッチ16からの漏れ光も発生しなくなる。
本実施形態では、アレキサンドライト結晶で構成されるレーザロッド11が好ましくはロッド径4mm×ロッド長70mm以下、更に好ましくはロッド径3mm×ロッド長60mm以下で形成される。これほどまでに小体積の結晶を用いたアレキサンドライトレーザは前例がなく、非常に低コストでレーザ装置を実現できる。レーザロッド11を小体積化した場合、レーザロッド11のロッド長が短くなり、それに起因して偏光方向が所定の方向と直交した成分が増加する。この直交成分の光によって漏れ光が発生しやすくなり異常発振を誘引する。本実施形態では、偏光子17により直交成分の光を抑制できるため、漏れ光の発生を抑制でき、異常発振を抑制できる。
特許文献1との比較では、特許文献1は二波長発振のレーザ装置を開示しており、ブリュースター型偏光子は波長ごとに光路を分岐するための分岐手段として用いられている。これに対し、本実施形態ではブリュースター型の偏光子17は、レーザロッド11やQスイッチ16のARコートが破壊されることを防ぐために設けられており、特許文献1と本実施形態とでは、明らかにブリュースター型偏光子の使用目的が異なる。また、特許文献1においては、ノンコートのブリュースター型偏光子を用いることは記載されていない。
特許文献2については、Qスイッチの一部として偏光子(ポラライザ)が用いられる構成が記載されるのみである。小体積化したアレキサンドライト結晶を用いたレーザにおいて異常発振が起こり、それに起因してARコートなどの破壊が生じることは、特許文献2では一切議論されていない。特許文献2には、特に偏光子のタイプは限定されておらず、ブリュースター型偏光子を用いることで、レーザロッド11やQスイッチ16のARコートが破壊されることを防ぎ、レーザ装置を長期にわたって安定的に使用できることは記載されていない。
次いで、本発明の第2実施形態を説明する。本実施形態のレーザ装置は、図1に示す第1実施形態のレーザ装置10と同様な構成である。本実施形態のレーザ装置は、偏光子17に、ブリュースター型の薄膜偏光子、すなわち偏光方向が所定方向の光と偏光方向が所定の方向に直交する方向の光とを分離する膜(分離膜)を有するブリュースター型の偏光子を用いる点が第1実施形態のレーザ装置10と相違する。その他の点は第1実施形態と同様でよい。
図6は、本実施形態で用いられる偏光子17aを示す。偏光子17aは、ガラス板171と、分離膜172とを有する。ガラス板171は、石英ガラスやホウケイ酸ガラスなどガラス板である。石英ガラスとホウケイ酸ガラスでは、石英ガラスの方がレーザの透過率が高く、好適である。分離膜172は、ガラス板171に積層された誘電体膜などの膜であり、偏光方向が所定方向の光と、偏光方向が所定の方向に直交する方向の光とを分離する膜である。分離膜172により、偏光子17aを透過する光に含まれる、所定の方向に直交する成分の光が減少する。偏光子17aには、例えばLattice Electro Optics社製の製品名TP-800-B-1025を用いることができる。
図7は、投入エネルギーとQスイッチ16をオフに維持できる電圧範囲(ホールド・オフウィンドウ)との関係を示す。Qスイッチ16は、印加電圧0VのときがQスイッチオンに対応し、印加電圧がQスイッチ16を1/4波長板として働かせる電圧のときがQスイッチオフに対応する。同図には、偏光子17aが存在する場合の投入エネルギーとホールド・オフウィンドウとの関係と(黒丸のプロット)、偏光子17aが存在しない場合の投入エネルギーとホールド・オフウィンドウとの関係(白丸のプロット)とが描かれている。
偏光子17aが存在する場合と存在しない場合とを比較すると、同じ投入エネルギーに対して、偏光子17が存在する構成ではホールド・オフウィンドウの幅をかなり広く取れていることがわかる。例えば投入エネルギーが20Jのとき、偏光子17aが存在する構成では、ホールド・オフウィンドウの幅を2.5kV以上とすることができている。従って、偏光子17aが存在する構成とした場合、温度変化に起因してQスイッチ16を1/4波長板として働かせる電圧が変動したときでも、レーザを閉じ込めきれずにQスイッチ16から漏れだすことを抑制でき、温度変化に起因する異常発振を抑制することができる。異常発振を抑制することで、レーザロッド11やQスイッチ16のARコートなどの破壊を防止できる。
図8は、投入エネルギーと出力エネルギーとの関係を示す。ここでも、Qスイッチ16は、印加電圧0VのときがQスイッチオンに対応し、印加電圧がQスイッチ16を1/4波長板として働かせる電圧のときがQスイッチオフに対応する。レーザの出力エネルギーは、オフィールフォトニクスソリューションズ社製パイロエレクトリックセンサPE25BF-Cで測定した。同図には、偏光子17aが存在する場合の投入エネルギーと出力エネルギーとの関係と(黒丸のプロット)、偏光子17aが存在しない場合の投入エネルギーと出力エネルギーとの関係(白丸のプロット)とが描かれている。図7も参照すると、偏光子17aが存在しない構成の場合、Qスイッチ16をオフに維持できないことから入力エネルギーをあまり上げることができず、従って150mJの出力を得ることは困難である。一方、偏光子17aが存在する構成の場合、20Jを超えるエネルギーを投入することができ、150mJ以上の出力を得ることも可能である。
本実施形態では、偏光方向が所定方向の光と偏光方向がそれに直交する光とを分離する分離膜172を有するブリュースター型の偏光子17aを用いる。ブリュースター型の偏光子を用いることで異常発振を抑制してレーザロッド11やQスイッチ16のARコートの破壊を抑制できる点、及び、偏光子を用いない場合に比べて温度に対する許容幅を向上できる点は第1実施形態と同様である。
第1実施形態と第2実施形態とを比較すると、第2実施形態では分離膜172を有する偏光子17aを用いているため、第1実施形態に比べて、偏光子17aにより所定の方向に直交する成分の光を更に抑制でき、Qスイッチ16における漏れ光の発生を更に抑制できる。また、図4と図7を比較すると明らかなように、第1実施形態に比べて、温度に対する許容幅を更に向上することができる。
一方で、第2実施形態では偏光子17aが分離膜172を有しており、エネルギー密度が高くなりすぎると、この分離膜172が破壊されるおそれはある。これに対し、第1実施形態においてはノンコートのブリュースター型偏光子が用いられるため、高エネルギー密度の光により偏光子17に破壊が起こる可能性はほとんどない。また、レーザの出力エネルギーは、偏光子17aと、レーザロッド11、ミラー14、15、及びQスイッチ16などの光学部品との間の回転角度に応じて変化し得るが、第2実施形態において高いレーザの出力エネルギーが得られる回転角度の範囲は、第1実施形態における範囲に比べて狭くなる。すなわち、高いレーザの出力エネルギーが得られる最適な回転角度の調整範囲が狭い。さらに、分離膜を有しない偏光子17を用いる第1実施形態の方が、分離膜を有する偏光子17aを用いる第2実施形態よりもフラッシュランプへの投入エネルギーに対するレーザの出力エネルギーの効率は高い。
次いで、本発明の第3実施形態を説明する。図9は、本発明の第3実施形態に係るレーザ装置を示す。第3実施形態に係るレーザ装置10aは、レーザロッド11、フラッシュランプ12、レーザチャンバ13、ミラー14、15、Qスイッチ16、偏光子17、及びプリズム18を有する。レーザロッド11、フラッシュランプ12、レーザチャンバ13、ミラー14、15、Qスイッチ16、偏光子17、及びプリズム18は、箱状の筐体19の内部に配置される。図9では図示を省略するが、レーザ装置10aは、筐体19の内部の空間を外部から遮蔽する板状の遮蔽蓋も有している。なお、図9は、レーザ装置10aの構成要素を説明するための図であり、図9において構成要素間の空間的な位置関係は必ずしも正確に描かれていない。
レーザロッド11、フラッシュランプ12、レーザチャンバ13、ミラー14、15、Qスイッチ16、及び偏光子17は、第1実施形態又は第2実施形態で説明したものと同様でよい。図9に示すレーザ装置10aでは、Qスイッチ16は、レーザロッド11とミラー14との間の、レーザロッド11から誘導放出された光の光軸上に配置されている。また、偏光子17は、レーザロッド11とQスイッチ16との間の、レーザロッド11から誘導放出された光の光軸上に配置されている。
図9に示すレーザ装置10aでは、ミラー14は、筐体19の短手方向の側面に取り付けられ、ミラー15は、短手方向の側面と直交する筐体19の長手方向の側面に取り付けられている。レーザロッド11とミラー15との間にはプリズムが配置されており、レーザロッド11から出射した光はプリズム18で向きを変えてミラー15に向かう。プリズム18を省略し、光共振器内の光路を直線状にしてもよい。
レーザチャンバ13は、配管31、32を通じて冷却機器30に接続される。冷却機器30は、レーザロッド11及びフラッシュランプ12を冷却するための機器である。冷却機器30は、例えば純水などの冷却媒体を、配管31を通じてレーザチャンバ13に送り込む。冷却機器30は、配管32を通じてレーザチャンバ13からの排水を受け取り、冷却媒体の温度を下げた上で、再びレーザチャンバ13に送り込む。このように冷却媒体を循環させることで、レーザチャンバ13内のレーザロッド11の温度を所望の温度範囲に保つことができる。
レーザチャンバ13は、例えば金属材料から成る枠体を含む。レーザチャンバ13は、フラッシュランプ12を収容する第1の部分13aと、レーザロッド11を収容する第2の部分13bとを有する。第1の部分13aは、フラッシュランプ12の外径よりも径が大きな孔部を有しており、フラッシュランプ12は、その孔部を通してレーザチャンバ13に対して長手方向に抜き差し可能である。第2の部分13bは、レーザロッド11を内部に挿通する孔部を有する。第1の部分13aの長手方向の長さは、第2の部分13bの長手方向の長さよりも長い。第1の部分13aと第2の部分13bの長手方向の長さは同じでもよい。
ここで、レーザロッド11に用いるアレキサンドライト結晶を小体積化した場合、励起光を照射するフラッシュランプ(励起光源)12も小型化される。励起光源を小型化すると、励起光源の単位長さ当たりのエネルギー密度が高くなり、励起光源の端部で温度が著しく上昇する。この温度上昇に起因して、共振器内の光路において、暖められた空気による陽炎現象が発生すると、レーザの出力強度が大きく揺らぐことが判明した。本実施形態では、レーザの出力強度の揺らぎを抑制するために、共振器の光路が共振器の範囲内で密閉されている構造を採用する。
図10は、レーザ装置の中央付近の断面を示す。ミラー14やQスイッチ16、プリズム18などは筐体19に取り付けられる。また、レーザチャンバ13は、絶縁部材23を介して筐体19に取り付けられる。遮蔽蓋(遮蔽部)20は、筐体19を覆い、ミラー14、Qスイッチ16、偏光子、プリズム18、及びレーザロッドから出射した光ビームの光路を外部から遮蔽する。つまり、共振器の光路は、筐体19と遮蔽蓋とにより、共振器の範囲内で密閉される。遮蔽蓋20は、例えばポリカーボネート、ナイロン、ABS樹脂などの絶縁性を有する樹脂から成る。
レーザチャンバ13のうち、第1の部分13aは遮蔽蓋20から露出する。外部に露出した第1の部分13aには、フラッシュランプ12(図9を参照)の電極を絶縁するための絶縁ブロック22がOリングを介して取り付けられる。遮蔽蓋20は、第1の部分13aよりも長手方向外側で、レーザ光の光路を覆う領域のうちの少なくとも一部に、厚みが、遮蔽蓋20の他の部分の厚みよりも薄い薄膜部分21を有していてもよい。
絶縁ブロック22は、例えばABS樹脂やアセタール樹脂(POM)などの樹脂から成る。絶縁ブロック22は、レーザ装置の使用状態では、レーザチャンバ13にOリングを介してねじ止めされる。絶縁ブロック22は、フラッシュランプ12を交換するときは、レーザチャンバ13から取り外される。遮蔽蓋20は、レーザチャンバの第1の部分13aの端部から、レーザチャンバ13の長手方向に沿って、レーザ光の光軸を中心としたある範囲に薄膜部分21を有する。薄膜部分21は、遮蔽蓋20と同一部材である必要はなく、別部材であってもよい。
図10を参照すると、遮蔽蓋20のうち、絶縁ブロック22の下方に位置する部分は薄膜部分21となっている。遮蔽蓋20の薄膜部分21の厚みは例えば0.5mmであり、他の部分の厚みは6mmである。仮に、遮蔽蓋20の、レーザチャンバの第1の部分13aの端部と接触する部分の厚みが他の部分と同じ6mmであったとすると、薄膜部分21を設けた場合に比べ、薄膜部分21との厚みの差の分だけ、絶縁ブロック22及び第1の部分13aにおける孔部の位置が、レーザロッド11(図9を参照)から離れる方向に移動することになる。絶縁ブロック22及び第1の部分13aにおける孔部を移動させずに、薄膜部分21の厚みを通常の厚み(6mm)にすると、今度は遮蔽蓋20がレーザ光に干渉する。
レーザチャンバの第1の部分13aを遮蔽蓋20から露出させる場合、特に端部のOリングを取り付ける部分が遮蔽蓋20と干渉しやすい。遮蔽蓋20のうち、Oリングが取り付けられる部分を有するレーザチャンバ13の第1の部分13aの端部からある程度の範囲を薄膜部分21とした場合は、共振器内部の光学部材を露出させることなくフラッシュランプ12の交換を可能としつつも、遮蔽蓋20を一定の厚みとする場合に比べてレーザロッド11とフラッシュランプ12との間の距離を縮めることができる。従って、励起効率を向上させることができる。
ここで、遮蔽蓋20の全体の厚みを薄くすればレーザロッド11とフラッシュランプ12との間の距離を狭めることはできる。しかし、遮蔽蓋20の全てを薄膜部分21と同じ厚みとすると、遮蔽蓋20の強度が不足する。遮蔽蓋20のうちで、特に、レーザチャンバ13の第1の部分13aから延び、レーザ光の光路を覆う一部の領域の厚みを薄くすれば、全体的な強度を保ちつつ、レーザロッド11とフラッシュランプ12との間の距離を狭めることができる。
図11は、共振器の光路を密閉しない場合のレーザの出力強度の揺らぎを示すグラフである。グラフにおいて、縦軸はレーザの出力強度を示し、横軸は時間を示す。パルスレーザ光を10Hzの繰り返し周期で出射し、各パルスレーザ光の出力強度を測定してプロットすると、図11に示すグラフが得られた。共振器の光路を密閉せず、かつ、偏光子17を挿入しない場合は、図11に示すように、各回のレーザ発光の間で出力強度が大きく揺らぎ、レーザの出力強度が安定しない。レーザの出力強度の平均値Mは100mJであり、標準偏差σは7.69mJである。変動係数CV(Coefficient of variation)をσ/Mと定義すれば、その3倍である3CV(3σの平均値Mに対する割合)は23.1%となる。
図12は、共振器の光路を密閉した場合のレーザの出力強度の揺らぎを示すグラフである。このグラフにおいても、縦軸はレーザの出力強度を示し、横軸は時間を示す。また、パルスレーザ光の繰り返し周期は10Hzである。共振器の光路を密閉し、かつ偏光子17が挿入される場合は、図12に示すように、レーザの出力強度がほぼ100mJで一定となり、各回のレーザ発光の間でレーザの出力強度が安定している。レーザの出力強度の平均値Mは100mJであり、標準偏差σは0.57mJである。上記した3CVは1.7%となる。光路を密閉しない場合と比較すると、変動係数の3倍である3CVを23.1%から1.7%へ大きく改善できていることがわかる。光路を密閉することによってレーザの出力強度が安定する理由は、共振器において局所的に温度が高い個所が存在しても、急速な空気の流れがほとんど生じず、従って陽炎が発生することがないためと考えられる。
本実施形態では、共振器の光路が共振器の範囲内で密閉された構造を採用する。光路を密閉することで、フラッシュランプ12の端部で温度が上昇したときでも、レーザの出力強度が揺らぐ原因である陽炎現象を抑えることができる。本実施形態では、レーザロッド11を小体積化したことに伴い、フラッシュランプ12の単位長さ当たりのエネルギー密度が高くなった場合でも、陽炎の発生を抑えることができ、レーザの出力強度の揺らぎを抑えることができる。なお、本実施形態では、共振器の構成要素及び共振器の光路が密閉されていればよく、その密閉の構造は特に上記したものには限定されない。
引き続き、本発明のレーザ装置を含む光音響計測装置を説明する。図13は、レーザ装置10を含む光音響計測装置を示す。光音響計測装置100は、超音波探触子(プローブ)101と、超音波ユニット102と、レーザ装置(レーザユニット)103とを備える。なお、本発明の実施形態では、音響波として超音波を用いるが、超音波に限定されるものでは無く、被検対象や測定条件等に応じて適切な周波数を選択してさえいれば、可聴周波数の音響波を用いても良い。
レーザ装置10から出射したレーザ光は、例えば光ファイバなどの導光手段を用いてプローブ101まで導光され、プローブ101から被検体に向けて照射される。レーザ光の照射位置は特に限定されず、プローブ101以外の場所からレーザ光の照射を行ってもよい。
被検体内では、光吸収体が照射されたレーザ光のエネルギーを吸収することで超音波(音響波)が生じる。プローブ101は、音響波検出手段であり、例えば一次元的に配列された複数の超音波振動子を有している。プローブ101は、一次元配列された複数の超音波振動子により、被検体内からの音響波(光音響波)を検出する。また、プローブ101は、被検体に対する音響波(超音波)の送信、及び送信した超音波に対する被検体からの反射音響波(反射超音波)の受信を行う。
超音波ユニット102は、信号処理手段であり、受信回路121、AD変換手段122、受信メモリ123、データ分離手段124、光音響画像生成手段125、超音波画像生成手段126、画像合成手段127、制御手段128、及び送信制御回路129を有する。受信回路121は、プローブ101で検出された光音響波の検出信号を受信する。また、プローブ101で検出された反射超音波の検出信号を受信する。AD変換手段122は、受信回路121が受信した光音響波及び反射超音波の検出信号をデジタル信号に変換する。AD変換手段122は、例えば所定の周期のサンプリングクロック信号に基づいて、所定のサンプリング周期で光音響波及び反射超音波の検出信号をサンプリングする。AD変換手段122は、サンプリングした光音響波及び反射超音波の検出信号(サンプリングデータ)を受信メモリ123に格納する。
データ分離手段124は、受信メモリ123に格納された光音響波の検出信号のサンプリングデータと反射超音波の検出信号のサンプリングデータとを分離する。データ分離手段124は、光音響波の検出信号のサンプリングデータを光音響画像生成手段125に入力する。また、分離した反射超音波のサンプリングデータを、超音波画像生成手段(反射音響波画像生成手段)126に入力する。
光音響画像生成手段125は、プローブ101で検出された光音響波の検出信号に基づいて光音響画像を生成する。光音響画像の生成は、例えば、位相整合加算などの画像再構成や、検波、対数変換などを含む。超音波画像生成手段126は、プローブ101で検出された反射超音波の検出信号に基づいて超音波画像(反射音響波画像)を生成する。超音波画像の生成も、位相整合加算などの画像再構成や、検波、対数変換などを含む。
画像合成手段127は、光音響画像と超音波画像とを合成する。画像合成手段127は、例えば光音響画像と超音波画像とを重畳することで画像合成を行う。合成された画像は、ディスプレイなどの画像表示手段103に表示される。画像合成を行わずに、画像表示手段103に、光音響画像と超音波画像とを並べて表示し、或いは光音響画像と超音波画像とを切り替えてすることも可能である。
制御手段128は、超音波ユニット102内の各部を制御する。制御手段128は、例えばレーザ装置にトリガ信号を送る。レーザ装置10内の図示しない駆動手段は、トリガ信号を受け取ると、フラッシュランプ12を点灯し、その後、Qスイッチ16への印加電圧を第2の電圧から第1の電圧に切り替えてパルスレーザ光を出射させる。制御手段128は、レーザ光の照射に合わせて、AD変換手段122にサンプリングトリガ信号を送り、光音響波のサンプリング開始タイミングを制御する。
制御手段128は、超音波画像の生成時は、送信制御回路129に超音波送信を指示する旨の超音波送信トリガ信号を送る。送信制御回路129は、超音波送信トリガ信号を受けると、プローブ101から超音波を送信させる。制御手段128は、超音波送信のタイミングに合わせてAD変換手段122にサンプリングトリガ信号を送り、反射超音波のサンプリングを開始させる。
上記では、光音響計測装置100においてプローブ101が光音響波と反射超音波の双方を検出するものとして説明したが、超音波画像の生成に用いるプローブと光音響画像の生成に用いるプローブとは、必ずしも同一である必要はない。光音響波と反射超音波とを、それぞれ別個のプローブで検出するようにしてもよい。また、上記実施形態では、レーザ装置が光音響計測装置の一部を構成する例について説明したが、これには限定されない。本発明のレーザ装置を、光音響計測装置とは異なる装置に用いることも可能である。
以上、本発明をその好適な実施形態に基づいて説明したが、本発明のレーザ装置及び光音響計測装置は、上記実施形態にのみ限定されるものではなく、上記実施形態の構成から種々の修正及び変更を施したものも、本発明の範囲に含まれる。
10:レーザ装置
11:レーザロッド
12:フラッシュランプ
13:レーザチャンバ
13a:第1の部分
13b:第2の部分
14、15:ミラー
16:Qスイッチ
17:偏光子
18:プリズム
19:筐体
20:遮蔽蓋
21:薄膜部分
22:絶縁ブロック
23:絶縁部材
30:冷却機器
31、32:配管
100:光音響計測装置
101:プローブ
102:超音波ユニット
103:画像表示手段
121:受信回路
122:AD変換手段
123:受信メモリ
124:データ分離手段
125:光音響画像生成手段
126:超音波画像生成手段
127:画像合成手段
128:制御手段
129:送信制御回路
171:ガラス板
172:分離膜

Claims (13)

  1. アレキサンドライト結晶を含むレーザロッドと、
    前記レーザロッドに励起光を照射する励起光源と、
    前記レーザロッドを挟み込む一対のミラーを含む共振器と、
    前記共振器の光路内に挿入され、前記共振器のQ値を制御するQスイッチと、
    前記レーザロッドと前記Qスイッチとの間及び前記レーザロッドと前記一対のミラーのうちの一方との間の少なくとも一方に挿入され、前記レーザロッドから出射した光のうち偏光方向が所定方向の光を選択的に透過するノンコートのブリュースター型の偏光子とを備え、
    前記Qスイッチがポッケルスセルを含み、該ポッケルスセルへの印加電圧が第1の電圧のとき、前記共振器のQ値がレーザ発振しきい値より高くなり、印加電圧が前記第1の電圧よりも高い第2の電圧のとき、前記共振器のQ値がレーザ発振しきい値以下となり、
    投入エネルギーが20Jのとき、前記第2の電圧の範囲が0.5kV以上であることを特徴とするレーザ装置。
  2. 前記共振器の光路は、該共振器の範囲内において密閉される請求項1記載のレーザ装置。
  3. 前記レーザロッド及び前記Qスイッチの少なくとも一方が、光入射端に反射防止膜を有する請求項1又は2記載のレーザ装置。
  4. 前記第1の電圧が0Vであり、前記第2の電圧が前記ポッケルスセルを1/4波長板として働かせる電圧である請求項1から3いずれか1項記載のレーザ装置。
  5. 前記偏光子が、前記レーザロッドから出射した光の光軸に対してブリュースター角で配置されたガラス板で構成される請求項1からいずれか1項記載のレーザ装置。
  6. 投入エネルギーが20Jのとき、レーザの出力エネルギーが140mJ以上である請求項1からいずれか1項記載のレーザ装置。
  7. 前記偏光子が、前記レーザロッドと前記一対のミラーのうちの出力側のミラーとの間に挿入される請求項1からいずれか1項記載のレーザ装置。
  8. 前記偏光子が、前記レーザロッドと前記Qスイッチとの間及び前記レーザロッドと前記一対のミラーのうちの一方との間の双方に挿入される請求項1からいずれか1項記載のレーザ装置。
  9. アレキサンドライト結晶を含むレーザロッドと、
    前記レーザロッドに励起光を照射する励起光源と、
    前記レーザロッドを挟み込む一対のミラーを含む共振器と、
    前記共振器の光路内に挿入され、前記共振器のQ値を制御するQスイッチと、
    前記レーザロッドと前記Qスイッチとの間及び前記レーザロッドと前記一対のミラーのうちの一方との間の少なくとも一方に挿入され、前記レーザロッドから出射した光のうち偏光方向が所定方向の光を選択的に透過する偏光子ブリュースター型の偏光子であって、偏光方向が前記所定方向の光と偏光方向が前記所定方向と直交する方向の光とを分離する膜を有するブリュースター型の偏光子とを備え、
    前記Qスイッチがポッケルスセルを含み、該ポッケルスセルへの印加電圧が第1の電圧のとき、前記共振器のQ値がレーザ発振しきい値よりも高くなり、印加電圧が前記第1の電圧よりも高い第2の電圧のとき、前記共振器のQ値がレーザ発振しきい値以下となり、
    投入エネルギーが20Jのとき、前記第2の電圧の範囲が2.5kV以上であることを特徴とするレーザ装置。
  10. 投入エネルギーが20Jのとき、レーザの出力エネルギーが140mJ以上である請求項記載のレーザ装置。
  11. 前記一対のミラーを構成する出力ミラーの反射率が70%以上である請求項1から10いずれか1項記載のレーザ装置。
  12. 前記レーザロッドの長さが、70mm以下である請求項1から11いずれか1項記載のレーザ装置。
  13. 請求項1から12いずれか1項記載のレーザ装置と、
    前記レーザ装置から出射したレーザ光が被検体に照射された後に被検体内で生じた光音響波を検出する光音響波検出手段と、
    前記検出された光音響波に基づいて信号処理を実施する信号処理手段とを備えたことを特徴とする光音響計測装置。
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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6254887B2 (ja) * 2014-03-28 2017-12-27 富士フイルム株式会社 固体レーザ装置及び光音響計測装置
WO2017130806A1 (ja) 2016-01-26 2017-08-03 富士フイルム株式会社 レーザ装置
JP6595703B2 (ja) * 2016-03-30 2019-10-23 富士フイルム株式会社 レーザ装置および光音響計測装置
CN108886230B (zh) * 2016-03-30 2020-10-20 富士胶片株式会社 激光装置及光声测量装置
JP6689968B2 (ja) 2016-05-27 2020-04-28 富士フイルム株式会社 固体レーザ装置
WO2018096770A1 (ja) * 2016-11-25 2018-05-31 富士フイルム株式会社 光音響計測装置
CN106769878B (zh) * 2016-12-12 2023-10-03 福建工程学院 一种基于光声光谱的中药汤剂成分检测方法及装置
US20180224651A1 (en) 2017-02-06 2018-08-09 Sheltered Wings, Inc. D/B/A Vortex Optics Viewing Optic with an Integrated Display System
US11675180B2 (en) 2018-01-12 2023-06-13 Sheltered Wings, Inc. Viewing optic with an integrated display system
US11966038B2 (en) 2018-03-20 2024-04-23 Sheltered Wings, Inc. Viewing optic with a base having a light module
JP6964759B2 (ja) * 2018-03-29 2021-11-10 富士フイルム株式会社 多波長レーザ装置及び光音響計測装置
KR102680240B1 (ko) 2018-08-08 2024-07-02 쉘터드 윙스, 인크. 디/비/에이 보텍스 옵틱스 시야 광학체를 위한 디스플레이 시스템
CN112886377A (zh) * 2019-11-29 2021-06-01 山东大学 一种590nm波段拉曼倍频光源泵浦的翠绿宝石连续可调谐激光器
CN114674257A (zh) * 2022-03-31 2022-06-28 中国空气动力研究与发展中心计算空气动力研究所 一种基于超声横波探测的高精度测厚方法及装置

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5036359B2 (ja) * 1972-11-06 1975-11-22
JPS5824030B2 (ja) * 1978-10-20 1983-05-18 アライド・コ−ポレ−シヨン 波長を広く整調しうるレ−ザ
JPS59104558A (ja) 1982-12-08 1984-06-16 Fuji Electric Co Ltd 印字式電力量記録装置
JPS59104558U (ja) * 1982-12-29 1984-07-13 三菱電機株式会社 パルスレ−ザ装置
JPS61168979A (ja) * 1985-01-22 1986-07-30 Mitsubishi Electric Corp パルスレ−ザ装置
US4882235A (en) * 1988-03-02 1989-11-21 Raytheon Company Liquid crystal cell window
US4837769A (en) * 1989-02-01 1989-06-06 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Phase conjugated slab laser designator
ATE124465T1 (de) * 1990-01-11 1995-07-15 Battelle Memorial Institute Verbesserung von materialeigenschaften.
US5142548A (en) * 1990-04-13 1992-08-25 Allied-Signal Inc. Broadband tuning and laser line narrowing utilizing birefringent laser hosts
JPH04242984A (ja) * 1990-09-19 1992-08-31 Tosoh Corp 固体レーザー発振器
US5204867A (en) * 1991-06-10 1993-04-20 Laser Photonics, Inc. Method and apparatus to dynamically control the resonator gain of a laser
JP2814813B2 (ja) * 1992-01-27 1998-10-27 三菱電機株式会社 Qスイッチレーザ
JPH07318996A (ja) 1994-03-28 1995-12-08 Matsushita Electron Corp 波長変換導波路型レーザ装置
JP2001230479A (ja) * 2000-02-14 2001-08-24 Shimadzu Corp 半導体レーザ励起固体レーザ
US8326388B2 (en) * 2002-10-31 2012-12-04 Toshiba Medical Systems Corporation Method and apparatus for non-invasive measurement of living body characteristics by photoacoustics
CN2645301Y (zh) * 2003-03-19 2004-09-29 党治平 “非选择性吸收”红外调q激光医学研究应用装置
JP4891526B2 (ja) * 2004-01-23 2012-03-07 ミヤチテクノス株式会社 レーザ溶接装置
JP2005268415A (ja) * 2004-03-17 2005-09-29 Mitsubishi Electric Corp Qスイッチ制御方法
GB0515883D0 (en) * 2005-08-02 2005-09-07 Geola Technologies Ltd Stabilized laser cavity
JP5086677B2 (ja) 2006-08-29 2012-11-28 ギガフォトン株式会社 極端紫外光源装置用ドライバーレーザ
CN101022203A (zh) * 2007-03-13 2007-08-22 中国科学院上海光学精密机械研究所 双电光调QNd:YAG激光器
JP2009218232A (ja) * 2008-03-06 2009-09-24 Sony Corp レーザ光源装置及びこれを用いた画像生成装置
JP5348917B2 (ja) 2008-03-21 2013-11-20 富士フイルム株式会社 レーザ装置及び顕微鏡
JP2010258198A (ja) 2009-04-24 2010-11-11 Fujifilm Corp モード同期固体レーザ装置
CN102389321B (zh) * 2011-06-23 2013-04-03 深圳市开立科技有限公司 一种快速光声三维成像装置
WO2013008772A1 (ja) 2011-07-11 2013-01-17 株式会社ブイ・テクノロジー パルスレーザ発振器及びパルスレーザ発振制御方法
CN202260121U (zh) * 2011-09-22 2012-05-30 西安炬光科技有限公司 一种多波长高功率半导体激光器光源系统
JP2013074180A (ja) 2011-09-28 2013-04-22 Fujifilm Corp 固体レーザ発振器およびそれに用いられるレーザチャンバ並びにレーザを利用した装置
JP2013089680A (ja) * 2011-10-14 2013-05-13 Canon Inc レーザー装置およびその制御方法
JP2013111432A (ja) * 2011-12-01 2013-06-10 Fujifilm Corp 光音響画像生成装置および光音響画像生成方法

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