JP5348917B2 - レーザ装置及び顕微鏡 - Google Patents

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Description

本発明はレーザ装置及び顕微鏡に係り、特に、共振器内に、励起手段からの励起光を受けて発光する固体レーザ媒質を備えたレーザ装置及び顕微鏡に関する。
従来、Ti:SやCr:BeAl、Cr:LiSAFなどの遷移金属イオンを添加した固体レーザ媒質は、100nm以上の非常に広い蛍光帯域を有しており、波長可変レーザや超短パルスレーザ用の固体レーザ媒質として頻繁に使用されている。
これらの遷移金属イオン添加固体レーザ媒質は、可視の波長領域に大きな吸収を持っており、Ti:Sを添加した固体レーザ媒質(Ti:Sレーザ)においては、アルゴンレーザ(波長:488nm〜514nm)やNd:YVOの基本波(波長:1064nm)の2倍波(波長:532nm)を発振する固体レーザによって励起される。
しかしながら、これらの励起光源は大型かつ高価であるために、Ti:Sレーザの大型化、高価格化の大きな要因となっている。一方、Cr:BeAl、Cr:LiSAFなどのCr3+イオンをドープした固体レーザ媒質は、650nm近辺の波長領域に大きな吸収ピークを有し、DVD用の赤半導体レーザでの励起が可能である。例えば、特許文献1には、遷移金属イオン添加固体レーザ媒質を可視光域の半導体レーザで励起する技術が開示されている。
従って、これらの固体レーザ媒質を用いることにより、小型かつ安価な波長可変レーザや超短パルスレーザが実現できる。
しかしながら、DVD用の赤半導体レーザは、現状では出力は300mW程度が限界であり、DVD用としてはこの程度の出力で十分であるため、今後の出力増加を期待することはできない。そのため、赤半導体レーザ励起によるCr3+イオン添加固体レーザ媒質波長可変レーザや超短パルスレーザでは出力に限界があった。
Cr3+イオンをドープした固体レーザ媒質は、可視の波長領域において2つないしは3つの大きな吸収ピークを有しており、500nm以下の波長領域においても吸収ピークが存在する。これらの領域は、近年高出力化が進んでいるGaN半導体レーザの波長と一致している。従って、この高出力なGaN半導体レーザを用いることで高出力な波長可変レーザや超短パルスレーザが可能となるが、このようなレーザ装置は未だ提案されていない。
ところで、例えば特許文献2には、励起光と発振光の偏光を交差させ、励起光の偏光方向を吸収が大きくなる方向に、発振光の偏光方向を蛍光の帯域が広くなる方向に構成することで、効率よく広帯域なレーザ発振を行う技術が開示されている。
米国特許第6009114号明細書 特開2007−281388号公報
しかしながら、上記特許文献2記載の技術では、可視光域の半導体レーザを励起光源として用いるものではないため、上記のGaN半導体レーザを励起光源として用いることはできず、高出力な波長可変レーザや超短パルスレーザを構成するのは困難である。
本発明は上記事実を考慮して成されたもので、可視光域の励起光源を用いた高出力なレーザ装置及び顕微鏡を得ることが目的である。
上記目的を達成するために請求項1記載の発明に係るレーザ装置は、共振器と、前記共振器内に配置され、励起光が入射されることにより第1の結晶軸であるC軸に平行な方向に偏光した直線偏光光を発振光として出力する固体レーザ媒質と、青色領域の波長の直線偏光光で且つ偏方向が前記固体レーザ媒質の前記第1の結晶軸と直交する第2の結晶軸に平行な方向である青色励起光を前記励起光として前記固体レーザ媒質に入射させる励起手段と、を備え、前記固体レーザ媒質における、前記青色励起光の偏光方向についての前記青色励起光の吸収強度のピークが、前記青色励起光の偏光方向についての赤色領域の波長を有する赤色励起光の吸収強度のピークよりも大きく、かつ、前記第1の結晶軸に平行な方向についての前記青色励起光の吸収強度のピークよりも大きいことを特徴とする。
この発明によれば、励起手段は、可視光領域である青色領域の波長の直線偏光光で且つ偏方向が固体レーザ媒質の第1の結晶軸と直交する第2の結晶軸に平行な方向である青色励起光を励起光として固体レーザ媒質に入射させる。固体レーザ媒質は、励起手段からの励起光が入射されることにより第1の結晶軸であるC軸に平行な方向に偏光した直線偏光光を発振光として出力する。
そして、固体レーザ媒質における、青色励起光の偏光方向についての青色励起光の吸収強度のピークが、青色励起光の偏光方向についての赤色領域の波長を有する赤色励起光の吸収強度のピークよりも大きく、かつ、第1の結晶軸に平行な方向についての青色励起光の吸収強度のピークよりも大きい構成としている。
このため、例えば請求項6にも記載したように、前記励起手段が、GaNから成る半導体レーザを含む構成とすることができ、低価格でかつ小型の高出力なレーザ装置を得ることができる。
なお、青色領域の波長は、例えば350nm〜500nmの領域の波長であり、所定の発振波長帯域は、例えば700nm〜1000nmの領域の波長である。また、第1の結晶軸に平行な方向とは、略平行な方向も含む概念である。
また、請求項2に記載したように、記固体レーザ媒質における、前記青色励起光の偏光方向についての前記青色励起光の吸収強度のピークが、各結晶軸についての前記青色励起光の吸収強度のピークのうち最大値を示すものである構成とすることが好ましい。
また、請求項3に記載したように、前記固体レーザ媒質が、Cr3+イオンが添加された固体レーザ媒質であることが好ましい。
また、請求項4に記載したように、前記固体レーザ媒質が、アレキサンドライト(Cr:BeAl)、Cr:LiCAF(LiCaAlF)、Cr:LiSAF(LiSrAlF)、及びCr:LiSGAF(LiSrGaF)の何れかであることが好ましい。
また、請求項5に記載したように、前記青色励起光の波長が、基底準位から準位への励起吸収波長と一致することが好ましい。
また、請求項6に記載したように、前記励起手段が、GaNから成る半導体レーザを含むことが好ましい。
また、請求項7に記載したように、前記共振器内に、前記発振光の発振波長を制御する波長制御素子が配置された構成としてもよい。
また、請求項8に記載したように、前記共振器内に、モード同期を誘起するためのモード同期素子が配置された構成としてもよい。
また、請求項9に記載したように、前記モード同期素子が、半導体可飽和吸収ミラーデバイスである構成としてもよい。
請求項10記載の発明の顕微鏡は、前記請求項1〜請求項9の何れか1項に記載のレーザ装置と、前記レーザ装置からのレーザ光を測定対象物に集光して照射する光学系と、前記測定対象物からの戻り光を集光して検出する検出手段と、を備えたことを特徴とする。
この発明によれば、光源を請求項1〜請求項9の何れか1項に記載のレーザ装置とするので、低価格で且つ小型の顕微鏡とすることができる。
以上説明したように本発明は、可視光域の励起光源を用いた高出力なレーザ装置を得ることができる、という優れた効果を有する。
以下、図面を参照して本発明の実施形態の一例を詳細に説明する。
(第1実施形態)
まず、本発明の第1実施形態について説明する。
前述したように、Cr3+イオンをドープした固体レーザ媒質は、可視の波長領域において2つないしは3つの大きな吸収ピークを有しており、500nm以下の波長領域においても吸収ピークが存在するため、発振波長が一致する高出力なGaN半導体レーザを用いることにより高出力な波長可変レーザや超短パルスレーザが可能となる。
本発明者は、GaN半導体レーザを励起光源として用いる場合は、下記の理由により、赤半導体レーザによる励起とは異なる励起構成とすることにより、効率よく(高出力に)レーザ発振を行うことが可能となることを見出した。
図1には、Cr:LiSAFの蛍光/吸収スペクトルを示した。同図の上側のグラフは、結晶軸のc軸(第1の結晶軸)と平行な方向における波長と吸収断面積及び蛍光断面積との関係を、同図の下側のグラフは、c軸と直交する方向における波長と吸収断面積(吸収強度)及び蛍光断面積(蛍光強度)との関係を示しており、蛍光スペクトルを破線で、吸収スペクトルを実線で示している。
図1に示すように、蛍光スペクトルでは、c軸に平行な方向において最も大きな蛍光強度を示している。一方、吸収スペクトルにおいては、赤半導体レーザの発振波長帯域である650nm近辺(基底準位から準位バンドへの励起)の吸収強度は、c軸に平行な方向において最も大きな値を示しているのに対し、GaN半導体レーザの発振波長帯域である450nm近辺(基底準位から準位バンドへの励起)では、c軸に垂直な方向において最も大きな吸収強度を示している。これらのことから、GaN半導体レーザによりCr3+イオン添加固体レーザ媒質の励起を行う場合、発振光の偏光方向はc軸に平行な方向に、励起光の偏光方向はc軸に垂直な方向とすることで、効率よく発振を行うことが可能となる。
図2には、本実施形態に係るレーザ装置10の概略構成を示した。
レーザ装置10は、一例として波長445nm、出力500mWのGaN半導体レーザ1(例えば日亜化学工業社製、型番:NDB7112E)と集光レンズ2(例えばアルプス電気株式会社製の青紫レーザ用ファイバーFiber結合レンズ)から成る励起光学系を備えている。
また、レーザ装置10は、ダイクロイックミラー3と出力ミラー5とから成る共振器を備え、この共振器内に固体レーザ媒質4が配置された構成となっている。固体レーザ媒質4は、本実施形態では一例としてCr:LiSAF結晶であるが、これに限らず、アレキサンドライト(Cr:BeAl)、Cr:LiCAF(LiCaAlF)、及びCr:LiSGAF(LiSrGaF)の何れかでもよい。これらは、Cr:LiSAFと略同様の蛍光/吸収スペクトル特性となる。
ダイクロイックミラー3は、445nm±5nmの波長の光に対して反射率が5%以下、800nm〜900nmの波長の光に対して反射率が99%以上となるようなダイクロイックコーティングが施されている。
固体レーザ媒質4は、一例としてCrが3%添加された結晶長2.5mmの結晶が使用され、両端面には445nm±5nmの波長領域の光に対して反射率が5%以下、800nm〜900nmの波長の光に対して反射率が0.2%以下となるような反射防止コートが施されており、結晶のc軸が図2のx軸と平行となるように共振器内に配置されている。
また、固体レーザ媒質4は、一例として図示しないペルチェ素子によって温調された図示しない銅ホルダによる固定されており、約15°Cに温調される。
出力ミラー5は、一例として曲率半径が50mmであり、凹面側に800nm〜900nmの波長の光に対して反射率が98.5%となるようなコーティングが施されており、凹面と反対側の平面側には、800nm〜900nmの波長の光に対して反射率が0.1%以下となるような反射防止コーティングが施されている。
前記励起光学系は、GaN半導体レーザ1から出射される励起光の偏光方向が図2のy軸(第2の結晶軸)に平行になるように配置されており、波長が445nmの励起光の吸収が最も大きくなるc軸と垂直な結晶軸において励起光を吸収させるような構成となっている。
一方、固体レーザ媒質4から出射される発振光の偏光方向は、蛍光強度が最も強いc軸方向に平行な方向となり、励起光とは直交する方向、すなわち図2のx軸に平行な方向となっている。
このように、本実施形態に係るレーザ装置10によれば、可視光域の励起光源であるGaN半導体レーザ1を用いた高出力なレーザ装置とすることができる。
このようなレーザ装置10では、例えばGaN半導体レーザ1から出射される励起光の出力500mWに対して、波長850nm、出力110mWのレーザ光の出力を得ることができる。
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態について説明する。なお、第1実施形態と同一部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
図3には、本実施形態に係るレーザ装置20の概略構成を示した。レーザ装置20が図2のレーザ装置10と異なるのは、レーザ装置20では、固体レーザ媒質4と出力ミラー5との間に一例として厚みが100μmの石英板6が設けられている点、出力ミラー5の凹面側に施されたコーティングが、800nm〜900nmの波長の光に対して反射率が99.5%となるようなコーティングである点である。
このような構成のレーザ装置20では、石英板6を図3において矢印A方向に回転させて角度を調節することによりレーザ装置20から出力されるレーザ光の発振波長を制御することができる。すなわち、石英板6は波長制御素子として機能するため、所望の波長となるように石英板6の角度を調節することにより、所望の波長のレーザ光を出力することができる。
上記構成のレーザ装置20によれば、一例として、発振波長が800nm〜900nmとなるように石英板6の角度を調節し、30mW以上の発振出力を得ることができる。
なお、本実施形態に係るレーザ装置20では、波長制御素子として、石英板6のようなエタロンを用いたが、エタロンの代わりに複屈折フィルターを用いることにより、共振器光軸の変動なしに波長制御を行うようにしてもよい。
(第3実施形態)
次に、本発明の第3実施形態について説明する。なお、第1実施形態と同一部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
図4には、本実施形態に係るレーザ装置30の概略構成を示した。レーザ装置20が図2のレーザ装置10と異なるのは、レーザ装置30では、出力ミラー5に代えて、共振器ミラー7、8、半導体可飽和吸収ミラー9を備えた点である。
レーザ装置30は、ダイクロイックミラー3、共振器ミラー7、8、及び半導体可飽和吸収ミラー9により共振器が構成され、共振器は、一例として共振器長1.5mのZ型共振器構造となっている。
共振器ミラー7、8は、曲率半径が100mm、凹面側に800nm〜900nmの波長の光に対して反射率が99.9%となるようなコーティングが施されており、凹面側と反対側の平面側には、800nm〜900nmの波長の光に対して反射率が0.1%以下となるような反射防止コーティングが施されている。
半導体可飽和吸収ミラー9は、モード同期を誘起するためのモード同期誘起素子として機能し、例えば変調深さ0.5%、飽和フルーエンス200μJ/cmの半導体可飽和吸収ミラー(BATOP社製)を用いることができる。
このような構成のレーザ装置30は、モード同期レーザーとして機能させることができ、一例として、パルス幅5ps、共振器ミラー7、8から出力される全てのビームを合計した平均出力50mW、繰り返し周波数100MHz、発振波長820nmのパルス光を得ることができる。
なお、レーザ装置30の上記共振器内にプリズム又は分散補償ミラーなどの分散補償素子を配置するようにしてもよい。このような構成とすることにより、1ps以下の超短パルス光を得ることができる。
(第4実施形態)
次に、本発明の第4実施形態について説明する。なお、上記各実施形態と同一部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
図5には、本実施形態に係るレーザ装置40の概略構成を示した。レーザ装置40が図2のレーザ装置10と異なるのは、レーザ装置40では、ダイクロイックミラー3及び出力ミラー5に代えて、半導体可飽和吸収ミラー9、ダイクロイックミラー11、及び分散補償ミラー5Aを備えた点である。
レーザ装置40では、半導体可飽和吸収ミラー9及び分散補償ミラー5Aにより共振器構成されている。そして、この共振器内に、GaN半導体レーザ1及び集光レンズ2からの励起光を固体レーザ媒質4の方向へ折り返すためのダイクロイックミラー11が配置された構成となっている。
分散補償ミラー5Aは、図2の出力ミラー5と同様の形状であり、凹面側に分散量が0〜−1500fs、反射率が99%の高反射コートが、凹面側と反対側の平面側に800nm〜900nmの波長の光に対して反射率が0.2%以下となるようなコーティングが施されている。
ダイクロイックミラー11は、共振器の光軸に対してブリュースタ角となるように配置されており、固体レーザ媒質4側の端面に、445nm±5nmの波長の光に対して反射率が95%以上となるような高反射コート及び800nm〜900nmの波長の光に対して反射率が0.2%以下となるようなコーティングが施されている。
このダイクロイックミラー11により、レーザ装置40のような共振器構造においても、短レンズでの励起光の集光が可能となり、励起光学系の簡素化が可能となる。
また、レーザ装置40のような構成とすることにより、必要最低限の部品を用いた低価格でかつ小型の、パルス幅1ps以下、波長800〜900nmの超短パルスレーザを構成することができる。
(第5実施形態)
次に、本発明の第5実施形態について説明する。なお、上記各実施形態と同一部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
図6には、本実施形態に係る多光子顕微鏡装置50の概略構成を示した。多光子顕微鏡装置50は、第4実施形態で説明したレーザ装置40を備えている。なお、レーザ装置40に代えてレーザ装置10、20、30を備えた構成としてもよい。
レーザ装置40から出射されたレーザ光は、コリメートレンズ12を通過した後に、出力変調器13により、画像取得にとって最適な出力に調整される。
出力変調器13は、λ/2板及び偏光子で構成したり、可変NDフィルターにより構成したりすることができる。
出力変調器13を通過したレーザ光は、2枚のレンズから成るビーム拡大光学系14により、ビーム径が対物レンズ17の瞳程度の大きさに拡大される。
ビーム拡大光学系14により拡大されたレーザ光は、レーザ光の焦点を面内方向に掃引するためのガルバノミラー15により、ダイクロイックミラー16側へ反射される。そして、ダイクロイックミラー16により反射されたレーザ光は、対物レンズ17により集光されてサンプル(測定対象物)18上に照射される。
サンプル18からの蛍光(戻り光)は、対物レンズ17及びダイクロイックミラー16を通過した後に、集光レンズ19によりPMT(Photo Multiplier Tubes)20に集光され検出される。
ガルバノミラー15によって集光スポットを掃引すると同時に蛍光を取得することにより画像の検出が可能であり、さらにサンプル18がセットされたステージを深さ方向に変化させて画像を取得することにより、3次元の画像を取得することが可能となる。
従来の多光子顕微鏡では、Ti:Sが光源として用いられていたため、顕微鏡装置の価格が数千万円もする高価なものであり、大きさも光学定盤一台程度のものとなっていた。
これに対し、第4実施形態で説明した低価格でかつ小型なレーザ装置40を用いることにより、低価格でかつコンパクトな多光子顕微鏡を提供することができる。また、多光子顕微鏡に限らず、SHG顕微鏡やCARS顕微鏡等の非線形光学顕微鏡においても、レーザ装置40を用いることにより、低コスト化及び小型化が可能となる。
なお、第3実施形態で説明したレーザ装置30、第4実施形態で説明したレーザ装置40では、モード同期誘起素子として半導体可飽和吸収ミラー9を用いた場合について説明したが、レーザ媒質等による非線形屈折率を利用したカーモード同期を誘起するような共振器構成として、超短パルス光を生成するようにしてもよい。
また、AOM(Acoustic Optical Modulator)やEOM(Electric Optical Modulator)等の光変調素子を共振器内に配置することにより、アクティブにモード同期を誘起する構成としてもよい。
さらに、レーザ装置30、40内に、エタロンや複屈折フィルター等の波長制御素子を配置することにより、波長可変の超短パルス光を得る構成としてもよい。
上記各実施形態においては、高出力のGaN半導体レーザを用いた構成としているため、従来の赤半導体レーザでは得ることのできない高出力なレーザ光を得ることができる。
また、上記各実施形態においては、445nmの励起光で固体レーザ媒質4(Cr:LiSAF)を励起する場合について説明したが、Cr:LiSGAF及びCr:LiCAFにおいても、430〜450nmの波長のレーザ光で励起することにより、効率の良いレーザ発振を行うことができる。
また、Cr:YGG(YGa12)、Cr:YSGG(KScGa12)、Cr:GGG(GdGa12)、Cr:GSGG(GaScGa12)、Cr:GSAG(GdScAl12)、Cr:LLGG(LaLuGa12)においては、470nm〜430nmの波長のレーザ光で励起することにより、効率の良いレーザ発振を行うことができる。
さらに、アレキサンドライト(Cr:BeAl)においては、400〜440nmの波長の励起光であって偏光方向がa軸に平行な励起光により励起し、a軸と直交するb軸に平行な発振光で発振させる構成とすることにより、効率の良いレーザ発振を行うことが可能である。
Cr:LiSAFの蛍光/吸収スペクトルを示す線図である。 第1実施形態に係るレーザ装置の概略構成図である。 第2実施形態に係るレーザ装置の概略構成図である。 第3実施形態に係るレーザ装置の概略構成図である。 第4実施形態に係るレーザ装置の概略構成図である。 第5実施形態に係る多光子顕微鏡装置の概略構成図である。
符号の説明
1 半導体レーザ
2、19 集光レンズ
3、11、16 ダイクロイックミラー
4 固体レーザ媒質
5 出力ミラー
5A 分散補償ミラー
6 石英板
7 共振器ミラー
9 半導体可飽和吸収ミラー
10、20、30、40 レーザ装置
12 コリメートレンズ
13 出力変調器
14 ビーム拡大光学系
15 ガルバノミラー
17 対物レンズ
18 サンプル
50 多光子顕微鏡装置

Claims (10)

  1. 共振器と、
    前記共振器内に配置され、励起光が入射されることにより第1の結晶軸であるC軸に平行な方向に偏光した直線偏光光を発振光として出力する固体レーザ媒質と、
    青色領域の波長の直線偏光光で且つ偏方向が前記固体レーザ媒質の前記第1の結晶軸と直交する第2の結晶軸に平行な方向である青色励起光を前記励起光として前記固体レーザ媒質に入射させる励起手段と、
    を備え、
    前記固体レーザ媒質における、前記青色励起光の偏光方向についての前記青色励起光の吸収強度のピークが、前記青色励起光の偏光方向についての赤色領域の波長を有する赤色励起光の吸収強度のピークよりも大きく、かつ、前記第1の結晶軸に平行な方向についての前記青色励起光の吸収強度のピークよりも大きい
    ことを特徴とするレーザ装置。
  2. 記固体レーザ媒質における、前記青色励起光の偏光方向についての前記青色励起光の吸収強度のピークが、各結晶軸についての前記青色励起光の吸収強度のピークのうち最大値を示すものであることを特徴とする請求項1記載のレーザ装置。
  3. 前記固体レーザ媒質が、Cr3+イオンが添加された固体レーザ媒質であることを特徴とする請求項1又は請求項2記載のレーザ装置。
  4. 前記固体レーザ媒質が、アレキサンドライト(Cr:BeAl)、Cr:LiCAF(LiCaAlF)、Cr:LiSAF(LiSrAlF)、及びCr:LiSGAF(LiSrGaF)の何れかであることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載のレーザ装置。
  5. 前記青色励起光の波長が、基底準位から準位への励起吸収波長と一致することを特徴とする請求項3又は請求項4記載のレーザ装置。
  6. 前記励起手段が、GaNから成る半導体レーザを含むことを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載のレーザ装置。
  7. 前記共振器内に、前記発振光の発振波長を制御する波長制御素子が配置されたことを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載のレーザ装置。
  8. 前記共振器内に、モード同期を誘起するためのモード同期素子が配置されたことを特徴とする請求項1〜7の何れか1項に記載のレーザ装置。
  9. 前記モード同期素子が、半導体可飽和吸収ミラーデバイスであることを特徴とする請求項8記載のレーザ装置。
  10. 前記請求項1〜請求項9の何れか1項に記載のレーザ装置と、
    前記レーザ装置からのレーザ光を測定対象物に集光して照射する光学系と、
    前記測定対象物からの戻り光を集光して検出する検出手段と、
    を備えた顕微鏡。
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