JP6219038B2 - 非接触支持装置及び非接触支持方法 - Google Patents

Description

本発明は、薄板状材料である被支持物を非接触に支持する非接触支持装置及び非接触支持方法に関し、より具体的には、被支持物の浮上量を高精度で制御できる非接触支持装置及び非接触支持方法に関する。

従来より、液晶パネルや半導体素子等の製造工程では、ガラス基板や半導体ウエハといった薄板状の被支持物を浮上支持する非接触支持装置を利用する塗布装置、検査装置等が利用されている。

例えば、引用文献１は、非接触支持装置であるエア浮上ユニットを開示する。エア浮上ユニットは、被支持物を支持する定盤を備え、定盤の盤面には、エアを吹き出す複数の噴出孔と、エアを吸引する複数の吸引孔とが設けられている。エアの吐出及び吸引を行う目的は、浮上している被支持物の盤面からの高さが一定となるように、すなわち保持剛性を被支持物の全体に亘り均一化させるためである。なお、このエア浮上ユニットにおける吸引は、被支持物が搬送される搬送方向に沿って配置される複数の吸引孔ごとに纏めて行われている。

特開２０１１−２２５３５５号

しかし、上述した従来の非接触装置のように、搬送方向に沿って配置される複数の吸引孔ごとに纏めて吸引を行うと、被支持物の部位によっては所望の保持剛性を実現できず、浮上量にばらつきが生じる恐れがある。

本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものである。すなわち、被支持物の浮上量をより高精度で制御できる非接触支持装置及び非接触支持方法を提供することを目的とする。

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の非接触支持装置の第１の態様は、気体を吐出させることにより被支持物を非接触に支持する支持面を有する浮上用プレートを備え、前記支持面には、前記被支持物に対する処理が行われる処理領域が延在し、前記浮上用プレートは、前記処理領域に設けられる吸引力を付与するための主吸引回路と、前記被支持物が前記浮上用プレートに対して相対移動する搬送方向に関し前記処理領域の上流側に、前記主吸引回路とは独立して吸引力を付与するための第１の予備吸引回路とを有する。

本発明の非接触支持装置の第２の態様によれば、第１の態様の非接触支持装置であって、前記浮上用プレートは、前記搬送方向に関し前記処理領域の下流側に、前記主吸引回路及び前記第１の予備吸引回路とは独立して吸引力を付与するための第２の予備吸引回路を有する。

また、本発明の非接触支持装置の第３の態様によれば、第１又は第２の態様の非接触支持装置であって、前記浮上用プレートは、前記搬送方向に直交する幅方向に関し前記処理領域より遠い位置に、独立して吸引力を付与するための側方主吸引回路を有する。

本発明の非接触支持装置の第４の態様によれば、第１〜第３の態様のいずれかの非接触支持装置であって、前記浮上用プレートは、前記搬送方向に直交する幅方向に関し前記第１の予備吸引回路及び第２の予備吸引回路の少なくとも一方より遠い位置に、独立して吸引力を付与するための側方予備吸引回路を有する。

本発明の非接触支持装置の第５の態様によれば、第１〜第４の態様のいずれかの非接触支持装置であって、前記浮上用プレートは、前記処理領域に設けられる浮上力を付与するための主給気回路と、前記搬送方向に関し前記処理領域の上流側に、前記主給気回路とは独立して浮上力を付与するための第１の予備給気回路とを有する。

本発明の非接触支持装置の第６の態様によれば、第１〜第５の態様のいずれかの非接触支持装置であって、前記浮上用プレートは、前記搬送方向に関し前記処理領域の下流側に、前記主給気回路及び前記第１の予備給気回路とは独立して浮上力を付与するための第２の予備給気回路を有する。

本発明の非接触支持装置の第７の態様によれば、第１〜第６の態様のいずれかの非接触支持装置であって、前記浮上用プレートは、前記搬送方向に直交する幅方向に関し前記処理領域より遠い位置に、独立して浮上力を付与するための側方主給気回路を有する。

本発明の非接触支持装置の第８の態様によれば、第１〜第７の態様のいずれかの非接触支持装置であって、前記浮上用プレートは、前記搬送方向に直交する幅方向に関し前記第１の予備給気回路及び第２の予備給気回路の少なくとも一方より遠い位置に、独立して浮上力を付与するための側方予備給気回路を有する。

さらに、上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の非接触支持方法の第１の態様は、気体を吐出させることにより被支持物を非接触に支持する非接触支持方法であって、前記被支持物が処理される処理領域に延在する前記被支持物に対し吸引力を付与する主吸引を行い、前記被支持物が搬送される搬送方向に関し、前記処理領域の上流側で吸引力を付与する第１の予備吸引を行い、前記主吸引及び前記第１の予備吸引は互いに独立して行なわれる。

また、本発明の非接触支持方法の第２の態様によれば、第１の態様の非接触支持方法であって、前記搬送方向に関し前記処理領域より下流側で、吸引力を付与する第２の予備吸引を行い、前記主吸引並びに前記第１及び第２の予備吸引は互いに独立して行なわれる。

また、本発明の非接触支持方法の第３の態様によれば、第１又は第２の態様の非接触支持方法であって、前記搬送方向に直交する幅方向に関し前記処理領域から離れる位置で独立して吸引力を付与する側方主吸引を行う。

本発明の非接触支持方法の第４の態様によれば、第１〜第３のいずれかの態様の非接触支持方法であって、前記搬送方向に直交する幅方向に関し前記第１及び第２の予備吸引の少なくとも一方が行われる位置から離れる位置で独立して吸引力を付与する側方予備吸引を行う。

本発明の非接触支持方法の第５の態様によれば、第１〜第４のいずれかの態様の非接触支持方法であって、前記処理領域に延在する前記被支持物に対し浮上力を付与する主給気を行い、前記前記処理領域の上流側で浮上力を付与する第１の予備給気を行い、前記主給気及び前記第１の予備給気は互いに独立して行なわれる。

本発明の非接触支持方法の第６の態様によれば、第１〜第５のいずれかの態様の非接触支持方法であって、前記搬送方向に関し前記処理領域より下流側で、浮上力を付与する第２の予備給気を行い、前記主給気並びに前記第１及び第２の予備給気は互いに独立して行なわれる。

本発明の非接触支持方法の第７の態様によれば、第１〜第６のいずれかの態様の非接触支持方法であって、前記前記搬送方向に直交する幅方向に関し前記処理領域から離れる位置で独立して浮上力を付与する側方主給気を行う。

本発明の非接触支持方法の第８の態様によれば、第１〜第７のいずれかの態様の非接触支持方法であって、前記搬送方向に直交する幅方向に関し前記第１及び第２の予備給気の少なくとも一方が行われる位置から離れる位置で独立して浮上力を付与する側方予備給気を行う。

本明細書において、支持剛性力とは、常温において大気圧より圧力を高めた気体である圧縮気体が被支持物に衝突する際に圧縮気体から被支持物に作用する浮上力を意味し、また、上記浮上力に加え当該被支持物の周囲の気体を吸引することによる吸引力を被支持物に作用させる場合には、浮上力と吸引力との合力を意味する。さらに、被支持物が所定の支持剛性力を得られるとは、圧縮気体が噴出される（吸引力を付与している場合には、吸引力を付与する）部材と被支持物との間のすきまが所定距離を有し被支持物が非接触支持される状態を意味する。

本発明にかかる非接触支持装置は、搬送方向に沿って、主吸引回路と第１の予備吸引回路とを備える。従って、主吸引回路により被支持物に十分な保持剛性を付与できない場合であっても、第１の予備吸引回路からの吸引力を付与することにより、処理領域において被支持物の保持剛性が確保でき、所定の浮上量を得ることができる。さらに、本発明にかかる非接触方法は、被支持物の搬送方向に沿って主吸引と、予備吸引とを行うことにより、被支持物の処理領域において保持剛性を確保でき、被支持物を所望の浮上量で浮上保持できる。

第１の実施形態に係る塗布装置の一部を模式的に示す斜視図である。 図１に示す浮上用プレートを示す平面図である。 図２の線ＩＩＩ−ＩＩＩに沿った断面図である。 図２の線ＩＶ−ＩＶ、Ｖ−Ｖに沿った断面図である。 被支持物の平面図である。 第２の実施形態に係る浮上用プレートを示す平面図である。 図６の線ＶＩＩ−ＶＩＩに沿った断面図である。 図６の線ＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ、ＩＸ−ＩＸに沿った断面図である。 第３の実施形態に係る浮上用プレートを示す平面図である。 図９の線Ｘ−Ｘ、ＸＩ−ＸＩに沿った断面図である。 第４の実施形態に係る浮上用プレートを示す平面図である。 図１１の線ＸＩＩ−ＸＩＩに沿った断面図である。 図１１の線ＸＩＩＩ−ＸＩＩＩ、ＸＩＶ−ＸＩＶに沿った断面図である。

以下に、本発明に係る非接触支持装置を適用した塗布装置の実施形態について図面を参照しつつ説明する。なお、この実施形態により本発明が限定されるものではない。また、第１の実施形態の各要素の参照符号は、１００番台で、第２の実施形態の各要素の参照符号は、２００番台で示し、第３の実施形態の各要素の参照符号は、４００番台で、第４の実施形態の各要素の参照符号は、５００番台で示し、第１乃至第４の実施形態で下２ケタが同じ参照符号の要素同士は、特に説明しない場合は、同じ形状及び構成である。また、第１及び第２の実施形態における被支持物３００の幅方向（被支持物３００の搬送方向に垂直な方向）の寸法は、浮上用プレート１０３、２０３、４０３、５０３の幅方向の両端部に設けられている給気口１５１、２５１、４５１、５５１を、上面（平面）視で覆うことができる程度の寸法である。

〔第１の実施形態〕
図１は、実施形態に係る塗布装置１０１の一部を模式的に示す斜視図であり、図２は、図１に示す浮上用プレート１０３を示す上面（平面）図であり、図３は、図２の線ＩＩＩ−ＩＩＩに沿った断面図であり、図４は、図２の線ＩＶ−ＩＶ、Ｖ−Ｖに沿った断面図であり、図５は、被支持物３００の平面図である。

図１に示すように、実施形態の塗布装置１０１は、主として、ガラス基板等の被支持部材３００にレジスト液等の塗液を塗布するための塗布手段を構成するスロットノズル１１３と、スロットノズル１１３により塗液を塗布する際に被支持物３００が配置される作業領域１１２ａを有する定盤１１１と、作業領域１１２ａに配置される浮上用プレート１０３を有し浮上用プレート１０３から被支持物３００を所定距離離間し浮上支持する非接触支持装置１０２と、非接触支持装置１０２、スロットノズル１１３等の作動を司る制御部１３０と、を備える。

定盤１１１は直方体形状であり、その平坦な上面１１１ａは、上面（平面）視で矩形状の作業領域１１２ａと、上面１１１ａの短手方向に関し作業領域１１２ａを挟んで配置される支持領域１１２ｂと、を有する。作業領域１１２ａは、定盤１１１の上面１１１ａに配置される被支持物３００に対してスリットノズル１１３により塗液の塗布が行われる領域であり、支持領域１１２ｂは、被支持物３００を搬送するための従来から知られる搬送手段（不図示）が配置される領域である。なお、本実施形態の定盤１１１の上面１１１ａは、定盤１１１の長手方向に延びる境界溝１０４により作業領域１１２ａと支持領域１１２ｂとに分離されているが、境界溝１０４を備えない定盤を用いることも可能であることは言うまでもない。

また、図５に示すように、被支持物３００は、ガラス基板等の矩形状の薄板部材であり、搬送方向に関し最も下流側に位置する縁部を前縁部Ｆとし、最も上流側に位置する縁部を後縁部Ｅとし、上面（平面）視で後縁部Ｅから前縁部Ｆに向かって左側の縁部を左縁部Ｌとし、右側の縁部を右縁部Ｒとする。搬送手段としては、定盤１１１の両支持領域１１２ｂに対向配置され、被支持物３００の左縁部Ｒ、右縁部Ｌを吸引保持し搬送する構成等を利用する。搬送手段は、被支持物３００の左縁部Ｒ、右縁部Ｌを吸引保持し、浮上用プレート１０３へ近づく方向や、浮上用プレート１０３から離れる方向へ搬送する。

図１に示すように、ガントリ１０９は、スロットノズル１１３が装着されている水平保持部１０９ａと、水平保持部１０９ａの長手方向の両端部それぞれに連続する２つの支持部１０９ｂと、を備える。各支持部１０９ｂは、水平保持部１０９ａに対して垂直方向に延在し、各支持部１０９ｂの一端部は、水平保持部１０９ａの一端部に連結され、各支持部１０９ｂの他端部は、定盤１１１の側面１１１ｂに固定される。

次に、気体を吐出させることにより被支持物３００を浮上させた状態にて保持する非接触支持装置１０２について説明する。非接触支持装置１０２は、気体を被支持物３００に向かって吐出させることにより被支持物３００を非接触状態にて支持する支持面１０３ａを有する浮上手段である浮上用プレート１０３と、被支持物３００に対し支持面１０３ａに向かう吸引力を付与する吸引手段（不図示）と、圧縮気体を供給するポンプ等の気体源（不図示）と、を備える。なお、吸引手段や気体源は、制御部１３０からの指令信号により駆動される。

浮上用プレート１０３の支持面１０３ａの中央領域付近の主浮上領域１３３に、支持面１０３ａと被支持物３００の間に介在する気体を吸引することにより被支持物３００に対して支持面１０３ａ方向への主要な吸引力を付与する主吸引回路が設けられ、被支持物３００が搬送される搬送方向１４９に関し主浮上領域１３３の上流側（反搬送方向（搬送方向１４９に対向する方向）側）に延在する第１の予備浮上領域１３１には、主浮上領域１３３において付与される主要な吸引力を付与する前に予備的な吸引力を被支持物３００に対して支持面１０３ａ方向へ付与する第１の予備吸引回路が設けられている。さらに、本実施形態では、搬送方向１４９に関し主浮上領域１３３の下流側（反搬送方向側）の第２の予備浮上領域１３５には、被支持物３００に対して支持面１０３ａ方向への主要な吸引力を付与された後の予備的な吸引力を付与するための第２の予備吸引回路が設けられている。

なお、被支持物３００の処理が行われる処理領域、すなわち、本実施形態の塗布装置１０１では、スリットノズル１１３から塗布される塗液が到達する塗布領域Ｐが、主浮上領域１３３内に配置され、当該塗布領域Ｐは、吸引口１３９の中心を通る線で規定される矩形の領域である。

図３に示すように浮上用プレート１０３は、トッププレート１０４、経路構成プレート１８１、ボトムプレート１８３を有し、被支持部材３００が位置する側からトッププレート１０４、経路構成プレート１８１、ボトムプレート１８３の順に重ねた状態で公知の締結手段により締結されている。

図２、３に示されるように、主浮上領域１３３に配置される主吸引回路は、吸引口１３９と、吸引口１３９に連通する内部吸引貫通口１４０、内部吸引貫通口１４０を互いに連通する吸引用溝１５５と、不図示の吸引手段と吸引用溝１５５とを連結する吸引貫通口１８５と、を有する。

吸引口１３９はトッププレート１０４に設けられた厚さ方向に貫通する孔であり、一方の端部は被支持部材３００側に開口しており、他方の端部は経路構成プレート１８１側に開口している。
内部吸引貫通口１４０は、トッププレート１０４に設けられている吸引口１３９に連通して設けられ、経路構成プレート１８１をその厚さ方向に貫通する穴である。吸引用溝１５５は、経路構成プレート１８１の下面１８１ａに設けられている溝であり、内部吸引貫通口１４０に連通する。経路構成プレート１８１の下面１８１ａをボトムプレート１８３の上面１８３ａに接合すると、吸引用溝１５５を介し内部吸引貫通口１４０同士を連通する内部吸引通路１５４が形成される。また、内部吸引通路１５４及び内部吸引貫通口１４０により、主浮上領域１３３内に延在する全ての吸引口１３９のみが互いに連通した状態となる。

また、ボトムプレート１８３は、その厚さ方向（図３の上下方向）に貫通する吸引貫通口１８５を有する。吸引貫通口１８５は、吸引用溝１５５に連通するように形成されている。なお、本実施形態の主吸引回路は、単一の吸引貫通口１８５を備える。従って、主吸引回路内における不図示の吸引手段からの吸引力は、主吸引回路にある単一の吸引貫通口１８５から内部吸引通路１５４及び各内部吸引貫通口１４０を介した後、各吸引口１３９から被支持物３００に対し付与される。

次に、第１の予備吸引回路について説明する。搬送方向１４９に関し、主浮上領域１３３の上流側に位置する第１の予備浮上領域１３１（図２参照。）に配置されるのが、第１の予備吸引回路である。第１の予備吸引回路は、主吸引回路と同様に、被支持物３００が位置する側から吸引口１３７と、吸引口１３７と連通する内部吸引貫通口１３８と、内部吸引貫通口１３８を互いに連通する吸引用溝１５３と、不図示の吸引手段と吸引用溝１５３とを連結する吸引貫通口１８４と、を有する（図４参照。）。

吸引口１３７はトッププレート１０４に設けられた厚さ方向に貫通する孔であり、一方の端部は被支持部材３００側に開口しており、他方の端部は経路構成プレート１８１側に開口している。
内部吸引貫通口１３８は、トッププレート１０４に設けられている吸引口１３７に連通して設けられ、経路構成プレート１８１をその厚さ方向に貫通する穴である。吸引用溝１５３は、経路構成プレート１８１の下面１８１ａに設けられている溝であり、経路構成プレート１８１の下面１８１ａをボトムプレート１８３の上面１８３ａに接合することにより、内部吸引貫通口１３８同士を連通する内部吸引通路１５２が形成される。また、内部吸引通路１５２及び内部吸引貫通口１３８により、第１の予備浮上領域１３１内に配置される吸引口１３７のみが互いに連通する。

ボトムプレート１８３は、その厚さ方向（図４の上下方向）に貫通する吸引貫通口１８４を有する。吸引貫通口１８４は、吸引用溝１５３に連通するように形成されている。なお、本実施形態の第１の予備吸引回路は、単一の吸引貫通口１８４を備える。従って、不図示の吸引手段からの吸引力は、第１の予備吸引回路内に配置された単一の吸引貫通口１８４、各内部吸引通路１５２及び各内部吸引貫通口１３８を介し各吸引口１３７から、被支持物３００に対し付与される。このように、前述の主吸引回路と第１の予備吸引回路は連通している部位を有しない完全に分離した別回路であるので、両吸引回路からの吸引力は、互いに独立して個別に被支持物３００に付与することができる。

次に、第２の予備吸引回路について説明する。図２の線Ｖ−Ｖに沿った断面図は、図２の線ＩＶ−ＩＶに沿った断面図と同じであるので、図４を参照しつつ説明する。なお、図４において、第２の予備吸引回路の要素の参照符号は、大かっこ（［］）で括られて記載されている。

図２に示されるように、搬送方向１４９に関し、主浮上領域１３３の下流側に位置する第２の予備浮上領域１３５には、第２の予備吸引回路が配置される。前述の第１の予備吸引回路と同様に、被支持物３００が位置する側から吸引口１４１と、吸引口１４１と連通する内部吸引貫通口１４２と、内部吸引貫通口１４２と連通する吸引用溝１５７と、不図示の吸引手段と吸引用溝１５７とを連結する吸引貫通口１８６と、を有する。

吸引口１４１はトッププレート１０４に設けられた厚さ方向に貫通する孔であり、一方の端部は被支持部材３００側に開口しており、他方の端部は経路構成プレート１８１側に開口している。
内部吸引貫通口１４２は、トッププレート１０４に設けられている吸引口１４１に連通して設けられ、経路構成プレート１８１をその厚さ方向に貫通する穴である。吸引用溝１５７は、経路構成プレート１８１の下面１８１ａに設けられている溝であり、経路構成プレート１８１の下面１８１ａをボトムプレート１８３の上面１８３ａに接合することにより、内部吸引貫通口１４２同士を連通する内部吸引通路１５６が形成される。また、内部吸引通路１５６及び内部吸引貫通口１４２により、第２の予備浮上領域１３５内に延在する吸引口１４１のみが互いに連通する。

ボトムプレート１８３は、その厚さ方向（図４の上下方向）に貫通する吸引貫通口１８６を有する。吸引貫通口１８６は、吸引用溝１５７に連通するように形成されている。なお、本実施形態の第２の予備吸引回路は、単一の吸引貫通口１８６を備える。従って、不図示の吸引手段からの吸引力は、単一の吸引貫通口１８６、各内部吸引通路１５６及び各内部吸引貫通口１４２を介し、各吸引口１４１から、被支持物３００に対し付与される。前述の主吸引回路、第１及び第２の予備吸引回路は、別回路であるので、上記吸引回路からの吸引力は、互いに独立して個別に被支持物３００に付与することができる。このように、主浮上領域１３３、第１の予備浮上領域１３１、第２の予備浮上領域１３５は、互いに独立して個別に被支持物に吸引力を付与できる構成である。

さらに、浮上用プレート１０３には、被支持物３００を浮上させる圧縮気体を吐出するための第１の給気回路が設けられている。第１の給気回路は、図２に示されるように、主浮上領域１３３内に配置される給気口１４５と、第１及び第２の予備浮上領域１３１、１３５内に配置される給気口１４３、１４７と、給気口１４３、１４５、１４７同士を連通する給気用溝１６１（図３、４参照。）と、給気口１４５に連通する内部給気貫通口１６０と、内部給気貫通口１６０と連通する給気貫通口１６３と、を有する。

吸引口１４５はトッププレート１０４に設けられた厚さ方向に貫通する孔であり、一方の端部は被支持部材３００側に開口しており、他方の端部は経路構成プレート１８１側に開口している。
内部給気貫通口１６０は、複数の給気口１４５の内、一の給気口１４５に連通するように経路構成プレート１８１に設けられ、経路構成プレート１８１の厚さ方向に貫通している。さらに、給気貫通口１６３は、ボトムプレート１８３の厚さ方向に貫通し、内部給気貫通口１６０に連通する。給気用溝１６１は、経路構成プレート１８１の上面１８１ｂに設けられている溝であり、経路構成プレート１８１の上面１８１ｂをトッププレート１０４の下面１０４ｂに接合することにより、給気口１４３、１４５、１４７同士を連通する内部給気通路１６２が形成される。なお、本実施形態では、単一の内部給気貫通口１６０及び給気貫通口１６３を設け、各内部給気通路１６２を介して、他の給気口１４３、１４５、１４７同士が連通する。

さらに、本実施形態では、主浮上領域１３３及び第１及び第２の予備浮上領域１３１、１３５の周囲に、別の給気回路が設けられている。すなわち、第２の給気回路が浮上用プレート１０３の上面１０３ａの長手方向縁部（搬送方向１４９と平行方向に延びる縁部）に沿って配置され、第３の給気回路が、短手方向縁部（搬送方向１４９と垂直方向に延びる縁部）に沿って配置される。第２の給気回路は、搬送方向１４９に関し左右両側（図２中の上下両側）にそれぞれ配置され、一方の第２の給気回路は、搬送方向１４９に関し左側（図２中の上側）に位置する給気口１５１、１７３、１７５、１７７及び１５１と、これらの給気口１５１、１７３、１７５、１７７及び１５１を互いに連通する給気用溝１７４と、給気口１７５に連通する単一の内部給気貫通口１７６及び給気貫通口１８９と、を有する。

また、給気用溝１７４は、経路構成プレート１８１の上面１８１ｂに設けられている溝であり、経路構成プレート１８１の上面１８１ｂをトッププレート１０４の下面１０４ｂに接合することにより、給気口１５１、１７３、１７５、１７７及び１５１同士を連通する内部給気通路１７２が形成される。従って、不図示の気体源から供給される圧縮気体は、給気貫通口１８９、内部給気貫通口１７６、及び内部給気通路１７２を介し、各給気口１５１、１７３、１７５、１７７及び１５１へ到達する。搬送方向１４９に関し右側（図２中の下側）に位置する他方の第２の給気回路も同様の構成である。

第３の給気回路は、浮上用プレート１０３の支持面１０３ａの短手方向縁部に沿って配置され、搬送方向１４９に関し上流側及び下流側（図２中の左右側）にそれぞれ位置する。上流側に配置される一方の第３の給気回路は、給気口１５２と、給気口１５２を互いに連結する給気用溝１５６と、給気口１５２に連通し経路構成プレート１８１を貫通する内部給気貫通口（不図示）、内部給気貫通口に連通し、ボトムプレート１８３を貫通する給気貫通口（不図示）を備える。給気用溝１５６、内部給気貫通口、給気貫通口等の構成は、上記の第１及び第２の給気回路と同様の態様で形成されている。下流側に配置される他方の第３の給気回路も同様の構成である。上記構成の第１〜第３の給気回路は、不図示の気体源から圧縮気体が供給され、各給気口から圧縮気体が吐出される。また、第１〜第３の給気回路は、各々異なる気体源から圧縮気体を供給する構成としたが、単一の気体源から供給する構成に適宜変更できる。

上記構成の非接触支持装置１０２により被支持物３００を浮上支持する動作について説明する。被支持物３００が搬送方向１４９に沿って進み、例えば第１の予備浮上領域１３１の搬送方向１４９に対して垂直方向に２列に配置される吸引口１３７の内、端部側（搬送方向１４９下流側）に位置する一方の列のみの吸引口１３７を覆うといったように、第１の予備浮上領域１３１に存在する吸引口１３７を部分的に覆う位置に前縁部Ｆが到達すると、被支持物３００に対して、給気口１４３、１５１、１５２から噴出される圧縮気体による浮上力が加わるとともに、吸引口１３７からの吸引力が加わる。この状態では、第１の予備浮上領域１３１内に連通状態で配置されている吸引口１３７の全てが覆われている状態ではないため、所定の支持剛性力を得ることができず、被支持物３００の長手方向（前縁部Ｆ又は後縁部Ｅが延びる方向）に関し浮上量のばらつきが生じる可能性がある。

さらに、搬送方向１４９に沿って被支持物３００が進み、第１の予備浮上領域１３１の上面（平面）視において搬送方向１４９に対して垂直方向に２列で存在する吸引口１３７の全てを覆うと、第１の予備浮上領域１３１内に連通状態にて配置された吸引口１３７を全て覆うことができるため、所定の支持剛性力を得ることができ、浮上用プレート１０３の支持面１０３ａから所定距離浮上（離間）した状態で被支持物３００が非接触支持される。この状態では、第１の予備浮上領域１３１に延在している被支持物３００の部位について、被支持物３００の長手方向（前縁部Ｆ又は後縁部Ｅの延在する方向）における浮上量のばらつきは解消される。

さらに、被支持物３００が、搬送方向１４９の下流側に進み、前縁部Ｆが、浮上用プレート１０３の上面（平面）視において、搬送方向１４９に対し垂直方向に３列に配置される吸引口１３９の内、主浮上領域１３３の搬送方向１４９下流側の端部１列を構成する吸引口１３９の全てを覆う状態になるまで、主浮上領域１３３に進入する。この場合には、主浮上領域１３３に配置され、互いに連通する全ての吸引口１３９の内の一部の吸引口１３９から供給される吸引力及び給気口１４５の一部から供給される浮上力を受けている状態となる。すなわち、平面視において被支持物３００が主浮上領域１３３に配置され互いに連通する全ての吸引口１３９の内、一部の吸引口１３９を覆っている状態であるので、主浮上領域１３３に延在する前縁部Ｆを含む部位には、所定の吸引力が付与されないため、所定の支持剛性力が付与されない。

しかし、平面視において、被支持物３００が第１の予備浮上領域１３１内に配置され互いに連通する全ての吸引口１３７を覆っている状態であるので、第１の予備浮上領域１３１に延在する被支持物３００の部位は、所定の支持剛性力が得られる。従って、被支持物３００の主浮上領域１３３に延在する前縁部Ｆを含む部位においても、第１の予備浮上領域１３１に延在する被支持物３００の部位の所定の浮上量とほぼ同一の浮上量で非接触支持することができる。結果として、スリットノズル１１３から被支持物３００に対して所望の精度で塗液を塗布することが可能である。

被支持物３００が、搬送方向１４９の下流側にさらに進行し、被支持物３００が平面視で主浮上領域１３３に互いに連通して配置される吸引口１３９の全てを覆う位置に前縁部Ｆが到達した状態では、前述の通り所定の浮上量で非接触支持される。

被支持物３００が搬送方向１４９の下流側にさらに進み、被支持物３００の後縁部Ｅが搬送方向１４９に対し垂直方向に３列に配置される吸引口１３７の内、主浮上領域１３３の搬送方向１４９下流側に配置される１列の吸引口１３７の全てを覆う状態になるまで主浮上領域１３３内に進入した後、主浮上領域１３３の吸引口１３９の一部が被支持物３００により覆われないような位置に被支持物３００が到達すると、主浮上領域１３３に延在する被支持物３００の部位に対して所定の吸引力が供給できず所定の支持剛性力が得られない。

しかし、被支持物３００は、平面視において第２の予備浮上領域１３５に互いに連通して配置されるすべての吸引口１４１が覆われると、被支持物３００の、第２の予備浮上領域１３５に延在する部位で所定の支持剛性力が得られる。従って、主浮上領域１３３に互いに連通して配置される吸引口１３９の一部が覆われていない状態であるにも拘わらず、被支持物３００は所定の浮上量又はそれにほぼ近い浮上量で非接触支持される。したがって、スリットノズル１１３から被支持物３００に対して所望の精度で塗液を塗布することが可能である。

上述の通り、主浮上領域１３３に配置される吸引口１３９の数や径は、非接触支持装置１０２を利用して被支持物３００の処理が行われる処理領域、すなわち塗布領域Ｐが、主浮上領域１３３に配置される吸引口１３９の中心を通る線で規定される矩形内に収まるように設定することが好ましい。

また、主吸引回路及び第１及び第２の予備吸引回路による吸引、並びに第１〜第３の給気回路による給気は、浮上用プレート１０３の支持面１０３ａの平面視において、被支持物３００により各回路を構成する吸気口又は給気口が一部でも覆われる前に開始されるように制御部１３０により制御される。また、第１及び第２の予備吸引回路は、選択的に使用する構成とすることも可能である。

〔第２の実施形態〕
第２の実施形態の浮上用プレート２０３について、図面を参照しつつ説明する。図６は、第２の実施形態に係る浮上用プレート２０３を示す平面図であり、図７は、図６の線ＶＩＩ−ＶＩＩに沿った断面図であり、図８は、図６の線ＶＩＩ−ＶＩＩ、線ＩＸ−ＩＸに沿った断面図である。

第２の実施形態に係る非接触支持装置の浮上用プレート２０３は、第１の実施形態に係る浮上用プレート１０３の、被支持物３００の左右縁部Ｌ、Ｒ側の部位が通る領域の中央部に、側方主浮上領域２６５を備え、この側方主浮上領域２６５の搬送方向２４９に対する上流側ならびに下流側にそれぞれ第１及び第２の側方予備浮上領域２６４、２６９を備える。第２の実施形態に係る非接触支持装置は、浮上用プレート２０３を除き、第１の実施形態の非接触支持装置１０２と同じ構成である。従って、特に説明しない第２の実施形態の構成、効果等は、第１の実施形態と同じである。

浮上用プレート２０３は、第１の実施形態の浮上用プレート１０３と同様に、主浮上領域２３３に配置される主吸引回路、第１及び第２の予備浮上領域２３１、２３５に配置される第１及び第２の予備吸引回路を備える。さらに、浮上用プレート２０３は、側方主浮上領域２６５に配置される側方主吸引回路、第１の側方予備浮上領域２６４に配置される第１の側方予備吸引回路、及び第２の側方予備浮上領域２６９に配置される第２の側方予備吸引回路を備える。

図６に示されるように、側方主浮上領域２６５は、処理領域である塗布領域Ｐ（図２参照。）及び主浮上領域２３３から、搬送方向２４９に交差する方向に離れる位置、すなわち被支持物３００（図５参照。）の左縁部Ｌ及び右縁部Ｒ側が通る位置に配置されている。同様に、第１及び第２の側方予備浮上領域２６４、２６９は、第１及び第２の予備浮上領域２３１、２３５から、搬送方向２４９に交差する方向に離れる位置、被支持物３００（図５参照。）の左縁部Ｌ及び右縁部Ｒ側が通る位置に配置される。

側方主浮上領域２６５内には、気体を吸引するための２つの吸引口２６７と、気体を吐出するための給気口２７５が配置されている。また、側方主浮上領域２６５は、搬送方向２４９に視て左右両端部側にそれぞれ側方主浮上領域２６５ａ、２６５ｂを有し、それぞれの領域２６５ａ、２６５ｂに側方主吸引回路が配置される。図７に示すように、左側（又は右側）に配置される側方主浮上領域２６５ａ（２６５ｂ）内には、一方の側方主吸引回路を構成する２つの吸引口２６７ａ（２６７ｂ）と、吸引口２６７ａ（２６７ｂ）に連通する内部吸引貫通口２８２ａ（２８２ｂ）と、内部吸引貫通口２８２ａ（２８２ｂ）に連通する吸引用溝２８４ａ（２８４ｂ）と、吸引用溝２８４ａ（２８４ｂ）に連通し、ボトムプレート２８３をその厚さ方向に貫通する吸引貫通口２８６ａ（図７には、右側の吸引貫通口が表れない。）と、を有する。

従って、例えば、左側の側方主吸引回路では、吸引貫通口２８６ａが、不図示の吸引手段に接続され、吸引力が吸引貫通口２８６ａ、吸引用溝２８４ａとボトムプレート２８３の上面２８３ａとにより形成される内部吸引通路２９１ａ、及び内部吸引貫通口２８２ａを介し吸引口２６７ａから付与される。なお、左右の側方主吸引回路それぞれは、単一の吸引貫通口２８６を有し、２つの吸引口２６７への吸引力は、吸引貫通口２８６から内部吸引貫通口２８２及び内部吸引通路２９１を介して付与される。また、左右の側方主浮上領域２６５内の側方主吸引回路は、互いに分離した別回路であるので、それぞれ独立して個別に吸引力を付与することができる。

側方主浮上領域２６５の搬送方向２４９に関する上流側には、第１の側方予備浮上領域２６４が配置される。第１の側方予備浮上領域２６４内には、気体を吸引するための吸引口２６３と、気体を吐出するための給気口２７３が配置されている。また、第１の側方予備浮上領域２６４は、搬送方向２４９に視て左右両端部側に第１の側方予備浮上領域２６４ａ、２６４ｂを有し、各領域２６４ａ、２６４ｂに同一の第１の側方予備吸引回路が設けられている。図８に示すように、左側（右側）に配置される第１の側方予備浮上領域２６４ａ（２６４ｂ）に配置される側方予備吸引回路は、２つの吸引口２６３ａ（２６３ｂ）と、吸引口２６３ａ（２６３ｂ）に連通し、経路構成プレート２８１の厚さ方向に貫通する内部吸引貫通口２９１と、内部吸引貫通口２９１に連通し、ボトムプレート２８３の厚さ方向に貫通する吸引貫通口２９３と、を有する。吸引貫通口２９３は、不図示の吸引手段に接続され、吸引力が吸引貫通口２９３、内部吸引貫通口２９１を介し吸引口２６３から付与される。また、搬送方向２４９に対し左右端部側のそれぞれの第１の側方予備浮上領域２６４内に第１の側方予備吸引回路をそれぞれ用いることで、吸引口２６３ａ、２６３ｂから、互いに独立して個別に吸引力を付与することができる。

側方主浮上領域２６５の搬送方向２４９に関する下流側には、第２の側方予備浮上領域２６９が配置されている。搬送方向２４９に対して、左右端部の第２の側方予備浮上領域２６９ａ、２６９ｂには、第１の側方予備浮上領域２６４と同様に、それぞれ同一の第２の側方予備吸引回路が配置されている。第２の側方予備浮上領域２６９内には、気体を吸引するための吸引口２７１と、気体を吐出するための給気口２７７が配置されている。図８の大括弧（［］）で括られている参照符号で示すように、左側（右側）の第２の側方予備浮上領域２６９ａ（２６９ｂ）内に配置される第２の側方予備吸引回路は、吸引口２７１ａ（２７１ｂ）と、吸引口２７１ａ（２７１ｂ）に連通し、経路構成プレート２８１の厚さ方向に貫通する内部吸引貫通孔２９１と、内部吸引貫通口２９１に連通し、ボトムプレート２８３の厚さ方向に貫通する吸引貫通口２９３と、を有する。吸引貫通口２９３は、不図示の吸引手段に接続され、吸引力が吸引貫通口２９３、内部吸引貫通口２９１を介しプレートに配置された吸引口２７１から付与される。また、搬送方向２４９に対し左右端部側のそれぞれの第２の側方予備浮上領域２６９内に第２の側方予備吸引回路をそれぞれ設けることで、吸引口２７１ａ、２７１ｂから、互いに独立して個別の吸引力を付与できる。

上記構成の非接触支持装置により被支持物３００を浮上支持する動作について説明する。被支持物３００が搬送方向に２４９に沿って進み、第１の予備浮上領域２３１の吸引口２３７及び第１の側方予備浮上領域２６４の吸引口２６３を部分的に覆う位置に前縁部Ｆが到達すると、被支持物３００に対して、給気口２４３、２５１、２５２から噴出される圧縮気体による浮上力が加わるとともに、吸引口２３７、２６３からの吸引力が加わる。この状態では、吸引口２６３の全体が覆われている状態ではないため、被支持物３００の左右縁部Ｌ、Ｒ側の部位の浮上量が、被支持部３００の短手方向内方に比べばらつきが生じる可能性がある。

さらに、搬送方向２４９に沿って被支持物３００が進み、第１の予備浮上領域２３１及び第１の側方予備浮上領域２６４の平面視において吸引口２３７、２６３の全てを覆うと、浮上用プレート２０３の支持面２０３ａから所定距離離間した状態で被支持物３００が非接触支持される。被支持物３００は、第１の予備浮上領域２３１及び第１の側方予備浮上領域２６４の全ての吸引口２３７、２６３を平面視において覆う位置となり、吸引口２３７、２６３から所定の排気速度で気体が排出され、所定の吸引力が被支持物３００に付与されるからである。この状態では、第１の予備浮上領域２３１及び第１の側方予備浮上領域２６４に延在している被支持物３００の部位について、被支持物３００の短手方向（前縁部Ｆ又は後縁部Ｅの延在する方向）における浮上量のばらつきが抑制される。

さらに、被支持物３００が、搬送方向２４９の下流側に進み、前縁部Ｆが、浮上用プレート２０３の平面視において主浮上領域２３３及び側方主浮上領域２６５に進入する。この場合には、主浮上領域２３３及び側方主浮上領域２６５に配置される一部の吸引口２３９、２６７から供給される吸引力及び給気口２４５、２７５の一部から供給される浮上力を受けている状態となる。すなわち、平面視において被支持物３００が主浮上領域２３３及び側方主浮上領域２６５の一部の吸引口２３９、２６７が覆われている状態であるので、主浮上領域２３３及び側方主浮上領域２６５に延在する前縁部Ｆを含む部位には、所定の吸引力が付与されない。

しかし、平面視において、被支持物３００が第１の予備浮上領域２３１の吸引口２３７及び第１の側方予備浮上領域２６４の吸引口２６３を全て覆っている状態であるので、第１の予備浮上領域２３１及び第１の側方予備浮上領域２６４に延在する被支持物３００の部位は、所定の支持剛性力が得られる。従って、被支持物３００の主浮上領域２３３及び側方主浮上領域２６５に延在する前縁部Ｆを含む部位は、所定の浮上量とほぼ同一の浮上量で非接触支持することができる。さらに、被支持物３００の左右縁部Ｌ、Ｒ側の部位は、幅方向内方の部位に比較しても、浮上量のばらつきをさらに抑制できる。したがって、スリットノズル１１３から被支持物３００の幅方向に関しても所望の精度で塗液を塗布することが可能である。

被支持物３００が、搬送方向２４９の下流側にさらに進行し、被支持物３００が平面視で主浮上領域２３３、及び側方主浮上領域２６５に配置される吸引口２３９、２６７の全てを覆う位置に前縁部Ｆが到達した状態では、前述の通り所定の浮上量で非接触支持される。

被支持物３００が搬送方向２４９の下流側にさらに進み、被支持物３００の後縁部Ｅが主浮上領域２３３及び側方主浮上領域２６５に進入し、主浮上領域２３３及び側方主浮上領域２６５の吸引口２３９、２６７の一部が、被支持物３００により覆われない位置に到達すると、主浮上領域２３３及び側方主浮上領域２６５において、被支持物３００に対して所定の吸引力を付与できず所定の支持剛性力が得られない。

しかし、被支持物３００は、平面視において第２の予備浮上領域２３５及び第２の側方予備浮上領域２６９に配置されるすべての吸引口２４１、２７１を覆う状態であるので、被支持物３００は、第２の予備浮上領域２３５及び第２の側方予備浮上領域２６９に延在する部位で所定の支持剛性力が得られている。従って、主浮上領域２３３及び側方主浮上領域２６５に配置される吸引口２３９、２６７の一部が覆われていない状態であるにも拘わらず、被支持物３００は所定の浮上量又はそれにほぼ近い浮上量で非接触支持される。したがって、スリットノズル１１３から被支持物３００に対して所望の精度で塗液を塗布することが可能である。

上述の通り、浮上プレート２０３は、側方主吸引回路及び第１及び第２の側方予備吸引回路を備えるので、第１の実施形態の浮上プレート１０３を利用する場合に比べ、さらに被支持物３００の左縁部Ｌ及び右縁部Ｒ側の部位に作用する支持剛性力を高めることができる。
第１の実施形態の浮上プレート１０３を利用する場合は、被支持物３００の幅方向の左右縁部Ｌ、Ｒ側では、幅方向内方に比べ、被支持物３００の浮上量に若干のばらつきが生じる傾向が見られる。これは、被支持物３００の左右縁部Ｌ、Ｒ付近には、吸引する手段が存在しないため、被支持物３００の幅方向内方に比べ、被支持物３００の左右縁部Ｌ、Ｒ側への吸引力が減少するためと考えられる。そこで、第２の実施形態では、被支持物３００の幅方向の左右縁部Ｌ、Ｒ側において吸引力の減少を抑制するため、側方主浮上領域２６５の側方主吸引回路、第１及び第２の側方予備浮上領域２６４、２６９の第１及び第２の側方予備吸引回路を設けることで、被支持物３００の幅方向に関する支持剛性力の均一化を確保している。

なお、被支持物３００の幅方向に関し必要な支持剛性力に応じて、左右の側方主浮上領域２６５ａ、２６５ｂの側方主吸引回路の一方又は両方を作動させる構成や、左右の両方又は一方の側方主吸引回路に加え、第１及び第２の側方予備浮上領域２６４、２６９の第１及び第２の側方予備吸引回路の一方又は両方を作動させる構成等、適宜変更できる。

なお、主吸引回路、第１及び第２の予備吸引回路、側方主吸引回路、及び第１及び第２の側方予備吸引回路による吸引、並びに第１〜第３の給気回路による給気は、浮上用プレート２０３の支持面２０３ａの平面視において、被支持物３００により各回路を構成する吸気口又は給気口が一部でも覆われる前に開始されるように制御部（図１の参照符号１３０参照）により制御される。

〔第３の実施形態〕
第３の実施形態の浮上用プレート４０３について、図面を参照しつつ説明する。図９は、第３の実施形態に係る浮上用プレート４０３を示す平面図であり、図１０は、図９の線Ｘ−Ｘ、ＸＩ−ＸＩに沿った断面図である。なお、図９の線ＩＩＩ−ＩＩＩに沿った断面は、図３に示す第１の実施形態の浮上用プレート１０３の断面図と同じであるので、必要に応じて図３を参照する。

第３の実施形態に係る浮上用プレート４０３は、図２に示される第１の実施形態に係る浮上用プレート１０３と同様に、主吸引回路、並びに第１及び第２の予備吸引回路を備えることに加え、主浮上領域４３３内に配置される給気口４４５、第１の予備浮上領域４３１内に配置される給気口４４３、第２の予備浮上領域４３５に配置される給気口４４７が、互いに独立して個別に圧縮気体を供給できる構成である。すなわち、主浮上領域４３３、第１の予備浮上領域４３１、第２の予備浮上領域４３５の各給気回路が、別回路として構成され、独立して個別に圧縮気体が供給できる構成である。なお、本実施形態の吸引回路は、第１の実施形態に係る吸引回路と同じであるので詳細は割愛する。

浮上用プレート４０３の支持面４０３ａの主浮上領域４３３に、被支持物３００に対して吸引力を付与する主給気回路が設けられ、被支持物３００が搬送される搬送方向４４９に関し主浮上領域４３３の上流側に延在する第１の予備浮上領域４３１には、浮上力を付与する第１の予備給気回路が設けられている。さらに、本実施形態では、搬送方向４４９に関し主浮上領域４３３の下流側の第２の予備浮上領域４３５には、第２の予備給気回路が設けられている。

図９に示されるように、主浮上領域４３３に配置される主給気回路は、給気口４４５と、給気口４４５を互いに連通する給気用溝４２１（図３の参照符号１６１を参照。）と、給気用溝４２１に連結する内部給気貫通口（図３の参照符号１６０を参照。）及び不図示の気体源に連結する給気貫通口（図３の参照符号１６３を参照。）と、を有する。従って、不図示の気体源からの圧縮気体は、主給気回路である給気貫通口（図３の参照符号１６３を参照。）、内部給気貫通口（図３の参照符号１６０を参照。）、及び給気用溝４２１を介し、各給気口４４５から被支持物３００に対し付与される。

次に、第１の予備給気回路について説明する。搬送方向４４９に関し、主浮上領域４３３の上流側に位置する第１の予備浮上領域４３１に配置されるのが、第１の予備給気回路である。図１０に示すように、第１の予備給気回路は、主給気回路と同様に、給気口４４３と、給気口４４３を互いに連通する給気用溝４２３と、給気用溝４２３に連通する内部給気貫通口４２７と、内部給気貫通口４２７と不図示の気体源を連結する給気貫通口４２９と、を有する。

給気口４４３はトッププレート４０４に設けられた厚さ方向に貫通する孔であり、一方の端部は被支持部材３００側に開口しており、他方の端部は経路構成プレート４８１側に開口している。
内部給気貫通口４２７は、経路構成プレート４８１の上面４８１ｂに設けられている給気用溝４２３に接続し、経路構成プレート４８１をその厚さ方向に貫通する穴である。経路構成プレート４８１の上面４８１ｂをトッププレート４０４の下面４０４ｂに接合することにより、給気口４４３同士を連通する内部給気通路４２６が形成される。また、内部給気通路４２６により、第１の予備浮上領域４３１内に配置される給気口４４３のみが互いに連通する。

ボトムプレート４８３は、その厚さ方向（図１０の上下方向）に貫通する給気貫通口４２９を有する。給気貫通口４２９は、内部給気貫通口４２７に連通するように形成されている。なお、本実施形態の第１の予備吸引回路は、単一の給気貫通口４２９及び単一の内部給気貫通口４２７を備える。従って、不図示の気体源から供給される圧縮気体は、給気貫通口４２９、内部給気貫通口４２７を通り、内部給気通路４２６を介し各給気口４４３から噴出する。さらに、前述の主給気回路と第１の予備給気回路は、互いに分離した別個の給気回路であるので、両給気回路からの浮上力は、互いに独立して個別に被支持物３００に付与することができる。

次に、第２の予備給気回路について説明する。図９の線ＸＩ−ＸＩに沿った断面図は、図９の線Ｘ−Ｘに沿った図１０の断面図と同じであるので、図１０を参照しつつ説明する。なお、図１０において、第２の予備給気回路の要素の参照符号は、大かっこ（［］）により括られている。

図９に示されるように、搬送方向４４９に関し、主浮上領域４３３の下流側に位置する第２の予備浮上領域４３５には、第２の予備給気回路が配置される。図１０に示されるように、前述の第１の予備給気回路と同様に、給気口４４７と、給気口４４７を互いに連通する給気用溝４２５と、給気用溝４２５に連通する単一の内部給気貫通口４２８と、内部給気貫通口４２８と不図示の気体源を連結する単一の給気貫通口４３０と、を有する。

給気口４４７はトッププレート４０４に設けられた厚さ方向に貫通する孔であり、一方の端部は被支持部材３００側に開口しており、他方の端部は経路構成プレート４８１側に開口している。
内部給気貫通口４２８は、経路構成プレート４８１の上面４８１ｂに設けられている給気用溝４２５に接続し、経路構成プレート４８１をその厚さ方向に貫通する穴である。経路構成プレート４８１の上面４８１ｂをトッププレート４０４の下面４０４ｂに接合することにより、給気口４４７同士を連通する内部給気通路４３２が形成される。また、内部給気通路４３２により、第２の予備浮上領域４３５内に配置される給気口４４７のみが互いに連通する。

ボトムプレート４８３は、その厚さ方向（図１０の上下方向）に貫通する給気貫通口４３０を有する。給気貫通口４３０は、内部給気貫通口４２８に連通するように形成されている。なお、本実施形態の第２の予備給気回路は、単一の給気貫通口４３０及び内部給気貫通口４２８を備える。従って、不図示の気体源から供給される圧縮気体は、給気貫通口４３０、内部給気貫通口４２８を通り、内部給気通路４３２を介し各給気口４４７から、被支持物３００に対し付与される。さらに、前述の主給気回路、第１及び第２の予備給気回路は、互いに分離した別回路であるので、上記給気回路からの浮上力は、互いに独立して個別に被支持物３００に付与することができる。

上記構成の浮上用プレート４０３を有する非接触支持装置により被支持物３００を浮上支持する動作について説明する。被支持物３００が搬送方向に４４９に沿って進み、第１の予備浮上領域４３１の給気口４４３及び吸引口４３７を部分的に覆う位置に前縁部Ｆが到達すると、被支持物３００に対して、給気口４４３、４５１、４５２から噴出される圧縮気体による浮上力が加わるとともに、吸引口４３７からの吸引力が加わる。この状態では、給気口４４３及び吸引口４３７の全てが覆われている状態ではないため、被支持物３００の長手方向（前縁部Ｆ又は後縁部Ｅが延びる方向）に関し浮上力及び吸引力にばらつきが生じる可能性がある。

さらに、搬送方向４４９に沿って被支持物３００が進み、第１の予備浮上領域４３１の平面視において給気口４４３及び吸引口４３７の全てを覆うと、浮上用プレート４０３の支持面４０３ａから所定距離離間した状態で被支持物３００が非接触支持される。被支持物３００は、第１の予備浮上領域４３１の全ての給気口４４３及び吸引口４３７を平面視において覆う位置となり、給気口４４３から吐出される所定圧力の気体による浮上力と、吸引口４３７から所定の排気速度で気体が排出されることによる所定の吸引力が被支持物３００に付与されるからである。この状態では、第１の予備浮上領域４３１に延在している被支持物３００の部位について、被支持物３００の長手方向（前縁部Ｆ又は後縁部Ｅの延在する方向）における浮上量のばらつきは解消される。

さらに、被支持物３００が、搬送方向４４９の下流側に進み、前縁部Ｆが、浮上用プレート４０３の平面視において主浮上領域４３３に進入する。このときには、主浮上領域４３３に配置される一部の吸引口４３９から供給される吸引力及び給気口４４５の一部から供給される浮上力を受けている状態となる。すなわち、平面視において被支持物３００が主浮上領域４３３の一部の吸引口４３９及び給気口４４５が覆われている状態であるので、主浮上領域４３３に延在する前縁部Ｆを含む部位には、所定の浮上力と吸引力が付与されない。

しかし、平面視において、被支持物３００が第１の予備浮上領域４３１の吸引口４３７及び給気口４４３を全て覆っている状態であるので、第１の予備浮上領域４３１に延在する被支持物３００の部位は、所定の支持剛性力が得られる。従って、被支持物３００の主浮上領域４３３に延在する前縁部Ｆを含む部位は、所定の浮上量とほぼ同一の浮上量で非接触支持することができる。結果として、スリットノズル（図１の参照符号１１３参照。）から被支持物３００に対して所望の精度で塗液を塗布することが可能となる。

被支持物３００が、搬送方向４４９の下流側にさらに進行し、被支持物３００が平面視で主浮上領域４３３に配置される吸引口４３９及び給気口４４５の全てを覆う位置に前縁部Ｆが到達した状態では、前述の通り所定の浮上量で非接触支持される。

被支持物３００が搬送方向４４９の下流側にさらに進み、被支持物３００の後縁部Ｅが主浮上領域４３３内に進入し、主浮上領域４３３の吸引口４３９及び給気口４４５の一部が被支持物３００により覆われないような位置に到達すると、主浮上領域４３３において、被支持物３００に対して所定の吸引力及び浮上力が供給できず支持剛性力が得られない。

しかし、被支持物３００は、平面視において第２の予備浮上領域４３５に配置されるすべての吸引口４４１及び給気口４４７を覆われると、被支持物３００の、第２の予備浮上領域４３５に延在する部位で所定の支持剛性力が得られている。従って、主浮上領域４３３に配置される吸引口４３９の一部が覆われていない状態であるにも拘わらず、被支持物３００は所定の浮上量又はそれにほぼ近い浮上量で非接触支持される。結果として、スリットノズル１１３から被支持物３００に対して所望の精度で塗液を塗布することが可能である。

また、主吸引回路及び第１及び第２の予備吸引回路による吸引と、主給気回路及び第１及び第２の予備給気回路による給気は、浮上用プレート４０３の支持面４０３ａの平面視において、被支持物３００により吸気口、給気口の開口が一部でも覆われる前に開始されるように制御部（図１の参照符号１３０を参照。）により制御される。さらに、第１及び第２の予備吸引回路並びに第１及び第２の予備給気回路の各々は、選択的に使用する構成とすることも可能である。

上述の通り、第１の実施形態に係る浮上用プレート１０３を用いる非接触支持装置に比べ、第３の実施形態に係る浮上用プレート４０３を用いる非接触支持装置では、主給気回路並びに第１及び第２の予備給気回路による給気が行われるので、高精度に浮上量を制御することができる。

なお、主吸引回路、第１及び第２の予備吸引回路による吸引、並びに主給気回路、第１及び第２の予備給気回路による給気は、浮上用プレート４０３の支持面４０３ａの平面視において、被支持物３００により各回路を構成する吸気口又は給気口が一部でも覆われる前に開始されるように制御部（図１の参照符号１３０参照）により制御される。

〔第４の実施形態〕
第４の実施形態の浮上用プレート５０３について、図面を参照しつつ説明する。図１１は、第４の実施形態に係る浮上用プレート５０３を示す平面図であり、図１２は、図１１の線ＸＩＩ−ＸＩＩに沿った断面図であり、図１３は、図１１の線ＸＩＩＩ−ＸＩＩＩ、線ＸＩＶ−ＸＩＶに沿った断面図である。

第４の実施形態に係る非接触支持装置の浮上用プレート５０３は、図６に示される第２の実施形態に係る浮上用プレート２０３と同様に、主吸引回路、第１及び第２の予備吸引回路、側方主吸引回路、並びに第１及び第２の側方予備吸引回路を備えることに加え、側方主浮上領域５６５内に側方主給気回路、並びに第１及び第２の側方予備浮上領域５６４、５６９内に、第１及び第２の側方予備給気回路を備える。すなわち、第４の実施形態に係る非接触支持装置の浮上用プレート５０３は、第２の実施形態の浮上用プレート２０３と同じ吸引回路を備え、第３の実施形態の浮上用プレート４０３と同じ主給気回路及び第１及び第２の予備給気回路を備える。従って、浮上用プレート５０３の側方主給気回路、並びに第１及び第２の側方予備給気回路を主として説明する。

浮上用プレート５０３の側方主浮上領域５６５は、搬送方向５４９に視て左右両端部側に側方主浮上領域５６５ａ、５６５ｂを有し、それぞれの領域５６５ａ、５６５ｂに側方主吸引回路及び側方主給気回路が配置される。図１１に示すように、左側（又は右側）に配置される側方主浮上領域５６５ａ（５６５ｂ）内には、第２の実施形態と同様に一方の側方主吸引回路（又は他方の側方主吸引回路）と、一方の側方主給気回路（又は他方の側方主給気回路）とを有する。側方主給気回路は、給気口５７５ａ（５７５ｂ）と、給気口５７５ａ（５７５ｂ）に連通し、経路構成プレート５８１を貫通する内部給気貫通口５７６ａ（５７６ｂ）と、内部給気貫通口５７６ａ（５７６ｂ）に連通し、ボトムプレート５８３をその厚さ方向に貫通する給気貫通口５８９ａ（５８９ｂ）と、を有する。

従って、例えば、左側の側方主給気回路では、給気貫通口５８９ａが、不図示の気体源に接続され、給気貫通口５８９ａ、内部給気貫通口５７６ａを介し給気口５７５ａから圧縮気体が付与される。なお、左右の側方主給気回路の給気貫通口５８９ａ、５８９ｂは、それぞれ、別個の給気回路である。従って。左右の側方主浮上領域５６５内の側方主給気回路を用いることで、互いに独立して個別に浮上力を付与することができる。

側方主浮上領域５６５の搬送方向５４９に対して上流側に位置する第１の側方予備浮上領域５６４内には、気体を吸引するための吸引口５６３と、気体を吐出するための給気口５７３が配置されている。図１３に示すように、左側（右側）の第１の側方予備浮上領域５６４ａ（５６４ｂ）に配置される第１の側方予備給気回路は、給気口５７３ａ（５７３ｂ）と、給気口５７３ａ（５７３ｂ）に連通し、経路構成プレート５８１の厚さ方向に貫通する内部給気貫通口５２２ａ（５２２ｂ）と、内部給気貫通口５２２ａ（５２２ｂ）に連通し、ボトムプレート５８３の厚さ方向に貫通する給気貫通口５２４ａ（５２４ｂ）と、を有する。給気貫通口５２４ａ（５２４ｂ）は、不図示の気体源に接続され、圧縮気体が給気貫通口５２４ａ（５２４ｂ）、内部給気貫通口５２２ａ（５２２ｂ）を介し給気口５７３ａ（５７３ｂ）から付与される。このように、搬送方向５４９に関し左右に配置される第１の側方予備給気回路を別個の回路とすることにより、搬送方向５４９に対し左右両側端部領域で互いに分離された両第１の側方予備給気回路は、互いに独立して個別の浮上力を付与することができる。

搬送方向５４９に関し左右に配置される第２の側方予備浮上領域５６９ａ、５６９ｂには、第１の側方予備浮上領域５６４と同様に、同一の第２の側方予備給気回路が配置されている。左側（右側）の第２の側方予備浮上領域５６９ａ（５６９ｂ）内に配置される第２の側方予備給気回路は、図１３の大括弧（［］）で括られている参照符号で示すように、給気口５７７ａ（５７７ｂ）と、給気口５７７ａ（５７７ｂ）に連通し、経路構成プレート５８１の厚さ方向に貫通する内部給気貫通孔５７８ａ（５７８ｂ）と、内部給気貫通口５７８ａ（５７８ｂ）に連通し、ボトムプレート５８３の厚さ方向に貫通する給気貫通口５２６ａ（５２６ｂ）と、を有する。給気貫通口５２６ａ（５２６ｂ）は、不図示の気体源に接続され、圧縮気体が給気貫通口５２６ａ（５２６ｂ）、内部給気貫通口５７８ａ（５７８ｂ）を介し給気口５７７ａ（５７７ｂ）から付与される。従って、左右の第２の側方予備浮上領域５６９ａ（５６９ｂ）内の第２の側方予備給気回路を用いることで、給気口５７７ａ、５７７ｂから、互いに独立して個別に浮上力を付与できる。

上記構成の非接触支持装置により被支持物３００を浮上支持する動作について説明する。被支持物３００が搬送方向５４９に沿って進み、第１の予備浮上領域５３１の吸引口５３７及び第１の側方予備浮上領域５６４の吸引口５６３及び給気口５７３を部分的に覆う位置に前縁部Ｆが到達すると、被支持物３００に対して、給気口５４３、５５１、５５２から噴出される圧縮気体による浮上力が加わるとともに、吸引口５３７、５６３からの吸引力が加わる。この状態では、吸引口５６３及び給気口５７３の全体が覆われている状態ではないため、被支持物３００の左右縁部Ｌ、Ｒ側の部位の浮上量が、被支持部３００の短手方向内方に比べばらつきが生じる可能性がある。

さらに、搬送方向５４９に沿って被支持物３００が進み、浮上用プレート５０３の平面視において第１の予備浮上領域５３１及び第１の側方予備浮上領域５６４の吸引口５３７、５６３、給気口５４３、５７３の全てを覆うと、浮上用プレート５０３の支持面５０３ａから所定距離離間した状態で被支持物３００が非接触支持される。被支持物３００は、第１の予備浮上領域５３１及び第１の側方予備浮上領域５６４の全ての吸引口５３７、５６３、及び給気口５４３、５７３を平面視において覆う位置となり、給気口５４３、５７３から所定の浮上力が被支持物３００へ付与されるとともに、吸引口５３７、５６３から所定の排気速度で気体が排出され、所定の吸引力が被支持物３００に付与される。この状態では、第１の予備浮上領域５３１及び第１の側方予備浮上領域５６４に延在している被支持物３００の部位について、被支持物３００の短手方向（前縁部Ｆ又は後縁部Ｅの延在する方向）における浮上量のばらつきが抑制される。

さらに、被支持物３００が、搬送方向５４９の下流側に進み、前縁部Ｆが、浮上用プレート５０３の平面視において主浮上領域５３３及び側方主浮上領域５６５に進入する。このときには、主浮上領域５３３及び側方主浮上領域５６５に配置される一部の吸引口５３９、５６７から供給される吸引力及び給気口５４５、５７５の一部から供給される浮上力を受けている状態となる。すなわち、平面視において被支持物３００が主浮上領域５３３及び側方主浮上領域５６５の一部の吸引口５３９、５６７及び給気口５４５、５７５が覆われている状態であるので、主浮上領域５３３及び側方主浮上領域５６５に延在する前縁部Ｆを含む部位には、所定の吸引力及び浮上力が付与されない。

しかし、平面視において、被支持物３００が第１の予備浮上領域５３１の吸引口５３７及び給気口５４３並びに第１の側方予備浮上領域５６４の吸引口５６３及び給気口５７３を全て覆っている状態であるので、第１の予備浮上領域５３１及び第１の側方予備浮上領域５６４に延在する被支持物３００の部位は、所定の支持剛性力が得られる。従って、被支持物３００の主浮上領域５３３及び側方主浮上領域５６５に延在する前縁部Ｆを含む部位は、所定の浮上量とほぼ同一の浮上量で非接触支持することができる。さらに、被支持物３００の左右縁部Ｌ、Ｒ側の部位は、幅方向内側の部位に比較しても、浮上量のばらつきをさらに抑制できる。結果として、スリットノズル（図１の参照符号１１３参照。）から被支持物３００の幅方向に関しても所望の精度で塗液を塗布することが可能である。

被支持物３００が、搬送方向５４９の下流側にさらに進行し、被支持物３００が平面視で主浮上領域５３３、及び側方主浮上領域５６５に配置される吸引口５３９、５６７及び給気口５４５、５７５の全てを覆う位置に前縁部Ｆが到達した状態では、前述の通り所定の浮上量で非接触支持される。

被支持物３００が搬送方向５４９の下流側にさらに進み、被支持物３００の後縁部Ｅが主浮上領域５３３及び側方主浮上領域５６５に進入し、主浮上領域５３３及び側方主浮上領域５６５の吸引口５３９、５６７及び給気口５４５、５７５の一部が、被支持物３００により覆われない位置に到達すると、主浮上領域５３３及び側方主浮上領域５６５において、被支持物３００に対して所定の吸引力及び浮上力を付与できず所定の支持剛性力が得られない。

しかし、被支持物３００は、平面視において第２の予備浮上領域５３５及び第２の側方予備浮上領域５６９に配置されるすべての吸引口５４１、５７１及び給気口５４７、５７７を覆う位置にある場合には、被支持物３００の、第２の予備浮上領域５３５及び第２の側方予備浮上領域５６９に延在する部位で所定の支持剛性力が得られている。従って、主浮上領域５３３及び側方主浮上領域５６５に配置される吸引口５３９、５６７及び給気口５４５、５７５の一部が覆われていない状態であるにも拘わらず、被支持物３００は所定の浮上量又はそれにほぼ近い浮上量で非接触支持される。結果として、スリットノズル（図１の参照符号１１３参照。）から被支持物３００に対して所望の精度で塗液を塗布することが可能である。

上述の通り、浮上プレート５０３は、側方主吸引回路及び第１及び第２の側方予備吸引回路に加え、側方主給気回路及び第１及び第２の側方予備給気回路を備えるので、第３の実施形態の浮上プレート４０３を利用する場合に比べ、被支持物３００の左縁部Ｌ及び右縁部Ｒ側の部位に作用する支持剛性力を高めることができる。発明者等が鋭意研究したところ、被支持物３００の幅方向の左右縁部Ｌ、Ｒ側では、幅方向内側に比べ、被支持物３００の浮上量に若干のばらつきが生じる傾向が見られる。これは、被支持物３００の左右縁部Ｌ、Ｒの幅方向外側には、吸引及び給気する対象物が存在しないため（被支持物と浮上プレートとにより画成される閉じた空間が形成されないことにより）、被支持物３００の幅方向内側に比べ、被支持物３００の左右縁部Ｌ、Ｒ側への吸引力及び浮上力が減少するためと考えられる。そこで、第４の実施形態では、被支持物３００の幅方向の左右縁部Ｌ、Ｒ側において吸引力及び浮上力の減少を抑制するため、側方主浮上領域５６５の側方主吸引回路及び側方主給気回路、第１及び第２の側方予備浮上領域５６４、５６９の第１及び第２の側方予備吸引回路並びに第１及び第２の側方予備給気回路を設けることで、被支持物３００の幅方向に関する支持剛性力の均一化を確保している。

なお、被支持物３００の幅方向に関し必要な支持剛性力に応じて、左右の側方主浮上領域５６５ａ、５６５ｂの側方主吸引回路及び側方主給気回路の一方又は両方を作動させる構成や、左右の両方又は一方の側方主吸引回路及び側方主給気回路に加え、第１及び第２の側方予備浮上領域５６４、５６９の左右の第１及び第２の側方予備吸引回路並びに第１及び第２の側方予備給気回路のいずれかを作動させる構成等、適宜変更できる。

なお、第４の実施形態の浮上用プレート５０３の給気口５５１は、第１乃至第３の実施形態の搬送方向に沿って配置される給気口１５１、２５１、４５１が互いに連通する構成とは異なり、各々不図示の内部給気貫通口及び給気貫通口を介し気体源に連結する構成としている。しかし、全ての又は一部の給気口５５１を共通する気体源に連結する構成とすることも可能である。

なお、主吸引回路、第１及び第２の予備吸引回路、側方主吸引回路、及び第１及び第２の側方予備吸引回路による吸引、並びに主給気回路、第１及び第２の予備給気回路、側方主給気回路、第１及び第２の側方予備給気回路による給気は、浮上用プレート５０３の支持面５０３ａの平面視において、被支持物３００により各回路を構成する吸気口又は給気口が一部でも覆われる前に開始されるように制御部（図１の参照符号１３０参照）により制御される。

第１乃至第４の実施形態の浮上用プレート１０３、２０３、４０３、５０３は、トッププレート１０４、２０４、４０４、５０４、経路構成プレート１８１、２８１、４８１、５８１、ボトムプレート１８３、２８３、４８３、５８３の３つの部材から構成されているが、複数の吸引回路を有し、かつ互いに独立して吸引力を付与できる構成又は複数の給気回路を有し、かつ互いに独立して浮上力を付与できる構成であれば、浮上用プレートを構成する部材の数は適宜変更できる。

第１乃至第４の実施形態の浮上用プレート１０３、２０３、４０３、５０３の第１の予備浮上領域１３１、２３１、４３１、５３１、主浮上領域１３３、２３３、４３３、５３３、第２の予備浮上領域１３５、２３５、４３５、５３５を通じて、吸引口と給気口とが互い違いに配置される構成としている。しかし、被支持物の形状、寸法等に応じて吸引力や浮上力を調整するために、給気口や吸引口の数、形状、径寸法、配置等を変更できることは言うまでもない。

第１乃至第４の実施形態の浮上用プレート１０３、２０３、４０３、５０３は、塗布装置１０１の定盤１１１の上面１１１ａに載置される構成であるが、定盤１１１自体に浮上用プレート１０３、２０３、４０３、５０３が備える主吸引回路、第１及び第２の予備吸引回路、側方主吸引回路、第１及び第２の側方予備吸引回路、及び主給気回路、第１及び第２の予備給気回路、側方主給気回路、第１及び第２の側方予備給気回路を適宜組み合わせて設けることも可能である。

第１乃至第４の実施形態では、浮上用プレート１０３、２０３、４０３、５０３を定盤１１１に載置し、被支持物３００を搬送する構成であるが、浮上用プレート及びガントリを移動式にし、被支持物３００を定盤１１１に載置する構成とすることも可能である。

また、第１乃至第４の実施形態の主浮上領域内、並びに第１及び第２の予備浮上領域内には、気体を吸引するための吸引口と、圧縮気体を吐出するための給気口が浮上用プレートの平面視において互い違いに所定ピッチで配置されている。隣り合う給気口間のピッチ寸法、隣り合う吸引口間のピッチ寸法、及び隣り合う給気口と吸引口との間のピッチ寸法、径の大きさ、穴数等は、被支持物３００の寸法、重量、形状等により適宜変更できることは言うまでもない。第２及び第４の実施形態の側方主浮上領域内、並びに第１及び第２の側方予備浮上領域内に配置される吸引口及び給気口についても同様である。

第２及び第４の実施形態では、搬送方向に関し左右に配置される、側方主吸引回路並びに第１及び第２の側方予備吸引回路は、それぞれ独立して作動する構成としたが、共通の気体源に連結することも可能である。同様に、第２及び第４の実施形態では、搬送方向に関し左右に配置される、側方主給気回路並びに第１及び第２の側方予備給気回路は、それぞれ独立して作動する構成であるが、共通の気体源に連結する構成とすることも可能である。

１０１ 塗布装置
１０２ 非接触支持装置
１０３ 浮上用プレート
１０３ａ 支持面
１０４ トッププレート
１０９ ガントリ
１１１ 定盤
１１１ａ 上面
１１３ スリットノズル
１３０ 制御部
１３１、２３１、４３１、５３１ 第１の予備浮上領域
１３３、２３３、４３３、５３３ 主浮上領域
１３５、２３５、４３５、５３５ 第２の予備浮上領域
１３７、１３９、１４１、２６３、２６３ａ、２６３ｂ、２６７、２６７ａ、２６７ｂ、２７１、２７１ａ、２７１ｂ、４３７、４３９、４４１、５３７、５３９、５４１、５６３、５６３ａ、５６３ｂ、５６７、５６７ａ、５６７ｂ、５７１、５７１ａ、５７１ｂ、 吸引口
１４９、２４９、４４９、５４９ 搬送方向
１５１、１７３、１７５、１７７、２４３、２４５、２４７、２５１、２７３、２７５、２７７、４４３、４４５、４４７、４５１、４５２、４７３、４７５、４７７、５４３、５４５、５４７、５５１、５７３、５７５、５７７、 給気口
１８１ 経路構成プレート
１８３ ボトムプレート
２６４、２６４ａ、２６４ｂ、５６４、５６４ａ、５６４ｂ 第１の側方予備浮上領域
２６５、２６５ａ、２６５ｂ、５６５、５６５ａ、５６５ｂ 側方主浮上領域
２６９、２６９ａ、２６９ｂ、５６９、５６９ａ、５６９ｂ 第２の側方予備浮上領域
３００ 被支持物

Claims (14)

1. 気体を吐出させることにより被支持物を非接触に支持する支持面を有する浮上用プレートを備え、
   前記支持面には、前記被支持物に対する処理が行われる処理領域が延在し、
   前記浮上用プレートは、前記処理領域に設けられる吸引力を付与するための主吸引回路と、前記被支持物が前記浮上用プレートに対して相対移動する搬送方向に関し前記処理領域の上流側に、前記主吸引回路とは独立して吸引力を付与するための第１の予備吸引回路と、前記搬送方向に直交する幅方向において前記処理領域より前記浮上用プレートの中心から遠い位置に配置される、独立して吸引力を付与するための側方主吸引回路と、を有することを特徴とする非接触支持装置。
2. 前記浮上用プレートは、前記搬送方向に関し前記処理領域の下流側に、前記主吸引回路及び前記第１の予備吸引回路とは独立して吸引力を付与するための第２の予備吸引回路を有することを特徴とする請求項１に記載の非接触支持装置。
3. 前記浮上用プレートは、前記搬送方向に直交する幅方向において前記処理領域より前記浮上用プレートの中心から前記第１の予備吸引回路及び第２の予備吸引回路の少なくとも一方より遠い位置に、独立して吸引力を付与するための側方予備吸引回路を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の非接触支持装置。
4. 前記浮上用プレートは、前記処理領域に設けられる浮上力を付与するための主給気回路と、前記搬送方向に関し前記処理領域の上流側に、前記主給気回路とは独立して浮上力を付与するための第１の予備給気回路とを有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の非接触支持装置。
5. 前記浮上用プレートは、前記搬送方向に関し前記処理領域の下流側に、前記主給気回路及び前記第１の予備給気回路とは独立して浮上力を付与するための第２の予備給気回路を有することを特徴とする請求項４に記載の非接触支持装置。
6. 前記浮上用プレートは、前記搬送方向に直交する幅方向において前記処理領域より前記浮上用プレートの中心から前記処理領域より遠い位置に、独立して浮上力を付与するための側方主給気回路を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の非接触支持装置。
7. 前記浮上用プレートは、前記搬送方向に直交する幅方向において前記処理領域より前記浮上用プレートの中心から前記第１の予備給気回路及び第２の予備給気回路の少なくとも一方より遠い位置に、独立して浮上力を付与するための側方予備給気回路を有することを特徴とする請求項４、５及び請求項４又は５に従属する請求項６のいずれかに記載の非接触支持装置。
8. 気体を吐出させることにより被支持物を非接触に支持する非接触支持方法であって、
   前記被支持物が処理される処理領域に延在する前記被支持物に対し吸引力を付与する主吸引を行い、
   前記被支持物が搬送される搬送方向に関し、前記処理領域の上流側で吸引力を付与する第１の予備吸引を行い、
   前記搬送方向に直交する幅方向において前記処理領域より前記浮上用プレートの中心から離れる位置で独立して吸引力を付与する側方主吸引を行い、
   前記主吸引及び前記第１の予備吸引は互いに独立して行なわれることを特徴とする非接触支持方法。
9. 前記搬送方向に関し前記処理領域より下流側で、吸引力を付与する第２の予備吸引を行い、前記主吸引並びに前記第１及び第２の予備吸引は互いに独立して行なわれることを特徴とする請求項８に記載の非接触支持方法。
10. 前記搬送方向に直交する幅方向において前記処理領域より前記浮上用プレートの中心から前記第１及び第２の予備吸引の少なくとも一方が行われる位置から離れる位置で独立して吸引力を付与する側方予備吸引を行うことを特徴とする請求項８又は９に記載の非接触支持方法。
11. 前記処理領域に延在する前記被支持物に対し浮上力を付与する主給気を行い、
    前記処理領域の上流側で浮上力を付与する第１の予備給気を行い、
    前記主給気及び前記第１の予備給気は互いに独立して行なわれることを特徴とする請求項８〜１０のいずれかに記載の非接触支持方法。
12. 前記搬送方向に関し前記処理領域より下流側で、浮上力を付与する第２の予備給気を行い、前記主給気並びに前記第１及び第２の予備給気は互いに独立して行なわれることを特徴とする請求項１１に記載の非接触支持方法。
13. 前記搬送方向に直交する幅方向において前記処理領域より前記浮上用プレートの中心から離れる位置で独立して浮上力を付与する側方主給気を行うことを特徴とする請求項８〜１２のいずれかに記載の非接触支持方法。
14. 前記搬送方向に直交する幅方向において前記処理領域より前記浮上用プレートの中心から前記第１及び第２の予備給気の少なくとも一方が行われる位置から離れる位置で独立して浮上力を付与する側方予備給気を行うことを特徴とする請求項１１、１２及び請求項１１又は１２に従属する請求項１３のいずれかに記載の非接触支持方法。

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