JP6218243B2 - 真空バルブ - Google Patents

Description

本発明は真空バルブに関し、特に電子ビーム溶接装置や電子ビーム露光装置向けに好適な真空バルブに関する。

少なくとも一方が真空にされる二つの空間を連通する連通部を有する電子ビーム溶接装置や電子ビーム露光装置などの真空処理装置が知られている。また、このような連通部の開閉をする真空バルブが知られている。

特許文献１には、連通部を開閉する弁体を駆動させる機構として、空気圧シリンダにより直線移動するラックギヤと、回動可能に軸支されラックギヤと噛み合う扇形歯車と、一端が扇形歯車の軸に取り付けされ、他端が弁体を保持する弁体保持部に連結されたリンクと、を有する真空バルブが記載されている。リンクと弁体保持部との連結は、具体的には、リンクの長手方向他端に立設されたピンが、弁体保持部に形成された水平方向に延びる溝と嵌合することによりされている。扇形歯車が回動すると、これに追随してリンクが扇形歯車の軸を中心に回動（振り子運動）する。リンクが回動すると、弁体保持部に形成された溝に沿ってリンク他端に設けられたピンが往復移動する。ピンが溝の中央に位置するときに弁体は最下点の位置にあり、連通部が弁体によって覆われる（バルブが“閉”の状態）。一方、上述のピンが溝の中央から端へと移動すると、連通部を覆っていた弁体が引き上げられてバルブが“開”の状態になる。

特開昭５８−０３７９２２号公報

特許文献１に記載の真空バルブでは、バルブが“閉”の状態において連通部のシール面は弁体によって覆われているが、バルブが“開”の状態において連通部のシール面は空間に露出している。バルブが“開”の状態で真空処理を行う際に、処理対象物などから異物が発生する場合がある。例えば、電子ビーム溶接では、処理対象物であるワークの溶接をする際にスパッタと呼ばれる金属粉などの異物が発生する。このため、バルブが“開”の状態において、真空処理中に発生した異物が連通部のシール面に付着するおそれがある。異物が連通部のシール面に付着すると、バルブを“閉”の状態にしたときの気密性が損なわれる場合がある。

また、特許文献１に記載の真空バルブのように、弁体を駆動させる機構に軸を中心に回動するリンクを用いると、リンクの通過領域が他の部材を配置できないデッドスペースになるので、その分、バルブの開閉動作に必要なスペースが増え真空バルブが大型化する。

本発明は、以上の背景に鑑みなされたものであり、バルブを閉じた状態での気密性が損なわれ難くするとともに、バルブの開閉動作に必要なスペースを抑えることができる真空バルブを提供することを目的とする。

本発明は、少なくとも一方が真空にされる上下方向に沿って並んだ二つの空間の間を連通する連通部の開閉をする真空バルブであって、連通穴を有する開部と前記連通穴を有していない閉部とが前後方向に沿って並んだ弁体と、前記弁体の左右側方にそれぞれ一以上配置され、長手方向一端にはピニオンギヤが取り付けられ長手方向他端は前記弁体の側面に回動自在に軸支された複数の支持部材と、前後方向に延在するギヤ部が前記ピニオンギヤと噛み合うよう前記弁体の左右側方にそれぞれ配置された複数のラックギヤと、前記複数のラックギヤを、前後方向の一方の位置と前後方向の他方の位置との間で同期して往復直線移動させる駆動部と、を備え、前記複数のラックギヤが前記一方の位置にあるときに前記連通部が前記開部によって覆われ、前記複数のラックギヤが前記他方の所定位置にあるときに前記連通部が前記閉部によって覆われるよう前記弁体が配置されるものである。

バルブが閉じた状態での気密性が損なわれ難くするとともに、バルブの開閉動作に必要なスペースを抑えることができる。

実施の形態１にかかる真空バルブの概略構成を示す斜視図である。 実施の形態２にかかる真空バルブを適用する電子ビーム溶接装置２００の概略構成を示す図である。 実施の形態２にかかる真空バルブの概略構成を示す斜視図である。 図３に示す真空バルブからベースプレートを取り去った状態を示す斜視図である。 図３に示す真空バルブにスパッタ防止用のカバーを取り付けた状態を示す斜視図である。 実施の形態２にかかる、真空バルブが“閉”の状態から“開”の状態へと移行する際の一連の動作を説明する図である。 実施の形態２にかかる、真空バルブが“開”の状態から“閉”の状態へと移行する際の一連の動作を説明する図である。 実施の形態２にかかる、真空バルブを電子ビーム溶接装置に取り付けたときに、真空バルブが“閉”の状態、弁体が移動中の状態、真空バルブが“開”の状態、のそれぞれにおける、電子ビーム溶接装置の連通部と弁体との位置関係について説明する図である。 実施の形態３にかかる真空バルブの概略構成を示す斜視図である。 実施の形態４にかかる真空バルブの概略構成を示す斜視図である。

[実施の形態１]
以下、図面を参照して本発明の実施の形態１について説明する。
本実施の形態の真空バルブ３００は、少なくとも一方が真空にされる上下方向に沿って並んだ二つの空間の間を連通する連通部の開閉をするものである。図１は、真空バルブ３００の概略構成を示す斜視図である。図１において、前後方向をＸ方向、左右方向をＹ方向、上下方向をＺ方向、としている。図１に示すように、真空バルブ３００は、弁体３０１と、複数（図１では４個）の支持部材３０２と、複数（図１では２本）のラックギヤ３０４と、駆動部３０６と、を備えている。

弁体３０１は、前後方向に沿って並ぶ、連通穴３０１ｃが形成された開部３０１aと、連通穴が形成されていない閉部３０１ｂと、を有する。支持部材３０２は、弁体３０１の左右側方にそれぞれ一以上（図１では左右側方にそれぞれ２個）配置される。支持部材３０２は、長手方向一端にはピニオンギヤ３０３が取り付けられ、長手方向他端は弁体３０１の側面に回動自在に軸支される。

ラックギヤ３０４は、前後方向に延在するギヤ部３０４ａがピニオンギヤ３０３と噛み合うよう弁体３０１の左右側方にそれぞれ配置される。駆動部３０６は、複数のラックギヤ３０４を、前後方向の一方の位置と前後方向の他方の位置との間で同期して往復直線移動させる。駆動部３０６からの駆動力を弁体３０１に伝達する手段であるラックギヤ３０４が往復直線移動させるため、特許文献１に記載の真空バルブのように、弁体を駆動させる機構に軸を中心に回動するリンクを用いる場合に対し、バルブの開閉動作に必要なスペースを抑えることができる。

ラックギヤ３０４が一方の位置にあるときに、連通部が開部３０１ａによって覆われ、真空バルブ３００は“開”の状態になる。また、ラックギヤが他方の所定位置にあるときに、連通部が閉部３０１ｂによって覆われ、真空バルブ３００は“閉”の状態になる。真空バルブ３００が“開”の状態でも、連通部のシール面（弁体３０１に設けられたＯリングなどの真空シールと接する面）が弁体３０１の開部３０１ａに覆われるので、真空バルブ３００が“開”の状態で行われる真空処理において発生する異物などが連通部のシール面に付着し難くなる。これにより、バルブを閉じた時の気密性が損なわれ難くすることができる。

[実施の形態２]
以下、図面を参照して本発明の実施の形態２について説明する。
まず、本実施の形態にかかる真空バルブ１００を適用する真空処理装置としての電子ビーム溶接装置２００の概略構成について以下で説明する。図２は、電子ビーム溶接装置２００の概略構成を示す図である。図２に示すように、電子ビーム溶接装置２００は、電子銃２０１と、集束コイル２０２と、偏向コイル２０３と、を備えている。

電子銃２０１、集束コイル２０２及び偏向コイル２０３は、それぞれの中心軸が一致するように配設されている。電子銃２０１は、フィラメント２０１ａなどを備え、電源２０１ｂよりフィラメント２０１ａに高電圧が印加されることで、所定のエネルギーを持つ電子ビームＬを放出する。集束コイル２０２は、電子銃２０１から放射された電子ビームＬを集束するコイルである。偏向コイル２０３は、集束コイル２０２によって集束された電子ビームＬを偏向する。

電子ビーム溶接装置２００は、第一の空間としての試料室２０４と、内部に電子銃２０１が配置された第二空間としての準備室２０５と、を備えている。上述した、偏向コイル２０３や集束コイル２０２は、試料室２０４内に配置される。電子ビーム溶接装置２００は、試料室２０４の内部に配置した処理対象物としてのワークＷに対して上述した電子ビームＬを照射することにより、ワークＷの溶接を行う。

準備室２０５内は、ターボ分子ポンプ（ＴＭＰ）２０６により排気され、１×１０^-3[Ｐａ]〜１×１０^-1[Ｐａ]程度の真空に維持される。試料室２０４内は、ワークＷの溶接中には、メカニカルブースターポンプ（ＭＰ）２０７及びロータリーポンプ（ＲＰ）２０８により排気され、１×１０^-3[Ｐａ]〜１×１０^-1[Ｐａ]程度の真空に維持される。ワークＷを試料室２０４から取出しする際には、試料室２０４は大気圧にされる。なお、準備室２０５内の排気には、ターボ分子ポンプ（ＴＭＰ）２０６以外のタイプの真空ポンプを使用してもよい。また、試料室２０４内の排気には、メカニカルブースターポンプ（ＭＰ）２０７及びロータリーポンプ（ＲＰ）２０８以外のタイプの真空ポンプを使用してもよい。

準備室２０５内は、ワークＷを試料室２０４から取出しする際にも１×１０^-3[Ｐａ]〜１×１０^-1[Ｐａ]程度の真空に維持される。その理由は、準備室２０５内を頻繁に大気圧にすると、電子銃２０１のフィラメント２０１ａの寿命が低下することやイオンビームの安定性が損なわれることなど、種々の不具合が懸念されるからである。試料室２０４内を大気圧にしたときに準備室２０５内を真空に維持するために、試料室２０４と準備室２０５との間には真空バルブ１００が配置されている。真空バルブ１００は、試料室２０４と準備室２０５とを連通する連通部２０７の開閉を行う。

次に、本実施の形態にかかる真空バルブ１００の概略構成について説明する。
図３は、真空バルブ１００の概略構成を示す斜視図である。図４は、図３に示す真空バルブ１００からベースプレート８を取り去った状態を示す斜視図である。図３及び図４に示すように、真空バルブ１００は、弁体１と、支持部材としての弁体上下用リンク２と、ピニオンギヤ３と、ラックギヤ４と、連結部材としてのラック連結ブロック５と、駆動部としての駆動用シリンダ６と、を備えている。

弁体１は直方体状の部材で、前後方向に沿って並ぶ、連通穴１ｃが形成された開部１aと、連通穴が形成されていない閉部１ｂと、を有する。なお、図３〜図７において、前後方向をＸ方向、左右方向をＹ方向、上下方向をＺ方向、としている。開部１ａ及び閉部１ｂの下面には、それぞれ真空シールとしてのＯリングが設けられている。弁体１の設計においては、準備室が真空に維持されている状態で試料室２０４を大気圧にしたときにも十分に耐圧し得るよう、材質や寸法（長さ、幅、厚さ）などを決める。

弁体１は、開部１ａと閉部１ｂとを一体として構成しても別体として構成してもよい。開部１ａと閉部１ｂとを別体として構成する場合には、開部１ａと閉部１ｂとをそれぞれ異なる材質で形成してもよい。真空バルブ１００を上述した電子ビーム溶接装置２００に適用する場合、イオンビームＬの誤射などにより、バルブが“閉”の状態でイオンビームＬが発射されることも考えられる。バルブが“閉”の状態で電子銃２０１（図２参照）からイオンビームＬが発射されると、弁体１の閉部１ｂにイオンビームＬが照射される。閉部１ｂに対してイオンビームＬが照射されたときの閉部１ｂの損傷を抑えるため、閉部１ｂには、例えば銅、タングステン、チタンなどの放熱性の良い材料を用いるのが好ましい。一方、開部１ａには、例えばステンレスなどの高剛性な（ヤング率の大きい）材料を用いる。

弁体上下用リンク２は、弁体１の左右側方にそれぞれ２個（合計４個）配置されている。弁体１の下面と、後述する、連通部２０７のＯリングあたり面２０７ａ（図８参照）と、が平行になるよう、弁体１が４個の弁体上下用リンク２により支持される。弁体上下用リンク２の長手方向の一端は、回転支持軸１０により弁体１の側面に回動自在に軸支されている。また、弁体上下用リンク２の長手方向の他端には、ギヤロッド９を介してピニオンギヤ３が設けられている。それぞれの弁体上下用リンク２は、弁体１の左側方の弁体上下用リンク２を弁体１に軸支する回転支持軸１０の中心線と、弁体１の右側方の弁体上下用リンク２を弁体１に軸支する回転支持軸１０の中心線と、が平行になるよう、弁体１に軸支される。

ラックギヤ４は、長手方向にわたってギヤ部４ａを有する棒状の部材である。ラックギヤ４は、ギヤ部４ａが弁体上下用リンク２に取り付けされたピニオンギヤ３と噛み合うよう、弁体１の左右側方に１本ずつ、に配置される。ラック連結ブロック５は、ラックギヤ４の長手方向の両端部において２本のラックギヤ４をそれぞれ連結する。

駆動用シリンダ６は、ラック連結ブロック５を介して、ラックギヤ４を、前後方向（Ｘ方向）の一方の位置と他方の位置との間で往復移動させる。駆動用シリンダ６として、例えば、空気圧によってシリンダを駆動する空気圧シリンダを用いることができる。駆動用シリンダは、前後方向（Ｘ方向）に往復移動するシリンダロット６ａを有している。シリンダロット６ａの先端は、フリージョイント６ｂを介してラック連結ブロック５の中央に固定される。

さらに、真空バルブ１００は、フランジ７と、ベースプレート８と、を備えている。フランジ７は、真空バルブ１００を電子ビーム溶接装置２００などの真空処理装置に取り付けするための板状部材である。フランジ７には、真空処理装置と接触する側の面の四隅に位置決めピン７ａが設けられている。また、フランジ７の真空処理装置と接触する側の面の端付近全周には、気密保持のためのＯリング７ｂを配置する溝が形成されている。

ベースプレート８は、ラックギヤ４の移動方向をガイドするとともに、ギヤロッド９を回動自在に支持する。ベースプレート８のラックギヤ４と接触する箇所には、緩衝用のブッシュ１２が設けられている。ラックギヤ４の位置が、前後方向（Ｘ方向）の、一方の位置及び他方の位置にあるときに、ラックギヤ４の両端にそれぞれ取り付けしたラック連結ブロック５と、ベースプレート８と、が接触するようにする。これにより、ラックギヤ４の前後方向（Ｘ方向）の移動が、前後方向（Ｘ方向）の一方の位置と他方の位置との間の往復移動に規制される。つまり、ベースプレート８とラック連結ブロック５とが、ラックギヤ４の前後方向（Ｘ方向）の移動を規制する規制部材としての役割を果たす。

真空処理を行う際に、処理対象物などから異物が発生する場合がある。例えば、電子ビーム溶接では、処理対象物であるワークＷの溶接部からスパッタと呼ばれる金属粉などの異物が発生する。このような異物がピニオンギヤ３とラックギヤ４との噛み合い箇所に付着すると、弁体１の移動が妨げられる。図５に示すように、ピニオンギヤ３とラックギヤ４とをカバー１１で覆うようにしてもよい。これにより、ピニオンギヤ３とラックギヤ４との噛み合い箇所に異物が付着するのを防止できる。

次に、真空バルブ１００の開閉動作について以下で説明する。
図６は、真空バルブ１００が“閉”の状態から“開”の状態へと移行する際の一連の動作を説明する図である。
図６（ａ）に示すように、真空バルブ１００が“閉”の状態では、弁体１の上下方向における位置は最下位置である。弁体１の上下方向における位置が最下位置の状態から、駆動用シリンダ６のシリンダロット６ａが図中の矢印Ｂ１の向きに移動すると、これに追随してラックギヤ４は図中の矢印Ｂ２の向きに移動する。ラックギヤ４が図中の矢印Ｂ２の向きに移動すると、ラックギヤ４と噛み合うピニオンギヤ３が図中の矢印Ｂ３の向きに回転する。

上述したように、弁体上下用リンク２のギヤロッド９が取り付けされている端部と反対の端部は回転支持軸１０によって回動自在に軸支されている。ピニオンギヤ３が図中の矢印Ｂ３の向きに回転すると、弁体上下用リンク２はギヤロッド９を軸として回転し、弁体上下用リンク２のギヤロッド９が取り付けされている端部と反対の端部は図中の矢印Ｂ４の向きに移動する。弁体上下用リンク２のギヤロッド９が取り付けされている端部と反対の端部が図中の矢印Ｂ４の向きに移動すると、弁体１も図中の矢印Ｂ４の向きに移動する。

図６（ｂ）に示すように、弁体１は、上下方向の位置が最上位置になるまで上昇する。弁体１が最上位置まで上昇した後、シリンダロット６ａが図中の矢印Ｂ１の向きに移動してラックギヤ４が図中の矢印Ｂ２の向きに移動すると、ピニオンギヤ３は図中の矢印Ｂ３の向きにさらに回転する。ピニオンギヤ３が図中の矢印Ｂ３の向きに回転すると、弁体上下用リンク２はギヤロッド９を軸として回転し、弁体上下用リンク２のギヤロッド９が取り付けされている端部と反対の端部は図中の矢印Ｂ５の向きに移動する。弁体上下用リンク２のギヤロッド９が取り付けされている端部と反対の端部が図中の矢印Ｂ５の向きに移動すると、弁体１も図中の矢印Ｂ５の向きに移動する。これにより、図６（ｃ）に示すように、弁体１は、上下方向の位置が最下位置になるまで下降し、真空バルブ１００が“開”の状態になる。

図７は、真空バルブ１００が“開”の状態から“閉”の状態へと移行する際の一連の動作を説明する図である。この動作は、図６を用いて説明した、真空バルブ１００を閉の状態から開の状態にする動作の逆になる。
図７（ａ）に示すように、真空バルブ１００を開の状態では、弁体１の上下方向における位置は最下位置である。弁体１の上下方向における位置が最下位置の状態から、駆動用シリンダ６のシリンダロット６ａが図中の矢印Ｆ１の向きに移動すると、これに追随してラックギヤ４は図中の矢印Ｆ２の向きに移動する。ラックギヤ４が図中の矢印Ｆ２の向きに移動すると、ラックギヤ４と噛み合うピニオンギヤ３が図中の矢印Ｆ３の向きに回転する。

上述したように、弁体上下用リンク２のギヤロッド９が取り付けされている端部と反対の端部は回転支持軸１０によって回動自在に軸支されている。ピニオンギヤ３が図中の矢印Ｆ３の向きに回転すると、弁体上下用リンク２はギヤロッド９を軸として回転し、弁体上下用リンク２のギヤロッド９が取り付けされている端部と反対の端部は図中の矢印Ｆ４の向きに移動する。弁体上下用リンク２のギヤロッド９が取り付けされている端部と反対の端部が図中の矢印Ｆ４の向きに移動すると、弁体１も図中の矢印Ｆ４の向きに移動する。

図７（ｂ）に示すように、弁体１は、上下方向の位置が最上位置になるまで上昇する。弁体１が最上位置まで上昇した後、シリンダロット６ａが図中の矢印Ｆ１の向きに移動してラックギヤ４が図中の矢印Ｆ２の向きに移動すると、ピニオンギヤ３は図中の矢印Ｆ３の向きにさらに回転する。ピニオンギヤ３が図中の矢印Ｆ３の向きに回転すると、弁体上下用リンク２はギヤロッド９を軸として回転し、弁体上下用リンク２のギヤロッド９が取り付けされている端部と反対の端部は図中の矢印Ｆ５の向きに移動する。弁体上下用リンク２のギヤロッド９が取り付けされている端部と反対の端部が図中の矢印Ｆ５の向きに移動すると、弁体１も図中の矢印Ｆ５の向きに移動する。これにより、図７（ｃ）に示すように、弁体１は、上下方向の位置が最下位置になるまで下降し、真空バルブ１００が“閉”の状態になる。

図８は、真空バルブ１００を電子ビーム溶接装置２００に取り付けたときに、真空バルブ１００が“閉”の状態、弁体１が移動中の状態、真空バルブ１００が“開”の状態、のそれぞれにおける、電子ビーム溶接装置２００の連通部２０７と弁体１との位置関係について説明する図である。なお、図８（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ図３のＡ−Ａ線に沿った断面により表わされる。図８（ａ）に示すように、真空バルブ１００が“閉”の状態において、閉部１ｂのＯリングを有する面は連通部２０７のＯリングあたり面２０７ａに押し付けられている。閉部１ｂのＯリングを有する面と、連通部２０７のＯリングあたり面２０７ａとは平行である。

図８（ｂ）に示すように、弁体１が移動中の状態において、閉部１ｂのＯリングを有する面は連通部２０７のＯリングあたり面２０７ａから離れた位置にある。このように、真空バルブ１００を、“開”の状態から“閉”の状態に、または、“閉”の状態から“開”の状態に切り替えする際に、弁体１を上昇させながら前後方向にスライドさせることにより、開部１ａまたは閉部１ｂの下面に取り付けされたＯリングが連通部２０７のＯリングあたり面２０７ａとの擦れによって損傷されるのを避けることができる。なお、真空バルブ１の開閉の切り替えの際に弁体１を上昇させる高さ（弁体１の上下方向の最上位置と最下位置との差）は、開部１ａまたは閉部１ｂの下面に取り付けされたＯリングと連通部２０７のＯリングあたり面２０７ａとの擦れを回避するために必要十分な高さにする。つまり、弁体１の上下方向の最上位置と最下位置との差を少なくともＯリングの厚み分より大きくすれば、開部１ａまたは閉部１ｂの下面に取り付けされたＯリングと連通部２０７のＯリングあたり面２０７ａとの擦れを回避できる。

また、図８（ｃ）に示すように、真空バルブ１００が開の状態において、開部１ａのＯリングを有する面は連通部２０７のＯリングあたり面２０７ａに押し付けられている。開部１ａのＯリングを有する面と、連通部２０７のＯリングあたり面２０７ａとは平行である。上述した電子ビーム溶接装置２００では、真空バルブ１００が“開”の状態で、電子ビームを照射してワークＷの溶接を行う。真空バルブ１００が“開”の状態で、連通部２０７のＯリングあたり面２０７ａに開部１ａの下面がＯリングを挟んで押し付けられると、ワークＷの溶接の際に発生するスパッタなど、真空処理中に発生する異物が連通部２０７のＯリングあたり面２０７ａに付着し難くすることができる。

[実施の形態３]
以下、図面を参照して本発明の実施の形態３について説明する。なお、実施の形態２と共通の部分には共通の符号を付してその説明を省略する。
実施の形態２において、弁体１を支持する支持部材としての弁体上下用リンク２は、弁体１の左右側方にそれぞれ２個（合計４個）配置されるが、これに限るものではない。図９は、真空バルブ４００の概略構成を示す斜視図である。なお、図９において、前後方向をＸ方向、左右方向をＹ方向、上下方向をＺ方向、としている。図９に示すように、弁体上下用リンク２が、弁体１の左右側方にそれぞれ１個（合計２個）配置される。２個の弁体上下用リンク２は、弁体１の左側方の弁体上下用リンク２を弁体１に軸支する回転支持軸１０の中心線と、弁体１の右側方の弁体上下用リンク２を弁体１に軸支する回転支持軸１０の中心線と、が平行になり、かつ同一直線にはならないよう、弁体１に軸支される。これにより、弁体上下用リンク２の数を最小限にすることができる。

[実施の形態４]
以下、図面を参照して本発明の実施の形態４について説明する。なお、実施の形態２と共通の部分には共通の符号を付してその説明を省略する。
実施の形態２において、弁体１は、一組の開部1ａと閉部１ｂとを有するが、これに限るものではなく、弁体１が開部1ａと閉部１ｂとを一組以上有してもよい。図１０は、真空バルブ５００の概略構成を示す斜視図である。なお、図１０において、前後方向をＸ方向、左右方向をＹ方向、上下方向をＺ方向、としている。図１０に示すように、弁体１は、二組の開部1ａと閉部１ｂとを有する。真空バルブ５００のように、弁体１が、一組以上の開部1ａと閉部１ｂとを有することで、複数箇所の連通部２０７の開閉を１つの真空バルブで同時に行うことができる。

なお、本発明は上記実施の形態に限られたものではなく、種々の変更可能な点について適宜変更することが可能である。例えば、弁体上下用リンク２の数は２個以上であればよい。真空バルブ１００、３００、５００によって仕切られる上下二つの空間のうち、上方の空間を真空、下方の空間を大気圧にする場合、弁体１には、弁体１を連通部２０７に押し付けする向き（上方から下方への向き）と反対の向き（下方から上方への向き）に大気圧分の圧力がかかる。この場合に、弁体１を連通部２０７に安定的に押し付けするためには、弁体上下用リンク２の数は４個以上にするのが好ましい。

１ 弁体
１ａ 開部
１ｂ 閉部
１ｃ 連通穴
２ 弁体上下用リンク
３ ピニオンギヤ
４ ラックギヤ
４ａ ギヤ部
５ ラック連結ブロック
６ 駆動用シリンダ
６ａ シリンダロット
６ｂ フリージョイント

Claims (6)

1. 少なくとも一方が真空にされる上下方向に沿って並んだ二つの空間の間を連通する連通部の開閉をする真空バルブであって、
   連通穴を有する開部と前記連通穴を有していない閉部とが前後方向に沿って並んだ弁体と、
   前記弁体の左右側方にそれぞれ一以上配置され、長手方向一端にはピニオンギヤが取り付けられ長手方向他端は前記弁体の側面に回動自在に軸支された複数の支持部材と、
   前後方向に延在するギヤ部が前記ピニオンギヤと噛み合うよう前記弁体の左右側方にそれぞれ配置された複数のラックギヤと、
   前記複数のラックギヤを、前後方向の一方の位置と前後方向の他方の位置との間で同期して往復直線移動させる駆動部と、を備え、
   前記複数のラックギヤが前記一方の位置にあるときに前記連通部が前記開部によって覆われ、前記複数のラックギヤが前記他方の所定位置にあるときに前記連通部が前記閉部によって覆われるよう前記弁体が配置される真空バルブ。
2. 前記駆動部は、前後方向に往復直線移動するシリンダロットを有する駆動シリンダである請求項１に記載の真空バルブ。
3. 前記複数のラックギヤは、それぞれの端部において連結部材により連結され、前記連結部材は、前記シリンダロットの先端に固定される請求項２に記載の真空バルブ。
4. 前記複数のラックギヤの前記ピニオンギヤとの噛み合い箇所が、それぞれカバーによって覆われる請求項１乃至３のいずれか一に記載の真空バルブ。
5. 前記開部及び前記閉部の前記連通部を覆うシール面には、それぞれ真空シールが設けられた請求項１または４のいずれか一に記載の真空バルブ。
6. 前記開部と前記閉部とは、それぞれ異なる部材で形成する請求項１乃至４のいずれか一に記載の真空バルブ。

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