JP6211359B2 - Flip chip bonder and bonding method - Google Patents

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Description

本発明はフリップチップ及びボンディング方法に係わり、特に生産性の高いフリップチップボンダ及びボンディング方法に関する。   The present invention relates to a flip chip and a bonding method, and more particularly to a flip chip bonder and a bonding method with high productivity.

バンプを有する半導体ダイ(以下、単にダイいう)を配線基板などのワークに搭載してパッケージを組み立てる工程の一部に、半導体ウエハ(以下、単にウエハという)からダイを分割する工程と、分割したダイをウェハからピックアップし、ダイを反転して、基板上に搭載又は既にボンディングしたダイなどのダイに積層するボンディング工程とがある。
ボンディング工程を行う従来技術(特許文献1)として、図14に示すように、ウェハからピックアップしたダイを反転させ、反転したダイをボンディングヘッド41に渡し、バンプが下面に露出するようにする。そして、特許文献1は、ダイ1個ずつ露出したバンプを塗布装置8に浸漬し、フラックスをバンプに塗布し、基板Pの半田部分にボンディングする。
A part of the process of assembling a package by mounting a semiconductor die having bumps (hereinafter simply referred to as a die) on a work such as a wiring board, and a process of dividing the die from a semiconductor wafer (hereinafter simply referred to as a wafer) There is a bonding process in which a die is picked up from a wafer, the die is inverted, and is stacked on a die such as a die mounted on a substrate or already bonded.
As a conventional technique for performing the bonding process (Patent Document 1), as shown in FIG. 14, the die picked up from the wafer is inverted, the inverted die is transferred to the bonding head 41, and the bump is exposed on the lower surface. In Patent Document 1, bumps exposed for each die are immersed in a coating device 8, flux is applied to the bumps, and bonded to the solder portion of the substrate P.

特開2010−504633号公報JP 2010-504633 A

しかしながら、上述した従来技術は、1個ずつダイを塗布装置に浸漬するために、その分時間がかかりスループットが悪くなり、生産性が悪くなる。また、使用するダイサイズによって塗布装置を切り替える必要がある。   However, the above-described conventional technique immerses the dies one by one in the coating apparatus, and accordingly, it takes much time, resulting in poor throughput and poor productivity. Further, it is necessary to switch the coating apparatus depending on the die size to be used.

従って、本発明の目的は、上記の状況を鑑みてなされたものであり、生産性の高い、或いは使用するダイサイズごとに塗布装置を替える必要のないフリップチップボンダ及びボンディング方法を提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a flip chip bonder and a bonding method that are highly productive or do not require changing the coating device for each die size to be used. is there.

本発明は、上記目的を達成するために、少なくとも以下の特徴を有する。
本発明は、バンプを有するダイをピックアップヘッドでピックアップし、ピックアップした前記ダイを反転し、ボンディングヘッドは前記ダイを受け取りフラックスが塗布された前記バンプをワークの半田部にボンディングするフリップチップボンダであって、前記ピックアップヘッドは、前記ダイを吸着する複数の吸着孔と、前記フラックスを前記バンプに塗布するフラックス塗布部を有する、ことを特徴とする。
In order to achieve the above object, the present invention has at least the following features.
The present invention is a flip chip bonder in which a die having bumps is picked up by a pick-up head, the die thus picked up is inverted, and the bonding head receives the die and bonds the bumps coated with flux to a solder part of a workpiece. The pickup head has a plurality of suction holes for sucking the die, and a flux application part for applying the flux to the bumps.

また、本発明は、ダバンプを有するダイをピックアップヘッドでピックアップし、ピックアップした前記ダイを反転し、ボンディングヘッドは前記ダイを受け取りフラックスが塗布された前記バンプをワークの半田部にボンディングするボンディング方法であって、前記ピックアップヘッドは、前記バンプに塗布するフラックスを含有し、前記ダイを吸着し、前記フラックスを前記バンプに塗布する、ことを特徴とする。   The present invention also provides a bonding method in which a die having a bump is picked up by a pickup head, the picked-up die is inverted, and the bonding head receives the die and bonds the bump coated with a flux to a solder portion of a workpiece. The pickup head includes a flux to be applied to the bump, adsorbs the die, and applies the flux to the bump.

さらに、前記フラックス塗布部は、柔軟性のあるゲル状物質に前記フラックスを混在させた塗布材を前記吸着孔の周囲の領域に収納し、前記ダイの吸着面に前記塗布材を塗布する塗布口を有してもよい。
また、前記フラックス塗布部は、前記塗布材の全域に亘って圧力をかける圧縮エアを収納する圧縮連通室を備え、前記圧縮連通室に前記圧縮エアを供給し、前記塗布を前記塗布口から放出させて前記バンプに塗布するエア圧縮手段を有してもよい。
Further, the flux application unit stores an application material in which the flux is mixed in a flexible gel-like substance in a region around the adsorption hole, and applies the application material to the adsorption surface of the die. You may have.
The flux application unit includes a compression communication chamber that stores compressed air that applies pressure over the entire area of the coating material, supplies the compressed air to the compression communication chamber, and supplies the coating material from the application port. You may have an air compression means to discharge | release and apply | coat to the said bump.

さらに、前記フラックス塗布部は、フラックスを含有保持し、前記ダイの吸着面に前記塗布材を塗布する塗布口を備える収納部と、該収納部を収縮させる弾性体部と、該弾性体部を圧縮エアによって収縮させるエア圧縮部とを備え、該エア圧縮部に前記圧縮エアを供給し、前記塗布を前記塗布口から放出させて前記バンプに塗布するエア圧縮手段を有してもよい。
また、前記弾性体部は柔軟性のあるゲル状物質で、或いは収納部はカーボンナノチューブで構成してもよい。
さらに、前記塗布は、前記吸着する直前からボンディングヘッドに前記ダイを渡す前までの間で行ってもよい。
Further, the flux application part contains and holds a flux, and includes a storage part having an application port for applying the application material to the adsorption surface of the die, an elastic body part for contracting the storage part, and the elastic body part. An air compressing unit that contracts with compressed air, supplying the compressed air to the air compressing unit, discharging the coating material from the coating port, and coating the bumps.
Further, the elastic body part may be made of a flexible gel substance, or the storage part may be made of carbon nanotubes.
Further, the application may be performed between immediately before the adsorption and before passing the die to the bonding head.

従って、本発明によれば、生産性の高い、或いは使用するダイサイズごとに塗布装置を替える必要のないフリップチップボンダ及びボンディング方法を提供できる。   Therefore, according to the present invention, it is possible to provide a flip chip bonder and a bonding method that are highly productive or do not require changing the coating apparatus for each die size to be used.

本発明の一実施形態であるフリップチップボンダの概略上面図である。It is a schematic top view of the flip chip bonder which is one Embodiment of this invention. 図1において矢印A方向から見たときに、ピックアップヘッド及びボンディングヘッドの動作を説明する図である。It is a figure explaining operation | movement of a pick-up head and a bonding head when it sees from the arrow A direction in FIG. 本発明の一実施形態であるダイ供給部の主要部を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the principal part of the die | dye supply part which is one Embodiment of this invention. 本実施形態のフラックス塗布部を有するピックアップヘッドの構成と、ピックアップヘッドのフラックス塗布、ダイの吸着動作及び昇降動作を制御するために制御ブロックを示す図である。It is a figure which shows a control block in order to control the structure of the pickup head which has a flux application part of this embodiment, and flux application | coating of a pickup head, adsorption | suction operation | movement of a die | dye, and raising / lowering operation | movement. 実施例1におけるフラックス塗布部及び吸着孔を備えるコレットを下側から見た概略図である。It is the schematic which looked at the collet provided with the flux application part and adsorption hole in Example 1 from the lower side. 実施例1において塗布処理が進んだときのコレットの状態を示す図である。It is a figure which shows the state of a collet when the application | coating process progressed in Example 1. FIG. 実施例1におけるピックアップ動作時を主体としたボンディング処理を示す図である。It is a figure which shows the bonding process mainly having the time of the pickup operation | movement in Example 1. FIG. 本実施形態の特徴である第2の実施例のフラックス塗布部を有するピックアップヘッドの構成の概略図である。It is the schematic of the structure of the pick-up head which has the flux application part of the 2nd Example which is the characteristics of this embodiment. 実施例2におけるフラックス塗布部及び吸着孔を備えるコレットを下側から見た概略図である。It is the schematic which looked at the collet provided with the flux application part and adsorption hole in Example 2 from the lower side. 実施例2におけるフラックス塗布部の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the flux application part in Example 2. FIG. 本実施形態の特徴である3の実施例のフラックス塗布部を有するピックアップヘッドの構成の概略図である。It is the schematic of the structure of the pick-up head which has the flux application part of 3 Examples which are the characteristics of this embodiment. 本実施形態の特徴である4の実施例のフラックス塗布部を有するピックアップヘッドの構成の概略図である。It is the schematic of the structure of the pick-up head which has the flux application part of 4 Examples which are the characteristics of this embodiment. 本実施形態の特徴である5の実施例のフラックス塗布部を有するピックアップヘッドの構成の概略図である。It is the schematic of the structure of the pick-up head which has the flux application part of 5 Examples which are the characteristics of this embodiment. 従来技術におけるフリップチップボンダの構成と、ピックアップヘッド及びボンディングヘッドの動作を示す図である。It is a figure which shows the structure of the flip chip bonder in a prior art, and the operation | movement of a pick-up head and a bonding head.

以下本発明の実施形態を図面を用いて説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図1は本発明の一実施形態であるフリップチップボンダ10の概略上面図である。図2は、図1において矢印A方向から見たときに、ピックアップヘッド21及びボンディングヘッド41の動作を説明する図である。
ダイボンダ10は、大別して、ダイ供給部1と、ピックアップ部2、反転機構部3と、ボンディング部4と、搬送部5、基板供給部6Kと、基板搬出部6Hと、各部の動作を監視し制御する制御部7と、を有する。
FIG. 1 is a schematic top view of a flip chip bonder 10 according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a diagram for explaining the operation of the pickup head 21 and the bonding head 41 when viewed from the direction of arrow A in FIG.
The die bonder 10 broadly monitors the operations of the die supply unit 1, the pickup unit 2, the reversing mechanism unit 3, the bonding unit 4, the transport unit 5, the substrate supply unit 6K, and the substrate carry-out unit 6H. And a control unit 7 for controlling.

まず、ダイ供給部1は、ワークWに実装するダイDを供給する。ダイ供給部1は、ウェハ11を保持するウェハ保持台12と、ウェハ11からダイDを突き上げる点線で示す突き上げユニット13と、を有する。ダイ供給部1は、図示しない駆動手段によってXY方向に移動し、ピックアップするダイDを突き上げユニット13の位置に移動させる。   First, the die supply unit 1 supplies a die D to be mounted on the workpiece W. The die supply unit 1 includes a wafer holding table 12 that holds the wafer 11 and a push-up unit 13 indicated by a dotted line that pushes up the die D from the wafer 11. The die supply unit 1 is moved in the XY directions by a driving unit (not shown), and moves the die D to be picked up to the position of the push-up unit 13.

ピックアップ部2は、ダイ供給部1からダイDを吸着するコレット部22と、コレット部22を先端に備えダイをピックアップするピックアップヘッド21と、ピックアップヘッド21をY方向に移動させるY駆動部23を有する。ピックアップヘッド21は、コレット部22を昇降、回転及びX方向移動させる図示しない各駆動部を有する。また、コレット部22は、後述するように本発明の実施形態の特徴であるダイDのバンプDb(図4参照)にフラックスを塗布する。フラックスは、バンプDbの酸化を防ぎ、ワークW上の半田と接合し易くする。   The pickup unit 2 includes a collet unit 22 that attracts the die D from the die supply unit 1, a pickup head 21 that has the collet unit 22 at the tip and picks up the die, and a Y drive unit 23 that moves the pickup head 21 in the Y direction. Have. The pickup head 21 has driving units (not shown) that move the collet unit 22 up and down, rotate, and move in the X direction. Further, the collet portion 22 applies a flux to the bump Db (see FIG. 4) of the die D, which is a feature of the embodiment of the present invention, as will be described later. The flux prevents the bump Db from being oxidized and facilitates bonding with the solder on the workpiece W.

このような構成によって、ピックアップヘッド21は、ダイをピックアップすると共に、バンプDbにフラックスを塗布し、反転機構部3に移動し、反転機構部3に吸着される。   With such a configuration, the pickup head 21 picks up the die, applies a flux to the bump Db, moves to the reversing mechanism unit 3, and is attracted to the reversing mechanism unit 3.

反転機構部3は、図2に破線で示すように、ピックアップヘッド21を180度回転させ、ダイDのパンプを反転させて下面に向け、ダイDをボンディングヘッド41に渡す姿勢にする。   As shown by a broken line in FIG. 2, the reversing mechanism unit 3 rotates the pickup head 21 by 180 degrees, reverses the pump of the die D, faces the lower surface, and puts the die D into the bonding head 41.

反転機構部の他の方法としては、図2の引出図に示すように反転機構部をピックアップヘッド21に設け、ピックアップヘッドと共に移動させる方法、又は、ダイの表裏を回転できるステージユニットを設け、ピックアップしたダイDを一旦ステージユニットに載置する方法などがある。   As another method of the reversing mechanism unit, as shown in the drawing of FIG. 2, a reversing mechanism unit is provided on the pickup head 21 and moved together with the pickup head, or a stage unit that can rotate the front and back of the die is provided. There is a method of placing the die D once on the stage unit.

ボンディング部4は、反転したダイDをピックアップヘッド21から受けとり、搬送されてきたワーク又は既にボンディングされたダイの上にボンディングする。ボンディング部4は、ピックアップヘッド21と同様にダイDを先端に吸着保持するコレット部42を備えるボンディングヘッド41と、ボンディングヘッド41をY方向に移動させるY駆動部43と、ワークWの位置認識マーク(図示せず)を撮像し、ボンディング位置を認識する基板認識カメラ44とを有する。   The bonding unit 4 receives the inverted die D from the pickup head 21 and bonds it to the conveyed workpiece or the already bonded die. The bonding unit 4 includes a bonding head 41 including a collet unit 42 that sucks and holds the die D at the tip, the Y driving unit 43 that moves the bonding head 41 in the Y direction, and a workpiece W position recognition mark. A substrate recognition camera 44 that picks up an image (not shown) and recognizes the bonding position.

このような構成によって、ボンディングヘッド41は、ステージ認識カメラ32の撮像データに基づいてピックアップ位置・姿勢を補正し、ピックアップヘッドから反転したダイDを受け取り、基板認識カメラ44の撮像データに基づいてワークWにダイDをボンディングする。   With such a configuration, the bonding head 41 corrects the pickup position / orientation based on the imaging data of the stage recognition camera 32, receives the inverted die D from the pickup head, and works based on the imaging data of the substrate recognition camera 44. Bond die D to W.

搬送部5は、一枚又は複数枚のワーク(図1では4枚)を載置した基板搬送パレット51と、基板搬送パレット51が移動するパレットレール52とを具備し、並行して設けられた同一構造の第1、第2搬送部とを有する。基板搬送パレット51は、基板搬送パレット51に設けられた図示しないナットをパレットレール52に沿って設けられた図示しないボールネジで駆動することによって移動する。   The transport unit 5 includes a substrate transport pallet 51 on which one or a plurality of workpieces (four in FIG. 1) are placed, and a pallet rail 52 on which the substrate transport pallet 51 moves, and is provided in parallel. It has the 1st, 2nd conveyance part of the same structure. The substrate transfer pallet 51 is moved by driving a nut (not shown) provided on the substrate transfer pallet 51 with a ball screw (not shown) provided along the pallet rail 52.

このような構成によって、基板搬送パレット51は、基板供給部6KでワークWを載置し、パレットレール52に沿ってボンディング位置まで移動し、ボンディング後基板搬出部6Hまで移動して、基板搬出部6HにワークWを渡す。第1、第2搬送部は、互いに独立して駆動され、一方の基板搬送パレット51に載置されたワークWにダイDをボンディング中に、他方の基板搬送パレット51は、ワークWを搬出し、基板供給部6Kに戻り、新たなワークWを載置するなどの準備を行なう。   With this configuration, the substrate transport pallet 51 places the workpiece W on the substrate supply unit 6K, moves to the bonding position along the pallet rail 52, and moves to the post-bonding substrate unloading unit 6H. Give work W to 6H. The first and second transport units are driven independently from each other, and the other substrate transport pallet 51 unloads the workpiece W while bonding the die D to the workpiece W placed on one substrate transport pallet 51. Returning to the substrate supply unit 6K, preparations such as placing a new workpiece W are made.

図3は、ダイ供給部1の主要部を示す概略断面図である。図3に示すように、ダイ供給部1は、ウエハリング14を保持するエキスパンドリング15と、ウエハリング14に保持されウエハリング14に保持され複数のダイDが粘着されたダイシングテープ16を水平に位置決めする支持リング17と、ダイDを上方に突き上げるための突き上げユニット13とを有する。所定のダイDピックアップするために、突き上げユニット13は、図示しない駆動機構によって上下方向に移動し、ダイ供給部1は水平方向には移動するようになっている。   FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the main part of the die supply unit 1. As shown in FIG. 3, the die supply unit 1 horizontally arranges an expanding ring 15 that holds the wafer ring 14 and a dicing tape 16 that is held by the wafer ring 14 and held by the wafer ring 14 to which a plurality of dies D are adhered. A support ring 17 for positioning and a push-up unit 13 for pushing the die D upward are provided. In order to pick up a predetermined die D, the push-up unit 13 is moved in the vertical direction by a drive mechanism (not shown), and the die supply unit 1 is moved in the horizontal direction.

ダイ供給部1は、ダイDの突き上げ時に、ウエハリング14を保持しているエキスパンドリング15を下降させる。その結果、ウエハリング14に保持されているダイシングテープ16は引き伸ばされ、ダイDの間隔は広がる。そのような状態で、突き上げユニット13によりダイ下方よりダイDを突き上げることにより、ダイ供給部1はダイDのピックアップ性を向上させている。   The die supply unit 1 lowers the expand ring 15 holding the wafer ring 14 when the die D is pushed up. As a result, the dicing tape 16 held on the wafer ring 14 is stretched, and the distance between the dies D is increased. In such a state, the die supply unit 1 improves the pickup property of the die D by pushing up the die D from below the die by the push-up unit 13.

なお、薄型化に伴い接着剤は液状からフィルム状となり、ダイアタッチフィルムDAFと呼ばれるフィルムがダイDとダイシングテープ16との間に設けられている。ダイアタッチフィルムDAFはフィルム状の粘着材料を貼り付け、複数のダイDを保持している。ダイアタッチフィルムDAFを有するウェハ11では、ダイシングはウェハとダイアタッチフィルムDAFに対して行なわれる。   As the thickness is reduced, the adhesive is changed from a liquid to a film, and a film called a die attach film DAF is provided between the die D and the dicing tape 16. The die attach film DAF is attached with a film-like adhesive material and holds a plurality of dies D. In the wafer 11 having the die attach film DAF, dicing is performed on the wafer and the die attach film DAF.

以下、本発明の実施形態の特徴であるフラックス塗布部25を備えるピックアップヘッド21の構成と、ピックアップ21の動作を説明する。   Hereinafter, the structure of the pickup head 21 provided with the flux application part 25 which is the characteristic of embodiment of this invention and the operation | movement of the pickup 21 are demonstrated.

ピックアップヘッド21にフラックス塗布部25を備えることによって、フラックス塗布を、例えば、ピックアップヘッド21のダイDの吸着動作などの一連のピックアップ動作中に行うことができる。
この結果、図2に示すように、ボンディングヘッド41を塗布装置8の浸漬する動作が不要となり、タクトタイムを向上でき、生産性の高いフリップチップボンダ及びボンディング方法を提供できる。
By providing the pickup head 21 with the flux application unit 25, the flux application can be performed during a series of pickup operations such as an adsorption operation of the die D of the pickup head 21.
As a result, as shown in FIG. 2, the operation of immersing the bonding head 41 in the coating apparatus 8 is not required, the tact time can be improved, and a highly productive flip chip bonder and bonding method can be provided.

また、従来では、ダイサイズ毎に塗布装置を替えていたが、その必要もない。   Conventionally, the coating apparatus is changed for each die size, but this is not necessary.

(実施例1)
図4は、本実施形態の特徴であるフラックス塗布部25を有するピックアップヘッド21の構成と、ピックアップヘッド21のフラックス塗布、ダイDの吸着動作及び昇降動作を制御するために制御ブロックを示す図である。図5は、フラックス塗布部25及び吸着22Daを備えるコレット22Dを下側から見た概略図である。図6は、塗布処理が進んだときのコレット22の状態を示す図である。
Example 1
FIG. 4 is a diagram showing a control block for controlling the configuration of the pickup head 21 having the flux application unit 25 and the flux application of the pickup head 21, the adsorption operation of the die D, and the lifting and lowering operation, which are features of the present embodiment. is there. FIG. 5 is a schematic view of the collet 22D including the flux application unit 25 and the suction 22Da as viewed from below. FIG. 6 is a diagram showing the state of the collet 22 when the coating process has progressed.

図4に示すように、ピックアップヘッド21は、先端にダイD吸着するコレット22Dと、コレットを保持するコレットホルダ22Hとを備える。
コレット22Dは、ダイDを吸着する複数の吸着孔22Daと、複数の吸着孔22Daを連通する吸着連通室22Drと、吸着孔22Da及び吸着連通室22Drが存在しない周囲の領域に設けられたフラックス塗布部25とを有する。
As shown in FIG. 4, the pickup head 21 includes a collet 22 </ b> D that attracts the die D to the tip, and a collet holder 22 </ b> H that holds the collet.
The collet 22D has a plurality of suction holes 22Da for sucking the die D, a suction communication chamber 22Dr that communicates with the plurality of suction holes 22Da, and a flux coating provided in a surrounding area where the suction holes 22Da and the suction communication chamber 22Dr do not exist. Part 25.

フラックス塗布部25は、柔軟性のあるゲル状物質、例えば、シリコーンを主原料とする非常にやわらかいゲル状素材にフラックスを混在させた塗布材25mを含有する。また、フラックス塗布部25は、図5に示すようにダイDの吸着面に塗布口25kを複数有する。   The flux application part 25 contains a coating material 25m in which a flux is mixed with a flexible gel material, for example, a very soft gel material mainly made of silicone. Moreover, the flux application part 25 has a plurality of application ports 25k on the suction surface of the die D as shown in FIG.

本実施例では、図4に示すように、塗布口25kを全面に設け、図4に示すようにバンプDbの位置に対応して設けていると同時にバンプDbのない位置にも設けている。しかし、塗布口25kをバンプの存在する位置のみに設けて、無駄に塗布材25mが消費されることを防いでもよい。   In this embodiment, as shown in FIG. 4, the coating port 25k is provided on the entire surface, and is provided corresponding to the position of the bump Db as shown in FIG. However, the coating port 25k may be provided only at the position where the bump exists to prevent the coating material 25m from being wasted.

コレット部22Dの複数の吸着孔22Daは、吸着連通室22Dr、吸着孔22Ha及びピックアップヘッド21の吸着孔21aを介してエア吸引圧縮設備20に接続されている。   The plurality of suction holes 22Da of the collet portion 22D are connected to the air suction / compression equipment 20 via the suction communication chamber 22Dr, the suction holes 22Ha, and the suction holes 21a of the pickup head 21.

一方、コレットホルダ22Hは、塗布材25mを塗布口25に押しつける圧縮エアの空間を形成する圧縮連通室22Hrと、圧縮連通室22Hrに連通する圧縮孔22Hcと、吸着連通室22Drに連通する吸着孔22Haとを有する。   On the other hand, the collet holder 22H includes a compression communication chamber 22Hr that forms a compressed air space that presses the coating material 25m against the application port 25, a compression hole 22Hc that communicates with the compression communication chamber 22Hr, and an adsorption hole that communicates with the adsorption communication chamber 22Dr. 22 Ha.

このような機構によって、吸着孔22Haを吸引することによってダイDを吸着保持するとともに、圧縮エアが圧縮連通室22Hrに流入すると、柔軟性のある塗布材25mが塗布口から吐出し、バンプDbに塗布される。図6は、塗布処理が進んだときのコレット22の状態を示し、塗布処理が進むにつれて圧縮連通室22Hrがダイの吸着面側に拡大している状態となる。
これらの動作を制御するのがエア吸引圧縮設備20であり、エア吸引圧縮設備20を制御するのが制御装置8である。
By such a mechanism, the die D is sucked and held by sucking the suction hole 22Ha, and when compressed air flows into the compression communication chamber 22Hr, a flexible coating material 25m is discharged from the coating port to the bump Db. Applied. FIG. 6 shows the state of the collet 22 when the coating process has progressed, and the compression communication chamber 22Hr has expanded to the suction surface side of the die as the coating process has progressed.
The air suction / compression facility 20 controls these operations, and the control device 8 controls the air suction / compression facility 20.

エア吸引圧縮設備20は、ポンプ部PO有し、圧力センサPS、開閉弁20cvを介して、圧縮エアをフラックス塗布部25に供給する圧縮エア供給部と、流量センサRS、開閉弁20avを介してコレット部22の吸着孔22Haを真空にするエア吸引部とを有する。エア吸引圧縮設備20は、圧力センサPS,流量センサRSを監視することによって制御装置8によって制御される。   The air suction / compression facility 20 has a pump unit PO, a compressed air supply unit that supplies compressed air to the flux application unit 25 via a pressure sensor PS and an on-off valve 20cv, a flow rate sensor RS, and an on-off valve 20av. And an air suction part that evacuates the suction hole 22Ha of the collet part 22. The air suction / compression facility 20 is controlled by the control device 8 by monitoring the pressure sensor PS and the flow rate sensor RS.

制御装置8は、エア吸引圧縮設備20と共にピックアップヘッド21を制御する制御部8Cと、制御に必要な制御プログラム、データ等を記憶しているメモリ8Mと、ボピックアップヘッド21のZ駆動軸47のドライバー47D、モータ47Mを備える。   The control device 8 includes a control unit 8C that controls the pickup head 21 together with the air suction / compression equipment 20, a memory 8M that stores a control program and data necessary for the control, and a Z drive shaft 47 of the bo-pickup head 21. A driver 47D and a motor 47M are provided.

制御部8cは、ピックアップヘッド21によるダイDのピックアップ制御時には、コレット部22の吸着孔22Daに流れる流量を流量センサRSで検出し、当該流量が所定の流量以下になった時に、コレット22DがダイDを吸着したと判断する。また、制御部8cは、ピックアップヘッド21によるフラックス塗布時に、フラックス塗布部25の圧縮連通室22Hrの圧力をパルス状に変化させ、パルス上の最大圧力をセンサRSで検出し、当該最大圧力が所定の圧力を有していれば、バンプDbにフラックスが塗布された判断する。
更に、制御部8cは、ピックアップヘッド21の位置情報、流量センサRS、圧力センサPS等の情報に基づいて、ドライバー47Dを駆動し、ピックアップヘッド21の昇降を制御する。モータ47Mはパルスモータでもよいし、サーボモータでもよい。
When the pickup head 21 controls the pickup of the die D, the control unit 8c detects the flow rate flowing through the suction hole 22Da of the collet unit 22 with the flow rate sensor RS, and when the flow rate becomes a predetermined flow rate or less, the collet 22D It is determined that D is adsorbed. Further, the control unit 8c changes the pressure of the compression communication chamber 22Hr of the flux application unit 25 in a pulsed manner when flux is applied by the pickup head 21, detects the maximum pressure on the pulse by the sensor RS, and the maximum pressure is predetermined. If it is determined that the flux is applied to the bump Db.
Furthermore, the control unit 8c drives the driver 47D based on the position information of the pickup head 21, the flow sensor RS, the pressure sensor PS, and the like, and controls the raising and lowering of the pickup head 21. The motor 47M may be a pulse motor or a servo motor.

次に、図7を用いて、実施例1におけるピックアップ動作時を主体としたボンディング処理を説明する。
まず、ピックアップヘッド21がコレット部22をダイD上に載置する直前に、制御部8cは、エア吸引圧縮設備20を制御し、バンプDbにフラックスを含有する塗布25mを塗布する(S1)。その後、ピックアップヘッド21はダイDを完全に吸着し、保持する(S2)。次に、ピックアップヘッド21は、ダイDをダイシングフィルムテープDCFから離間させ、ピックアップする(S3)。その後、ピックアップヘッド21は、反転機構3の位置に移動して、反転する(S4)。次に、ボンディングヘッド41は、反転しバンプDbが下面に向いたダイDをピックアップヘッド21から受け取る(S5)。ボンディングヘッド41は、ボンディングに位置に移動し、ワークWにボンディングする(S6)。S1からS6の処理を所定の個数行う(S7)。
なお、次の工程で不必要なフラックスFpを洗浄したり、ダイDを保護するためにアンダーコートしたりしてもよい。
Next, with reference to FIG. 7, a bonding process mainly performed during the pickup operation in the first embodiment will be described.
First, immediately before the pickup head 21 places the collet portion 22 on the die D, the control portion 8c controls the air suction / compression equipment 20 to apply the coating material 25m containing flux on the bump Db (S1). . Thereafter, the pickup head 21 completely sucks and holds the die D (S2). Next, the pickup head 21 separates the die D from the dicing film tape DCF and picks up (S3). Thereafter, the pickup head 21 moves to the position of the reversing mechanism 3 and reverses (S4). Next, the bonding head 41 receives from the pickup head 21 the die D that is inverted and the bump Db faces the lower surface (S5). The bonding head 41 moves to the position for bonding and bonds to the workpiece W (S6). A predetermined number of processes from S1 to S6 are performed (S7).
In the next step, unnecessary flux Fp may be washed, or undercoating may be performed to protect the die D.

図7のフローでは、フラックスの塗布は、ピックアップヘッド21、即ちコレット22をダイDに載置する直前で行った。これは、吸着保持力とフラックスの塗布とはダイDに対して反対の方向の力が働くので、それを避けるためである。   In the flow of FIG. 7, the flux is applied immediately before the pickup head 21, that is, the collet 22 is placed on the die D. This is for avoiding the adsorption holding force and the application of the flux because the forces in the opposite directions act on the die D.

一方、本実施例では、フラック塗布口25kをバンプDbの位置に合わせた。従って、圧縮エアの圧力が小さくでき、極端なことを言えば、塗布口25kの塗布材25mにバンプDbが接することにより、フラックスをバンプDbに塗布できれば、吸着と塗布を同時に行ってもよい。この場合は、ダイDをボンディンヘッド41に引き渡すまでに、フラックス塗布を行うこともできる。   On the other hand, in the present embodiment, the flack application port 25k is aligned with the position of the bump Db. Accordingly, the pressure of the compressed air can be reduced, and in an extreme case, if the bump Db is in contact with the coating material 25m of the coating port 25k and the flux can be applied to the bump Db, the adsorption and the coating may be performed simultaneously. In this case, flux application can be performed before the die D is delivered to the bonding head 41.

以上説明したボンディング方法によれば、フラックスを塗布するための特別の時間を設ける必要がなく、処理時間を短くでき、スループットを向上させることできる。   According to the bonding method described above, it is not necessary to provide a special time for applying the flux, the processing time can be shortened, and the throughput can be improved.

(変形例1)
実施例1では、圧縮エアにより圧力をかけたが、変形例1では、圧縮エアによる圧力をかけないでバンプDbにフラックスまたはフラックスを含有する塗布を塗布する。変形例1では、コレット22の吸着面を柔らかい材質で構成する。そして、例えば、バンプDbに塗布する塗布材25mの厚(量)が50μm程度であるので、塗布材に所定の粘度があれば、圧力をかけなくとも塗布材が浸み出てきて、接触したダイD(バンプDb)に塗布できる。

(Modification 1)
In Example 1, pressure was applied by compressed air, but in Modification 1, flux or a coating material containing flux is applied to the bumps Db without applying pressure by compressed air. In the first modification, the suction surface of the collet 22 is made of a soft material. For example, since the thickness (amount) of the coating material 25m applied to the bump Db is about 50 μm, if the coating material has a predetermined viscosity, the coating material oozes out without contact with the pressure, and comes into contact with it. It can be applied to the die D (bump Db).

本変形例1によれば、圧縮エアを供給する関連構成、例えばコレット22の圧縮連通室22Hrと圧縮孔22Hcが不要となり、ピックアップヘッド21、エア吸引圧縮設備20の構成を簡略化できる。   According to the first modification, the related configuration for supplying the compressed air, for example, the compression communication chamber 22Hr of the collet 22 and the compression hole 22Hc become unnecessary, and the configuration of the pickup head 21 and the air suction / compression facility 20 can be simplified.

(実施例2)
図8は、本実施形態の特徴である第2の実施例のフラックス塗布部を有するピックアップヘッドの構成の概略図である。図9は、実施例2におけるフラックス塗布部25及び吸着孔22Daを備えるコレット22Dを下側から見た概略図である。図10は、実施例2におけるフラックス塗布部25の構成を示す図である。
(Example 2)
FIG. 8 is a schematic diagram of the configuration of the pickup head having the flux application part of the second example which is a feature of the present embodiment. FIG. 9 is a schematic view of the collet 22D including the flux application part 25 and the suction hole 22Da in the second embodiment as viewed from below. FIG. 10 is a diagram illustrating the configuration of the flux application unit 25 according to the second embodiment.

実施例1は、シリコーンを主原料とする非常にやわらかいゲル状素材にフラックスを浸み込ませた塗布材25mに圧力をかけて、フラックスをバンプDbに塗布した。一方、実施例2では、シリコーンを主原料とする非常にやわらかいゲル状素材に圧力をかけ、ゲル状素材の変形によりフラックスをバンプDbに塗布する。圧力をかける素材は、ゲル状素材に拘わらず、所定の変形量を有する弾性体であってもよい。以下異なる点を中心に説明する。   In Example 1, the flux was applied to the bump Db by applying pressure to the coating material 25m obtained by immersing the flux in a very soft gel-like material made mainly of silicone. On the other hand, in Example 2, pressure is applied to a very soft gel material made mainly of silicone, and flux is applied to the bumps Db by deformation of the gel material. The material to which pressure is applied may be an elastic body having a predetermined deformation amount regardless of the gel material. Hereinafter, different points will be mainly described.

図8に示すように、ピックアップヘッド21は、先端にダイD吸着するコレット22Dと、コレットを保持するコレットホルダ22Hとを備える。
コレット22Dは、ダイDの2辺側に複数列(図8では2列)直線状に並んだバンプDbに合い対応して設けられた複数の扁平状の長方体のフラックス塗布部25と、ダイDを吸着する複数の吸着孔22Daと、複数の吸着孔22Daを連通する吸着連通室22Drとを有する。
As shown in FIG. 8, the pickup head 21 includes a collet 22D that attracts the die D to the tip, and a collet holder 22H that holds the collet.
The collet 22D includes a plurality of flat rectangular flux coating portions 25 provided corresponding to the bumps Db arranged in a plurality of rows (two rows in FIG. 8) on the two sides of the die D; A plurality of adsorption holes 22Da for adsorbing the die D and an adsorption communication chamber 22Dr communicating with the plurality of adsorption holes 22Da are provided.

一方、コレットホルダ22Hは、その下面に形成され後述するフラックス塗布部25の複数の圧縮孔25Cを連通する圧縮連通室22Hrと、圧縮連通室22Hrに連通する圧縮孔22Hcと、吸着連通室22Drに連通する吸着孔22Haとを有する。   On the other hand, the collet holder 22H is formed on the lower surface thereof and communicates with a compression communication chamber 22Hr communicating with a plurality of compression holes 25C of the flux application section 25 described later, a compression hole 22Hc communicating with the compression communication chamber 22Hr, and an adsorption communication chamber 22Dr. It has the adsorbing hole 22Ha which communicates.

図10に示すように、フラックス塗布部25は、フラックスを含有し保持する収納部25T、収納部の周りを囲み、例えばゲル状素材で構成された弾性体部25Jと、弾性体部に圧力をかけるための圧縮エアが送風される圧縮孔25Cとを有する。   As shown in FIG. 10, the flux application unit 25 includes a storage unit 25T that contains and holds a flux, surrounds the storage unit, and applies pressure to the elastic body unit 25J made of, for example, a gel material, and the elastic body unit. It has a compression hole 25C through which compressed air for applying air is blown.

収納部25Tは、フラックスを塗布するためにダイD側が開放された塗布口25kを有し、コレット部上部側が塞がれている。収納部25Tの径は、フラックスがその粘性のために、ダイ側の開放から落下することはない径とする。収納部径を大きくでき、収納できるフラックス量を多くするために、収納部25Tをカーボンナノチューブで構成してもよい。   The storage unit 25T has an application port 25k that is open on the die D side for applying the flux, and the upper side of the collet unit is closed. The diameter of the storage portion 25T is set to a diameter at which the flux does not fall from the die-side opening due to its viscosity. In order to increase the storage portion diameter and increase the amount of flux that can be stored, the storage portion 25T may be made of carbon nanotubes.

弾性体部25Jは上下部とも塞がれている。また、弾性体部25Jは収納部25Tの全周囲を必ずしも囲む必要がなく、収納部25Tを収縮できるように設けられていればよい。圧縮孔25Cは、ダイD側が塞がれコレット部22Dの上部側から圧縮エアを流入されるために開放され、弾性体部25Jに連通している。   The elastic body portion 25J is closed on both the upper and lower portions. The elastic body portion 25J does not necessarily need to surround the entire periphery of the storage portion 25T, and may be provided so that the storage portion 25T can be contracted. The compression hole 25C is opened because the die D side is closed and compressed air is introduced from the upper side of the collet portion 22D, and communicates with the elastic body portion 25J.

このような機構によって、圧縮エアが圧縮孔25Cに流入すると、収納部25Tが弾性体部25Jを介して圧迫され、フラックスが矢印の方向に吐出し、バンプDbに塗布される。   When compressed air flows into the compressed hole 25C by such a mechanism, the storage portion 25T is pressed through the elastic body portion 25J, and the flux is discharged in the direction of the arrow and applied to the bump Db.

本実施例では、フラックス塗布部25を扁平状に形成したが、収納部25Tを軸として、弾性体部25Jと圧縮孔25Cを同心状に形成してもよい。
また、圧縮孔25Cを設けず、収納部25Tの下部塗布口側の反対側のある圧縮連通室22Hrの圧縮エアによって弾性体部25J、フラックスを塗布してもよい。
In this embodiment, the flux application part 25 is formed in a flat shape, but the elastic part 25J and the compression hole 25C may be formed concentrically with the storage part 25T as an axis.
Further, the elastic body portion 25J and the flux may be applied by compressed air in the compression communication chamber 22Hr on the side opposite to the lower application port side of the storage portion 25T without providing the compression hole 25C.

これらの動作を制御するのがエア吸引圧縮設備20であり、エア吸引圧縮設備20を制御するのが制御装置8である。
フラックス塗布部25の圧縮孔25Cは、コレットホルダ22Hの圧縮連通室22Hr、圧縮孔22Hc及びピックアップヘッド21の圧縮孔21cを介してエア吸引圧縮設備20に接続されている。
The air suction / compression facility 20 controls these operations, and the control device 8 controls the air suction / compression facility 20.
The compression hole 25C of the flux application unit 25 is connected to the air suction / compression equipment 20 via the compression communication chamber 22Hr of the collet holder 22H, the compression hole 22Hc, and the compression hole 21c of the pickup head 21.

実施例2におけるピックアップ動作時を主体としたボンディング処理は、実施例1と同様である。また、実施例2は、実施例1と同様に、収納部25Tの塗布口25kをバンプDbの位置に合わせた。従って、実施例1と同様に、一定の条件を満たせば、フラックスを塗布する位置は、図7に示すステップS1に限らず、ダイDを吸着するときからボンディングヘッド41にダイDを渡すまでに行ってもよい。   The bonding process mainly in the pickup operation in the second embodiment is the same as that in the first embodiment. In the second embodiment, similarly to the first embodiment, the coating port 25k of the storage unit 25T is aligned with the position of the bump Db. Therefore, as in the first embodiment, if a certain condition is satisfied, the position where the flux is applied is not limited to step S1 shown in FIG. 7, but from when the die D is sucked to when the die D is delivered to the bonding head 41. You may go.

(実施例3)
図11は本実施形態の特徴であるフラックス塗布部25の第3の実施例の概略図である。
実施例2のフラックス塗布部25の実施例2と異なる点は、その塗布側面が吸着面よりHだけ高くする凹部25dを有する点である。その他の点は、実施例2と同じである。
Example 3
FIG. 11 is a schematic view of a third example of the flux application unit 25 which is a feature of the present embodiment.
The difference of the flux application part 25 of Example 2 from Example 2 is that the application side surface has a recess 25d that is higher than the suction surface by H. The other points are the same as those in the second embodiment.

例えば、バンプDbの高さを30μmとすると、Hの高さを50μm程度にとる。この構造により、バンプDbは、凹部25dにすっぽり入るので、実施例1のステップに限らず、ダイD上に着地する直前からボンディングヘッド41にダイDを渡すまでの間のどこでもバンプDbにフラックスを塗布できる。   For example, when the height of the bump Db is 30 μm, the height of H is set to about 50 μm. With this structure, the bump Db completely enters the concave portion 25d, so that the flux is applied to the bump Db everywhere between the time just before landing on the die D and the time when the die D is passed to the bonding head 41. Can be applied.

(実施例4)
図12は本実施形態の特徴であるフラックス塗布部25の第4の実施例の概略図である。
Example 4
FIG. 12 is a schematic view of a fourth example of the flux application unit 25 which is a feature of the present embodiment.

実施例3のフラックス塗布部25の実施例2と異なる点は、次の点であり、その他の点は同じである。実施例4は、各フラックス塗布部25の上部に設けられ、互いを連通する図示しない連通孔を有するフラックス収納部25sを有する点である。フラックス収納部25sは、各フラックス塗布部25の収納部25Tの塗布口25kとは反対側の開口部に連通している。また、弾性体部25j等の長さが短く十分な塗布量が得られない場合は、コレット22Dの高さを高くすることで対処する。   The difference of the flux application part 25 of Example 3 from Example 2 is the following point, and the other points are the same. Example 4 is the point which has the flux accommodating part 25s which is provided in the upper part of each flux application part 25, and has the communication hole which is not shown in figure which mutually connects. The flux storage portion 25s communicates with the opening on the opposite side of the application port 25k of the storage portion 25T of each flux application portion 25. Further, when the length of the elastic body portion 25j or the like is short and a sufficient coating amount cannot be obtained, this is dealt with by increasing the height of the collet 22D.

実施例4によれば、フラックスを多く保持できるので、フラックスを補充することなく又はコレット22Dを交換することなく、長時間作業を行うことができる。   According to the fourth embodiment, since a large amount of flux can be held, it is possible to work for a long time without replenishing the flux or exchanging the collet 22D.

(実施例5)
図13は本実施形態の特徴であるフラックス塗布部25の第5の実施例の概略図である。
(Example 5)
FIG. 13 is a schematic view of a fifth example of the flux application unit 25 which is a feature of the present embodiment.

実施例5のフラックス塗布部25が実施例1、2と異なる点は、次の点である。実施例1、2では、フラックス塗布部25をバンプDbに合わせて設けた。一方、実施例5では、図13に示すように、フラックス塗布部25をバンプDbの位置に関係なく設けている。   The difference of the flux application part 25 of Example 5 from Example 1, 2 is the following point. In Examples 1 and 2, the flux application part 25 was provided according to the bump Db. On the other hand, in Example 5, as shown in FIG. 13, the flux application part 25 is provided irrespective of the position of the bump Db.

逆に言えば、フラックスの塗布の仕方によっては、一つのコレット22Dで様々パンプDbを有するダイDに適用できる。従って、実施例4では、図7にステップS1で示すように、コレット22DをダイD上に載置する前にフラックスを塗布することが望ましい。   In other words, depending on how the flux is applied, one collet 22D can be applied to the die D having various pumps Db. Therefore, in Example 4, it is desirable to apply the flux before placing the collet 22D on the die D as shown in step S1 in FIG.

実施例5によれば、バンプDbのパターンによってフラックス塗布部25の基本的構成を変える必要がない。   According to the fifth embodiment, there is no need to change the basic configuration of the flux application unit 25 depending on the pattern of the bump Db.

以上のように本発明の実施態様について説明したが、上述の説明に基づいて当業者にとって種々の代替例、修正又は変形が可能であり、本発明はその趣旨を逸脱しない範囲で前述の種々の代替例、修正又は変形を包含するものである。   Although the embodiments of the present invention have been described above, various alternatives, modifications, and variations can be made by those skilled in the art based on the above description, and the present invention is not limited to the various embodiments described above without departing from the spirit of the present invention. It encompasses alternatives, modifications or variations.

1:ダイ供給部 2:ピックアップ部
21:ピックアップヘッド 22:コレット部
22D:コレット 22H:コレットホルダ
25:フラックス塗布部 25C:圧縮孔
25J:弾性体部 25T:収納部
25d:フラックス塗布部の凹部 25m:塗布材
25s:フラックス収納部 3:反転機構部
4:ボンディング部 41:ボンディングヘッド
42:コレット部 7:制御部
10:フリップチップボンダ 11:ウェハ
13:突き上げユニット D:ダイ
Db:バンプ W:ワーク
1: Die supply unit 2: Pickup unit 21: Pickup head 22: Collet unit 22D: Collet 22H: Collet holder 25: Flux application unit 25C: Compression hole 25J: Elastic body unit 25T: Storage unit 25d: Concave portion of flux application unit 25m : Coating material 25s: Flux storage part 3: Reversing mechanism part 4: Bonding part 41: Bonding head 42: Collet part 7: Control part 10: Flip chip bonder 11: Wafer 13: Push-up unit D: Die Db: Bump W: Workpiece

Claims (12)

バンプを有するダイをピックアップし前記ダイを反転するピックアップヘッドと、前記ダイを受け取りフラックスが塗布された前記バンプをワークの半田部にボンディングするボンディングヘッドとを有するフリップチップボンダであって、
前記ピックアップヘッドは、前記ダイを吸着する複数の吸着孔と、前記フラックスを前記ダイの吸着面に塗布するフラックス塗布部を有する、
ことを特徴とするフリップチップボンダ。
A flip chip bonder having a pick-up head for picking up a die having bumps and inverting the die, and a bonding head for receiving the die and bonding the bumps coated with a flux to a solder part of a workpiece,
The pickup head has a plurality of suction holes for sucking the die, and a flux application part for applying the flux to the suction surface of the die.
Flip chip bonder characterized by that.
請求項1に記載のフリップチップボンダであって、
前記フラックス塗布部は、ゲル状物質に前記フラックスを混在させた塗布材を前記吸着孔の周囲の領域に収納し、前記ダイの吸着面に前記塗布材を塗布する塗布口を有する、
ことを特徴とするフリップチップボンダ。
The flip chip bonder according to claim 1,
The flux application unit has a coating port for storing a coating material in which the flux is mixed in a gel-like substance in a region around the suction hole, and coating the coating material on the suction surface of the die.
Flip chip bonder characterized by that.
請求項2に記載のフリップチップボンダであって、
前記フラックス塗布部は、前記塗布材に圧力をかける圧縮エアを収納する圧縮連通室を備え、
前記圧縮連通室に前記圧縮エアを供給し、前記塗布材を前記塗布口から吐出させて前記バンプに塗布するエア圧縮手段を有する、
ことを特徴とするフリップチップボンダ。
The flip chip bonder according to claim 2,
The flux application unit includes a compression communication chamber that stores compressed air that applies pressure to the application material,
Air compression means for supplying the compressed air to the compression communication chamber and discharging the coating material from the coating port and coating the bumps;
Flip chip bonder characterized by that.
請求項2に記載のフリップチップボンダであって、
前記塗布口は前記バンプに対応して設けられ、前記塗布材を前記バンプに接触させて前記フラックスを該バンプに塗布する、
ことを特徴とするフリップチップボンダ。
The flip chip bonder according to claim 2,
The coating port is provided corresponding to the bump, and the flux is applied to the bump by bringing the coating material into contact with the bump.
Flip chip bonder characterized by that.
請求項1に記載のフリップチップボンダであって、
前記フラックス塗布部は、フラックスを含有保持し、前記ダイの吸着面に前記フラックスからなる塗布材を塗布する塗布口を備える収納部と、該収納部を収縮させる弾性体部と、該弾性体部を圧縮エアによって収縮させるエア圧縮部とを備え、
該エア圧縮部に前記圧縮エアを供給し、前記塗布材を前記塗布口から放出させて前記バンプに塗布するエア圧縮手段を有する、
ことを特徴とするフリップチップボンダ。
The flip chip bonder according to claim 1,
The flux application part contains and holds a flux, and a storage part having an application port for applying the application material made of the flux to the adsorption surface of the die, an elastic body part for shrinking the storage part, and the elastic body part An air compression section that contracts with compressed air,
Air compression means for supplying the compressed air to the air compressing unit, discharging the coating material from the coating port, and coating the bumps;
Flip chip bonder characterized by that.
請求項5に記載のフリップチップボンダであって、
前記弾性体部はゲル状物質で構成されている、
ことを特徴とするフリップチップボンダ。
The flip chip bonder according to claim 5,
The elastic body portion is made of a gel material,
Flip chip bonder characterized by that.
請求項5又は6に記載のフリップチップボンダであって、
収納部はカーボンナノチューブで構成されている、
ことを特徴とするフリップチップボンダ。
The flip chip bonder according to claim 5 or 6,
The storage part is composed of carbon nanotubes,
Flip chip bonder characterized by that.
請求項5乃至7のいずれかに記載のフリップチップボンダであって、
前記フラックス塗布部は、前記バンプの位置に対応して設けられている、
ことを特徴とするフリップチップボンダ。
The flip chip bonder according to any one of claims 5 to 7,
The flux application part is provided corresponding to the position of the bump,
Flip chip bonder characterized by that.
ピックアップヘッドがバンプを有するダイをピックアップし、前記ダイを反転し、ボンディングヘッドが前記ダイを受け取りフラックスが塗布された前記バンプをワークの半田部にボンディングするボンディング方法であって、
前記ピックアップヘッドは、前記バンプに塗布する前記フラックスを含有し、前記ダイを吸着し、前記フラックスを前記バンプに塗布する、
ことを特徴とするボンディング方法。
A pick-up head picks up a die having bumps, reverses the die, and a bonding head receives the die and bonds the bumps coated with flux to a solder part of a workpiece,
The pickup head contains the flux to be applied to the bump, adsorbs the die, and applies the flux to the bump.
A bonding method characterized by the above.
請求項9に記載のボンディング方法であって、
前記塗布は、前記ダイを吸着する直前に行われる、
ことを特徴とするボンディング方法。
The bonding method according to claim 9, wherein
The application is performed immediately before adsorbing the die,
A bonding method characterized by the above.
請求項9に記載のボンディング方法であって、
前記塗布は、前記ダイの吸着と同時に行われる、
ことを特徴とするボンディング方法。
The bonding method according to claim 9, wherein
The application is performed simultaneously with the adsorption of the die.
A bonding method characterized by the above.
請求項9に記載のボンディング方法であって、
前記塗布は、前記ダイの吸着後、ボンディングヘッドに前記ダイを渡す前までの間で行われる、
ことを特徴とするボンディング方法。
The bonding method according to claim 9, wherein
The application is performed after adsorption of the die and before passing the die to a bonding head.
A bonding method characterized by the above.
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