JP6206316B2 - 塗布装置、塗布方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Description
特許文献1には、ウエハの外周部に対向するように開閉自在な羽根板を設けた塗布処理装置について記載されているが、塗布膜の均一性を更に改善できる手法が求められている。
基板を水平に保持し、鉛直軸周りに回転自在な基板保持部と、
前記基板保持部に保持された基板の表面に塗布液を吐出する塗布液ノズルと、
前記基板保持部に保持された基板の下方側の領域を囲むように設けられた筒状部と当該筒状部の上縁から全周に亘って基板の外周端に近接するように内側に向かって伸び出した屈曲部とからなる中間カップと、
前記中間カップの屈曲部に周方向に沿って複数形成され、各々当該屈曲部を上下方向に貫通する連通口と、
前記中間カップの筒状部の上縁から上方に向かって伸びだし更に上縁が内側に屈曲して前記基板よりも高い位置まで伸び出すと共に前記基板の周方向に沿って環状に形成された外カップと、
前記中間カップの内部雰囲気を排気するために基板よりも下方側に設けられた排気路と、
前記基板よりも下方側に設けられ、前記基板保持部に保持された基板の外周端よりも内側寄りの位置から前記外周端よりも外側に外れた位置に向かって下方側に伸びだし、前記中間カップとの間に前記排気路に向かう排気流の通路を形成するガイド部と、
前記基板の回転により塗布液が塗布されるときには、前記排気路により排気を行い、前記基板上の塗布液を乾燥させるために基板が回転するときには、前記排気路による排気を停止するように制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする。
鉛直軸周りに回転自在な基板保持部に保持された基板の下方側の領域を囲むように設けられた筒状部と当該筒状部の上縁から全周に亘って基板の外周端に近接するように内側に向かって伸び出した屈曲部とからなる中間カップと、
前記中間カップの屈曲部に周方向に沿って複数形成され、各々当該屈曲部を上下方向に貫通する連通口と、
前記中間カップの筒状部の上縁から上方に向かって伸びだし更に上縁が内側に屈曲して前記基板よりも高い位置まで伸び出すと共に前記基板の周方向に沿って環状に形成された外カップと、
前記基板よりも下方側に設けられ、前記基板保持部に保持された基板の外周端よりも内側寄りの位置から前記外周端よりも外側に外れた位置に向かって下方側に伸びだし、前記中間カップとの間に前記排気路に向かう排気流の通路を形成するガイド部と、を備えた塗布装置を用い、
基板を基板保持部に水平に保持する工程と、
前記基板の中央部に塗布液を供給すると共に基板保持部を鉛直軸周りに回転させて基板上に塗布液を広げて塗布液の塗布を行いながら、前記排気路により前記中間カップの内部雰囲気を排気する工程と、
次いで、前記排気路による排気を停止し、溶剤雰囲気が前記連通口を介して前記中間カップの屈曲部の上面側と下面側との間で循環する状態で、前記基板保持部を回転させて前記基板上の塗布液を乾燥させる工程と、を含むことを特徴とする。
更に他の発明は、コンピュータ上で動作するコンピュータプログラムを格納した記憶媒体であって、前記コンピュータプログラムは、既述の塗布方法を実施するようにステップが組まれていることを特徴とする。
また排気量がゼロとは、流量Vaがほぼゼロとなる場合を含み、例えば排気流量が1.3m3/分未満(排気口46の排気圧が25Pa未満)となる場合も含むものとする。
このように貯留部61を設けない場合には、ウエハWに対してレジスト液の吐出を行う前に、例えばダミーウエハ(ダミー基板)に溶剤を吐出すると共に、内側カップ41や中間カップ42の表面に溶剤を予め付着させても良い。即ち、後述の実施例からも分かるように、レジスト液の乾燥を行う時、ダンパー48を閉止したとしても、内側カップ41や中間カップ42の表面にレジスト液や溶剤が付着していないと、当該ウエハWの外周部側に溶剤雰囲気を形成しにくい。従って、既述のダミーウエハへの溶剤の吐出処理は、製品ウエハWに対してレジスト膜を形成するにあたっての前処理となる。そのため、既述のプリウエット処理は、この前処理に相当すると言える。
以上のように貯留部61を設ける場合には、既述の図2と図11とを組み合わせても良く、具体的には外側カップ43の先端部と内側カップ41の底面との双方に貯留部61を配置しても良い。
従って、特許明細書における「溶剤蒸気が行き渡る位置」とは、内側カップ41と中間カップ42との間の環状の空間と、中間カップ42の底面から連通孔42bを介して外側カップ43の下方側の環状の空間(中間カップ42の外側の空間)と、の少なくとも一方を意味している。即ち、既述のように、ダンパー48を閉止すると、前記2つの環状の空間では、気流が行き来する(循環する)ので、これら2つの環状の空間の少なくとも一方に貯留部61を設けることにより、当該貯留部61は「溶剤蒸気が行き渡る位置に配置された」と言える。
このように溶剤発生部144を設ける場合には、既述の供給管145における下面側開口端を溶剤の液面の高さレベルよりも上方側に位置させて、常温程度の雰囲気を当該液面に吹き付けても良いし、あるいは常温雰囲気により自然蒸発した溶剤雰囲気をノズル41を介してウエハWの周縁部に供給しても良い。
続いて、本発明の効果を確認するために行った実験について説明する。図14は、本発明と従来の手法とにより夫々得られたレジスト膜について、膜厚寸法をウエハWの直径方向に測定した結果を示している。図14から分かるように、従来ではウエハWの外縁部では中央部よりも膜厚寸法が50nm以上も厚くなっていた。一方、本発明ではウエハWの外縁部では中央部と同レベルの膜厚寸法となっていた。
この実験では、カップ41〜43に付着したレジスト液や溶剤を拭き取った後、5枚のウエハWに対して連続して本発明の手法によりレジスト膜の形成処理を行い、その後これら5枚のウエハWについてレジスト膜の膜厚寸法を測定した結果を示している。即ち、これら5枚のウエハWのうち、1枚目のウエハWに対してレジスト液を吐出する時、カップ41〜43にはレジスト液や溶剤は付着していない。一方、後続の2枚目以降のウエハWについては、レジスト液を吐出する時、内側カップ41や中間カップ42にはレジスト液が付着している。
11 処理部
14 スピンチャック
42b 連通口
48 ダンパー
49 排気ダクト
Claims (11)
- 清浄気体の下降気流が形成される雰囲気に配置され、溶剤を含む塗布液を基板に塗布して塗布膜を形成する装置において、
基板を水平に保持し、鉛直軸周りに回転自在な基板保持部と、
前記基板保持部に保持された基板の表面に塗布液を吐出する塗布液ノズルと、
前記基板保持部に保持された基板の下方側の領域を囲むように設けられた筒状部と当該筒状部の上縁から全周に亘って基板の外周端に近接するように内側に向かって伸び出した屈曲部とからなる中間カップと、
前記中間カップの屈曲部に周方向に沿って複数形成され、各々当該屈曲部を上下方向に貫通する連通口と、
前記中間カップの筒状部の上縁から上方に向かって伸びだし更に上縁が内側に屈曲して前記基板よりも高い位置まで伸び出すと共に前記基板の周方向に沿って環状に形成された外カップと、
前記中間カップの内部雰囲気を排気するために基板よりも下方側に設けられた排気路と、
前記基板よりも下方側に設けられ、前記基板保持部に保持された基板の外周端よりも内側寄りの位置から前記外周端よりも外側に外れた位置に向かって下方側に伸びだし、前記中間カップとの間に前記排気路に向かう排気流の通路を形成するガイド部と、
前記基板の回転により塗布液が塗布されるときには、前記排気路により排気を行い、前記基板上の塗布液を乾燥させるために基板が回転するときには、前記排気路による排気を停止するように制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする塗布装置。 - 前記排気路には、当該排気路を開閉するための開閉機構が設けられ、
前記制御部は、前記開閉機構を開閉して排気路の排気量を制御するための制御信号を出力するものである請求項1に記載の塗布装置。 - 前記開閉機構は、前記中間カップの内部に開口する流路及び前記中間カップの外に開口する流路について、一方の流路を塞ぎ、他方の流路を開く位置と、一方の流路を開き、他方の流路を塞ぐ位置と、の間で開閉する開閉体を備えていることを特徴とする請求項2に記載の塗布装置。
- 前記基板上の塗布液を乾燥させるために基板が回転するときに、前記基板の周縁部に溶剤の蒸気を供給するための溶剤蒸気供給部を備えていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記溶剤蒸気供給部は、前記中間カップの内側に設けられた溶剤貯留部であることを特徴とする請求項4に記載の塗布装置。
- 前記溶剤蒸気供給部は、前記外カップの上部の開口部を囲むように設けられた溶剤貯留部であることを特徴とする請求項4に記載の塗布装置。
- 前記制御部は、基板上に塗布液が塗布されるときには基板を第1の回転数で回転させ、次に基板を第1の回転数よりも低い第2の回転数で回転させ、更に塗布液を乾燥させるために第2の回転数よりも高い回転数で回転させるように制御信号を出力し、また基板が第2の回転数で回転した後における設定された時点で、塗布液が塗布されるときの排気量よりも少ない排気量となるように制御信号を出力するものであることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 清浄気体の下降気流が形成される雰囲気にて、溶剤を含む塗布液を基板に塗布して塗布膜を形成する方法において、
鉛直軸周りに回転自在な基板保持部に保持された基板の下方側の領域を囲むように設けられた筒状部と当該筒状部の上縁から全周に亘って基板の外周端に近接するように内側に向かって伸び出した屈曲部とからなる中間カップと、
前記中間カップの屈曲部に周方向に沿って複数形成され、各々当該屈曲部を上下方向に貫通する連通口と、
前記中間カップの筒状部の上縁から上方に向かって伸びだし更に上縁が内側に屈曲して前記基板よりも高い位置まで伸び出すと共に前記基板の周方向に沿って環状に形成された外カップと、
前記基板よりも下方側に設けられ、前記基板保持部に保持された基板の外周端よりも内側寄りの位置から前記外周端よりも外側に外れた位置に向かって下方側に伸びだし、前記中間カップとの間に前記排気路に向かう排気流の通路を形成するガイド部と、を備えた塗布装置を用い、
基板を基板保持部に水平に保持する工程と、
前記基板の中央部に塗布液を供給すると共に基板保持部を鉛直軸周りに回転させて基板上に塗布液を広げて塗布液の塗布を行いながら、前記排気路により前記中間カップの内部雰囲気を排気する工程と、
次いで、前記排気路による排気を停止し、溶剤雰囲気が前記連通口を介して前記中間カップの屈曲部の上面側と下面側との間で循環する状態で、前記基板保持部を回転させて前記基板上の塗布液を乾燥させる工程と、を含むことを特徴とする塗布方法。 - 前記排気量の調整は、排気路に設けられた開閉機構により行われ、
前記開閉機構は、前記中間カップの内部に開口する流路及び前記中間カップの外に開口する流路について、一方の流路を塞ぎ、他方の流路を開く位置と、一方の流路を開き、他方の流路を塞ぐ位置と、の間で開閉する開閉体を備えていることを特徴とする請求項8に記載の塗布方法。 - 前記基板上の塗布液を乾燥させるために基板が回転するときに、前記基板の周縁部に溶剤の蒸気を供給する工程を行うことを特徴とする請求項8または9に記載の塗布方法。
- コンピュータ上で動作するコンピュータプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項8ないし10のいずれか一項に記載の塗布方法を実施するようにステップが組まれていることを特徴とする記憶媒体。
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