JP6191109B2 - Method for dividing laminated ceramic substrate - Google Patents

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本発明はセラミックス基板に金属膜を積層した積層セラミックス基板の分断方法に関するものである。   The present invention relates to a method for dividing a laminated ceramic substrate in which a metal film is laminated on a ceramic substrate.

従来セラミックス基板に金属膜を積層した積層セラミックス基板を分断する場合には、ダイシングソー等を用いて分断することが多かった。又特許文献1にはセラミックス基板をスクライブした後に金属層を接合し、エッチングによりスクライブラインの金属層を除去した後ブレイクするセラミックス接合基板の製造方法が提案されている。   Conventionally, when a laminated ceramic substrate in which a metal film is laminated on a ceramic substrate is divided, it is often divided using a dicing saw or the like. Patent Document 1 proposes a method of manufacturing a ceramic bonded substrate in which a metal layer is bonded after scribing the ceramic substrate, and then the metal layer on the scribe line is removed by etching and then a break is performed.

特開2009−252971号公報JP 2009-252971 A

前述した特許文献1ではセラミックス基板に金属薄膜を積層する前にスクライブする必要があり、既に積層された積層セラミックス基板を分断するものではないという問題点があった。   In the above-mentioned Patent Document 1, it is necessary to scribe before laminating a metal thin film on a ceramic substrate, and there is a problem that the laminated ceramic substrate already laminated is not divided.

又積層された積層セラミックス基板を分断するために、図1(a)に示すようにセラミックス基板101に金属膜102を積層した積層基板100をスクライブしてブレイクする場合について説明する。まず図1(b)に示すようにセラミックス基板101の面にスクライビングホイール103でスクライブし、図1(c)に示すようにセラミックス基板101側からブレイクバー104で押圧してブレイクする。この場合にはセラミックス基板101は分離できても金属膜102は分離されないため、図1(d)に示すようにブレイクを施しても金属膜102が分離されずに残存してしまい、完全な分断ができないという問題点があった。   In order to divide the laminated ceramic substrates, a case will be described in which a laminated substrate 100 in which a metal film 102 is laminated on a ceramic substrate 101 is scribed and broken as shown in FIG. First, as shown in FIG. 1B, scribing is performed on the surface of the ceramic substrate 101 by a scribing wheel 103, and as shown in FIG. In this case, even if the ceramic substrate 101 can be separated, the metal film 102 is not separated. Therefore, as shown in FIG. There was a problem that could not.

又他の方法として図2(a),(b)に示すように、積層セラミックス基板100のうち、金属膜102の面にスクライビングホイール103を用いてスクライブを施す。次いで図2(c)に示すようにブレイクバー104を用いて積層セラミックス基板を分断しようとしても、金属膜102には十分な垂直クラックが形成されておらず、セラミックス基板101側には垂直クラックが生じていない。そのためブレイクすることは難しく、分離できなかったり、図2(d)に示すようにスクライブライン通り分離されることがないという問題点があった。   As another method, as shown in FIGS. 2A and 2B, scribing is performed on the surface of the metal film 102 of the laminated ceramic substrate 100 using a scribing wheel 103. Next, as shown in FIG. 2 (c), even if an attempt is made to divide the laminated ceramic substrate using the break bar 104, sufficient vertical cracks are not formed in the metal film 102, and there are vertical cracks on the ceramic substrate 101 side. It has not occurred. Therefore, there is a problem that it is difficult to break and cannot be separated or separated according to the scribe line as shown in FIG.

本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであって、セラミックス基板に金属膜を積層した積層セラミックス基板を完全に分断し個別化できるようにすることを目的とする。   The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to completely divide and individualize a laminated ceramic substrate in which a metal film is laminated on a ceramic substrate.

この課題を解決するために、本発明の積層セラミックス基板の分断方法は、セラミックス基板に金属膜が積層された積層セラミックス基板の分断方法であって、前記セラミックス基板のスクライブ予定ラインに沿って金属膜に対しパターニングツールで溝加工を行い、前記金属膜の面より金属膜が取り去られた溝に沿って前記セラミックス基板に対してスクライビングホイールを転動させてスクライブを行い、前記積層セラミックス基板のスクライブラインに合わせてブレイクするものである。   In order to solve this problem, a method for dividing a laminated ceramic substrate according to the present invention is a method for dividing a laminated ceramic substrate in which a metal film is laminated on a ceramic substrate, wherein the metal film is formed along a scribe line of the ceramic substrate. Then, a groove is machined with a patterning tool, and a scribing wheel is rolled on the ceramic substrate along the groove from which the metal film has been removed from the surface of the metal film. Breaks along the line.

ここで前記セラミックス基板のスクライブは、スクライビングホイールを用いたスクライブとしてもよい。   Here, the scribing of the ceramic substrate may be a scribing using a scribing wheel.

このような特徴を有する本発明によれば、セラミックス基板に金属膜を積層した積層セラミックス基板をスクライブ予定ラインに沿って溝加工を行い、金属膜を帯状に取り去る。そして取り去った金属膜の溝からセラミックス基板をスクライブし、その後積層セラミックス基板を反転させてブレイクしている。このため金属膜の剥離を回避することができ、所望の形状に完全に分断し個別化することができ、端面精度を向上させることができるという効果が得られる。   According to the present invention having such a feature, the laminated ceramic substrate in which the metal film is laminated on the ceramic substrate is subjected to grooving along a scribe line, and the metal film is removed in a strip shape. Then, the ceramic substrate is scribed from the groove of the removed metal film, and then the laminated ceramic substrate is inverted and broken. For this reason, peeling of the metal film can be avoided, and it can be completely divided into a desired shape and individualized, and the effect that the end face accuracy can be improved is obtained.

図1は積層セラミックス基板のセラミックス基板側よりスクライブ及びブレイクする場合の分断処理を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a dividing process when scribing and breaking from the ceramic substrate side of the multilayer ceramic substrate. 図2は積層セラミックス基板の金属膜側よりスクライブしブレイクする際の状態を示す図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a state in which a scribe and break are performed from the metal film side of the multilayer ceramic substrate. 図3は本発明の実施の形態による積層セラミックス基板の分断処理を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a dividing process of the multilayer ceramic substrate according to the embodiment of the present invention. 図4は本発明の実施の形態による積層セラミックス基板の分断処理を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a dividing process of the multilayer ceramic substrate according to the embodiment of the present invention. 図5は本実施の形態で用いる金属膜の溝加工を用いるパターニングツールを示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a patterning tool using metal film groove processing used in the present embodiment.

図3(a)はセラミックス基板11に金属膜12を施した分断の対象となる積層セラミックス基板(以下、単に積層基板という)10を示す図である。ここでセラミックス基板11はLTCC基板であってもよく、アルミナや窒化アルミ、チタン酸バリウム、窒化珪素等のセラミックス基板であってもよい。又金属膜12はニッケル、銀、金、銅及び白金等の薄膜であり、例えば膜厚が10〜20μmとする。このとき金属膜12は何らかのパターンが形成されているものであってもよい。このような積層基板10を所定のパターンで分断する場合に、まず図3(b)に示すようにセラミックス基板11側よりスクライブを予定するラインに沿って、一定の幅で金属膜12をパターニングツールで除去する。この金属膜の除去は例えば太陽電池の溝加工ツールとして用いられるスクライブ装置、例えば特開2011−216646号のスクライブ装置を用いて金属膜12の一部を直線状にパターニングツール13を用いて除去する。このときの断面図を図3(c)に示す。この溝12aの幅は例えば25〜200μmの幅とする。このときのパターニングツール13は図5(a)に示すように円錐台形状のツールであってもよい。又図5(b)に示すように刃先が角柱状のツールであってもよく、更には図5(c)に示すように角柱状の左右を切り欠いた形状のものであってもよい。又ツールの先端だけでなく全体も角柱状であってもよい。   FIG. 3A is a view showing a laminated ceramic substrate (hereinafter simply referred to as a laminated substrate) 10 to be divided by applying a metal film 12 to the ceramic substrate 11. Here, the ceramic substrate 11 may be an LTCC substrate or a ceramic substrate such as alumina, aluminum nitride, barium titanate, or silicon nitride. The metal film 12 is a thin film of nickel, silver, gold, copper, platinum or the like, and has a film thickness of 10 to 20 μm, for example. At this time, the metal film 12 may be formed with some pattern. When the laminated substrate 10 is divided into a predetermined pattern, first, as shown in FIG. 3B, the metal film 12 is patterned with a constant width along a line scheduled to be scribed from the ceramic substrate 11 side. Remove with. For removing the metal film, for example, a part of the metal film 12 is linearly removed by using the patterning tool 13 by using a scribing device used as a groove processing tool of a solar cell, for example, a scribing device of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-216646. . A cross-sectional view at this time is shown in FIG. The width of the groove 12a is, for example, 25 to 200 μm. The patterning tool 13 at this time may be a truncated cone tool as shown in FIG. Further, as shown in FIG. 5 (b), the tool may have a prism shape with a cutting edge, and may further have a prism shape with a left and right cut out shape as shown in FIG. 5 (c). Further, not only the tip of the tool but also the whole may be a prismatic shape.

そして形成された金属膜12の面から金属膜を取り去った帯状の溝12aの内側のセラミックス基板11に対してスクライブを行う。このスクライブは図示しないスクライブ装置によってスクライビングホイール14を一定の荷重で押圧し転動させてクラックを垂直に浸透させるようにスクライブラインS1を形成する。このスクライブに用いるスクライビングホイールは、高浸透のスクライブが可能なものを用いることが好ましい。例えば日本国特許文献3074143号に示されているように、円周面に所定間隔を隔てて多数の溝を形成し、その間を突起として高浸透型としたスクライビングホイールが提案されている。   Then, scribing is performed on the ceramic substrate 11 inside the strip-shaped groove 12a from which the metal film has been removed from the surface of the formed metal film 12. In this scribing, a scribing line S1 is formed so that the crack is vertically permeated by pressing and rolling the scribing wheel 14 with a constant load by a scribing device (not shown). The scribing wheel used for this scribing is preferably a scribing wheel capable of highly penetrating scribing. For example, as disclosed in Japanese Patent No. 3074143, a scribing wheel is proposed in which a large number of grooves are formed on a circumferential surface at predetermined intervals, and a high penetration type is formed with protrusions therebetween.

次いで図4(e)に示すように、積層基板10を反転させ、ブレイク装置の一対の支持部材15,16の上面にテープ17を配置し、支持部材15,16の中間にスクライブラインが位置するように積層基板10を配置する。そしてその上部よりスクライブラインS1に沿ってブレイクバー18を押し下げてブレイクする。こうすれば図4(f)に示すように、積層基板をスクライブラインに沿って完全に分断することができ、端面精度を向上させることができる。この積層セラミックス基板の分断を格子状に行うことによって個別の積層基板チップを形成することができる。この積層セラミックス基板の分断を格子状に行うことによって個別の積層基板チップを形成することができる。   Next, as shown in FIG. 4E, the laminated substrate 10 is inverted, the tape 17 is disposed on the upper surfaces of the pair of support members 15 and 16 of the breaking device, and the scribe line is located between the support members 15 and 16. Thus, the laminated substrate 10 is arranged. Then, the break bar 18 is pushed down along the scribe line S1 from above to break. In this way, as shown in FIG. 4F, the laminated substrate can be completely divided along the scribe line, and the end face accuracy can be improved. Individual laminated substrate chips can be formed by dividing the laminated ceramic substrate into a lattice shape. Individual laminated substrate chips can be formed by dividing the laminated ceramic substrate into a lattice shape.

この実施の形態では、図3(b),(c)に示すように金属膜に溝加工を行い、次いで金属の溝よりセラミックス面に対してスクライブするようにしているため、この間で積層基板を反転させる必要はなく、作業効率を高めることができる。   In this embodiment, as shown in FIGS. 3B and 3C, the metal film is grooved, and then the metal groove is scribed to the ceramic surface. There is no need to invert the work efficiency.

尚この実施の形態では、図3(d)の工程でスクライブ装置を用いてスクライビングホイールを転動させてスクライブを実行しているが、レーザスクライブ装置によってスクライブを行うようにしてもよい。又図4(e)の工程でブレイク装置を用いてブレイクしているが、これに代えて分断する小片の形状が比較的大きい場合には、作業者が直接手で分断するようにしてもよい。この場合にはテープ17は不要となる。   In this embodiment, scribing is performed by rolling the scribing wheel using a scribing device in the step of FIG. 3D, but scribing may be performed by a laser scribing device. Moreover, although it has broken using the break device in the step of FIG. 4 (e), if the shape of the small piece to be cut instead is relatively large, the operator may cut it directly by hand. . In this case, the tape 17 is unnecessary.

本発明はセラミックス基板に金属膜を積層した積層基板をパターニングツールとスクライブ装置を用いて容易に分断することができ、微小な積層基板の製造に有効である。   INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, a laminated substrate in which a metal film is laminated on a ceramic substrate can be easily divided using a patterning tool and a scribe device, which is effective for manufacturing a minute laminated substrate.

10 積層セラミックス基板
11 セラミックス基板
12 金属膜
12a 溝
13,14 スクライビングホイール
15,16 支持部材
17 テープ
18 ブレイクバー
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Multilayer ceramic substrate 11 Ceramic substrate 12 Metal film 12a Groove 13,14 Scribing wheel 15,16 Support member 17 Tape 18 Break bar

Claims (2)

セラミックス基板に金属膜が積層された積層セラミックス基板の分断方法であって、
前記セラミックス基板のスクライブ予定ラインに沿って金属膜に対しパターニングツールで溝加工を行い、
前記金属膜の面より金属膜が取り去られた溝に沿って前記セラミックス基板に対してスクライビングホイールを転動させてスクライブを行い、
前記積層セラミックス基板のスクライブラインに合わせてブレイクする積層セラミックス基板の分断方法。
A method for dividing a laminated ceramic substrate in which a metal film is laminated on a ceramic substrate,
Perform groove processing with a patterning tool on the metal film along the scribe line of the ceramic substrate,
Scribing by rolling a scribing wheel against the ceramic substrate along the groove from which the metal film was removed from the surface of the metal film,
A method for dividing a multilayer ceramic substrate, which breaks in accordance with a scribe line of the multilayer ceramic substrate.
前記セラミックス基板のスクライブは、スクライビングホイールを用いたスクライブである請求項1記載のブレイク方法。   The breaking method according to claim 1, wherein the scribing of the ceramic substrate is a scribing using a scribing wheel.
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