JP6185260B2 - メタルハードマスク組成物 - Google Patents
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Description
本願は、2012年3月6日出願の米国仮特許出願第61/607,035号の恩典を請求するものである。
A)少なくとも1つの「少なくとも1つのヒドロキシル基を含むモノマー」を重合形態で含むポリマー、及び
B)Ti、Zr、Hf、Co、Mn、Zn又はこれらの組み合わせから選択される少なくとも1つの金属を含む有機金属化合物
を含む組成物であって、前記有機金属化合物がAとBの合計重量に基づき5重量パーセントより多い量で存在する組成物を提供する。
A)少なくとも1つの「少なくとも1つのヒドロキシル基を含むモノマー」を重合形態で含むポリマー、及び
B)Ti、Zr、Hf、Co、Mn、Zn又はこれらの組み合わせから選択される少なくとも1つの金属を含む有機金属化合物
を含む組成物であって、前記有機金属化合物がAとBの合計重量に基づき5重量パーセントより多い量で存在する組成物を提供する。
から選択され、並びに
式中のR1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8は、それぞれ独立して、次のもの:
i)炭化水素基、
ii)置換炭化水素基、
iii)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、又は
iv)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基
から選択され;並びに
式中のR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19及びR20は、それぞれ独立して、次のもの:
i)水素原子、
ii)炭化水素基、
iii)置換炭化水素基、
iv)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、又は
v)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基
から選択される。
i)炭化水素基、又は
ii)置換炭化水素基
から選択され、並びに
この場合のR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19及びR20は、それぞれ独立して、次のもの:
i)水素原子、
ii)炭化水素基
から選択される。
i)炭化水素基
から選択され;並びに
この場合のR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19及びR20は、それぞれ独立して、次のもの:
i)水素原子、
ii)炭化水素基
から選択される。
一実施形態において、化合物T1、Z1及びZ2についてのR1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8は、それぞれ独立して、次のもの:
i)炭化水素基
から選択され;並びに
この場合のR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19及びR20は、それぞれ独立して、次のもの:
ii)炭化水素基
から選択される。
一実施形態において、前記有機金属化合物は、次の化合物:
から選択され、並びに
式中のR5、R6、R7、R8、R21、R22、R23及びR24は、それぞれ独立して、次のもの:
i)炭化水素基、
ii)置換炭化水素基、
iii)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、又は
iv)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基
から選択される。
i)炭化水素基、
ii)置換炭化水素基、
iii)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、又は
iv)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基)。さらなる実施形態において、R5、R6、R7、R8、R21、R22、R23及びR24は、それぞれ独立して、次のものから選択される:i)炭化水素基、又はii)置換炭化水素基。
さらなる実施形態において、R5、R6、R7、R8、R21、R22、R23及びR24は、それぞれ独立して、次のものから選択される:i)炭化水素基。
(式中のR21、R22、R23及びR24は、それぞれ独立して、次のものから選択される:
i)炭化水素基、
ii)置換炭化水素基、
iii)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、又は
iv)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基)。
i)炭化水素基、
ii)置換炭化水素基、
iii)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、又は
iv)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基)。さらなる実施形態において、R21、R22、R23及びR24は、それぞれ独立して、次のものから選択される:i)炭化水素基、又はii)置換炭化水素基。さらなる実施形態において、R21、R22、R23及びR24は、それぞれ独立して、次のものから選択される:i)炭化水素基。
i)炭化水素基、
ii)置換炭化水素基、
iii)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、又は
iv)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基)。さらなる実施形態において、R21及びR22は、それぞれ独立して、次のものから選択される:i)炭化水素基、又はii)置換炭化水素基。さらなる実施形態において、R21及びR22は、それぞれ独立して、次のものから選択される:i)炭化水素基。
i)炭化水素基、
ii)置換炭化水素基、
iii)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、又は
iv)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基)。さらなる実施形態において、R23及びR24は、それぞれ独立して、次のものから選択される:i)炭化水素基、又はii)置換炭化水素基。さらなる実施形態において、R23及びR24は、それぞれ独立して、次のものから選択される:i)炭化水素基。
i)炭化水素基、
ii)置換炭化水素基、
iii)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、又は
iv)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基)。さらなる実施形態において、R5、R6、R7及びR8は、それぞれ独立して、次のものから選択される:i)炭化水素基、又はii)置換炭化水素基。さらなる実施形態において、R5、R6、R7及びR8は、それぞれ独立して、次のものから選択される:i)炭化水素基。
この場合のR21、R22、R5、R6、R7及びR8は、それぞれ独立して、次のものから選択される:
i)炭化水素基、
ii)置換炭化水素基、
iii)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、又は
iv)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基。
この場合のR21、R22、R5、R6、R7及びR8は、それぞれ独立して、次のものから選択される:
i)炭化水素基、
ii)置換炭化水素基、
iii)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、又は
iv)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基。
この場合のR23、R24、R5、R6、R7及びR8は、それぞれ独立して、次のものから選択される:
i)炭化水素基、
ii)置換炭化水素基、
iii)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、又は
iv)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基。
この場合のR23、R24、R5、R6、R7及びR8は、それぞれ独立して、次のものから選択される:
i)炭化水素基、
ii)置換炭化水素基、
iii)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、又は
iv)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基。
a)本発明の組成物を基板の少なくとも一部分上に塗布する工程、及び
b)前記組成物を熱処理して(例えば熱を印加して)コーティングを形成する工程。
一実施形態において、前記コーティングは、ハードマスク層である。
本発明の組成物を基板の少なくとも一部分上に塗布する、又は該基板上に塗布された1層若しくはそれ以上の中間層上に塗布する工程、及び
前記本発明の組成物を熱処理して(例えば熱を印加して)コーティングを形成する工程。さらなる実施形態では、本発明の組成物の多数の層を前記基板の少なくとも一部分上に塗布する、又は前記基板上に塗布された1層若しくはそれ以上の中間層上に塗布する。
用語「組成物」には、本明細書において用いる場合、その組成物を含む材料の混合物はもちろん、その組成物の混合物から形成された反応生成物及び分解生成物も含まれる。
GPCによる分子量の測定
サイズ排除クロマトグラフィー(SEC)とも呼ばれる、ゲル透過クロマトグラフィー(GPC)によって、プレポリマーの分子量をモニターした。計器は、ポリスチレン較正標準物質に基づき約500g/モルから少なくとも約100,000g/モルの範囲の分子量の測定に適している1セットのカラムを装備していた。Thomson Instrument Co.から入手できる4カラム搭載シリーズ、「SHODEX LF−805、804、803及び802GPCカラム」、8mm径×300mm長を各分析に使用した。4本すべてのカラムを30℃で維持した。移動相はテトラヒドロフラン(THF)であり、それを1mL/分の速度でポンピングした。注入容量は100マイクロメートルであった。この計器は、屈折率検出器も装備していた。ドイツ国マインツのPolymer Standards Service GmbHから入手できる、狭いMWDを有するポリスチレン標準物質を使用して、較正を行った。WATERSから入手できるENPOWER GPCソフトウェアを使用して、Mn、Mw及びMWDを算出した。
I.試薬
A.バインダーポリマー(成分A)
以下の略語にご留意いただきたい:
HEMA=2−ヒドロキシエチルメタクリレート、
MMA=メチルメタクリレート、
tBA=tert−ブチルアクリレート、及び
IPGMA=(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−4−イル)メチルメタクリレート。
これらのモノマーの化学構造を下に示す。左から右に:HEMA、MMA、tBA、及びIPGMA。
2)30/70(w)HEMA/MMA(PGMEA又はHBMに可溶性)
3)30/70(w)HEMA/tBA(4溶剤、HMB、PGMEA、MIBC及び2−メチル−1−ブタノールすべてに可溶性)
4)30/70(w)HEMA/IPGMA(4溶剤、HMB、PGMEA、MIBC及び2−メチル−1−ブタノールすべてに可溶性)
B.有機金属化合物(成分B)
1)DORF KETALから入手できるTYZOR AA−105。
1)プロピレングリコールメチルエーテルアセテート(PGMEA、沸点146℃)
2)メチル−2,3−ヒドロキシイソブチレート(HBM、沸点137℃)
3)4−メチル−2−ペンタノール(MIBC、沸点132℃)
4)2−メチル−1−ブタノール(沸点129℃)
D.熱酸発生剤
トリエチルアンモニウム4−メチルベンゼンスルホネート(TEA pTS)−下記参照。
A)30/70(w)HEMA/MMA
「30/70(w)HEMA/MMA」の「60g(ポリマー)バッチ」の調製
モノマー/開始剤供給溶液
好適な容器(ガラス瓶)に次の材料を添加した:18.0g HEMA、42.0g MMA及び30.0g PGMEA(プロピレングリコールメチルエーテルアセテート)溶剤。容器に蓋をし、穏やかに振盪してすべての成分を混合した。その後、容器を氷浴内に配置し、容器内の温度と浴温を平衡させた。その後、開始剤(1.8gのV−601開始剤)を容器に添加した。容器を氷浴から取り出し、振盪して開始剤を完全に溶解し、その後、氷浴に戻した。開始剤(V−601)は、和光純薬工業株式会社(Wako Pure Chemical Industries,Ltd.)から入手できるジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)である。
重合
反応器は、冷却器及び熱電対を装着し、モノマー/開始剤溶液(上で調製したもの)用の供給ラインに接続した250mLの3つ口丸底フラスコであった。熱電対を制御加熱マントル(controlled heating mantle)と併用して、反応器内の溶液温度をモニターし制御した。反応器の内容物を磁気撹拌棒で撹拌した。
反応器に「30.0g PGMEA」を投入し、反応器温度を上昇させ、適切な撹拌により99℃(±2℃)で平衡させた。HAMILTONデュアル・シリンジ・ポンプを使用して250μL/13秒の供給速度で、99℃で反応器にモノマー/開始剤溶液(上で調製したもの)を供給した。全供給時間は、おおよそ90分であった。この供給の完了後、反応器温度をさらに2時間、99℃で保持し、その後、反応フラスコを加熱マントルから取り出し、放置して室温に自然冷却した。おおよそ「90gのPGMEA」をその反応器ポリマーに添加して、撹拌後、均一溶液を得た。反応器内のポリマー溶液をさらに精製せずに「そのままで」使用した。「重量損失法」を用いて、溶液中のポリマーの固形分含有量を判定した。この方法では、おおよそ「0.1gのポリマー溶液」をアルミニウムパンに計り入れ、おおよそ「0.6g アセトン」を添加して、その溶液を希釈する共にそのパン底面の一様なコーティングを促進した。パン(+内容物)をサーマルオーブン内に配置し、おおよそ110℃で平衡させ、そのパン(+内容物)を15分間、熱処理した。最終ポリマー溶液は、そのポリマー溶液の重量に基づきおおよそ28重量%ポリマーを含有した。
B)PGMEA中の30/70(w)HEMA/tBA
「30/70(w)HEMA/tBA」ポリマーは、モノマー/開始剤溶液中の「42.0g tBA」を「42.0gのMMA」の代わりに用いたことを除き、「30/70(w)HEMA/MMA」について上で論じ、用いたのと同様の方法を用いて調製した。「重量損失法」を用いて判定して、溶液中おおよそ49重量%のポリマーを使用して、「60gのポリマーバッチ」を調製した。
C)MIBC中の30/70(w)HEMA/tBA
「30/70(w)HEMA/tBA」ポリマー」は、下記の変更を除き、B)について上で論じたのと同様の方法を用いて調製した:
i)PGMEAの代わりにMIBCを溶剤として使用した、及び
ii)「30g PGMEA」の代わりに「60gのMIBC」を反応器に投入した。
「重量損失法」を用いて判定して、おおよそ40重量%ポリマーを有するポリマー溶液を得た。
D)30/70(w)HEMA/IPGMA
下記の違いを除き、「30/70(w)HEMA/MMA」についてのものと同様の合成方法を用いた。
i)反応器温度をモノマー溶液添加中、70℃で維持し、モノマー溶液の添加完了後さらに2時間、70℃で維持した。
ii)開始剤(4.2gのv−601開始剤)をおおよそ「PGMEA中30重量%溶液」として1回で反応器に(70℃で)添加し、反応器温度を放置して70℃の戻した後、反応器にモノマー溶液を添加した。
iii)この重合では氷浴を使用しなかった。モノマー溶液を、反応フラスコへのその添加中、室温で維持した。
「60gのポリマーバッチ」を調製した。「重量損失法」を用いて判定して、おおよそ50重量%ポリマーを有するポリマー溶液を得た。
E)ポリ(2−ヒドロキシエチルメタクリレート)
ポリ(2−ヒドロキシエチルメタクリレート)の「30gのポリマーバッチ」の調製。
モノマー/開始剤供給溶液
好適な容器(ガラス瓶)に次の材料を添加した:30.0g HEMA、15.0g HBM溶剤。容器に蓋をし、穏やかに振盪してすべての成分を混合した。その後、容器を氷浴内に配置し、容器内の温度と浴温を平衡させた。その後、開始剤(0.9gのV−601開始剤)を容器に添加した。容器を氷浴から取り出し、振盪して開始剤を完全に溶解し、その後、氷浴に戻した。
重合
反応器は、冷却器及び熱電対を装着し、モノマー/開始剤溶液(上で調製したもの)用の供給ラインに接続した250mLの3つ口丸底フラスコであった。熱電対を制御加熱マントルと併用して、反応器内の溶液温度をモニターし制御した。反応器の内容物を磁気撹拌棒で撹拌した。
反応器に「15.0g HBM」を投入し、反応器温度を上昇させ、適切な撹拌により99℃(±2℃)で平衡させた。HAMILTONデュアル・シリンジ・ポンプを使用して250μL/26秒の供給速度で、99℃で反応器にモノマー/開始剤溶液(上で調製したもの)を供給した。全供給時間は、おおよそ90分であった。この供給の完了後、反応器温度をさらに2時間、99℃で保持し、その後、反応フラスコを加熱マントルから取り出し、放置して室温に自然冷却した。おおよそ「140gのPGMEA」をその反応器ポリマーに添加して、撹拌後、均一溶液を得た。反応器内のポリマー溶液をさらに精製せずに「そのままで」使用した。上で論じたとおりの「重量損失法」を用いて溶液中のポリマーの固形分含有量を判定した。最終ポリマー溶液は、そのポリマー溶液の重量に基づきおおよそ15重量%ポリマーを含有した。
上述のGPC法を用いてこれらのポリマー(HEMAホモポリマーを除く)の分子量及び分子量分布を判定した。それらを下の表1に要約する。
各ポリマー溶液を重合から「そのままで」使用し、重合溶剤として使用した追加の溶剤でさらに希釈した。
30/70 HEMA/MMAポリマー溶液:PGMEA中10.0重量%ポリマー
30/70 HEMA/tBAポリマー溶液:PGMEA中10.0重量%ポリマー
30/70 HEMA/tBAポリマー溶液:MIBC中39.8重量%ポリマー
30/70 HEMA/IPGMAポリマー溶液:PGMEA中10.0重量%ポリマー。
ポリ(HEMA)ポリマー溶液:メチル−2−ヒドロキシイソブチレート(HBM)中14.7重量%ポリマー。
TYZOR AA−105有機金属溶液:PGMEA中10.0重量%有機金属。
TYZOR AA−105有機金属溶液:PGMEA中20.0重量%有機金属。
TYZOR AA−105有機金属溶液:HBM中10.0重量%有機金属。
TYZOR AA−105有機金属溶液:2−メチル−1−ブタノール中25.0重量%有機金属。
ジルコニウムブトキシド有機金属溶液:PGMEA及び1−ブタノール中25.0重量%有機金属
AA−105−IPG有機金属溶液:PGMEA中10.0重量%有機金属。
TAG溶液=TEA pTS原液:HBM中5.0重量%熱酸発生剤。
ハードマスク配合物を周囲条件下で調製した。対応する原液及び溶剤(単数又は複数)を好適な容器(ガラス瓶)の中で次の添加順序で混合することにより各配合物を調製した:1)ポリマー溶液、2)溶剤、3)有機金属溶液、及び場合により4)TAG溶液。下記(表2−1から2−7)は、これらの配合物の要約である。
溶剤ストリッピング試験、エッチング試験、及び熱安定性試験用:ウェハ−WaferNet Inc.からのベアシリコンウェハ、8インチの直径;0.7mmの厚み。前処理なし。
リソグラフィ研究用:ウェハ−WaferNet Inc.からのベアシリコンウェハ、12インチの直径;0.7mmの厚み。前処理なし。
各ハードマスク配合物を各試験前に「0.2μm孔径」TFPEシリンジフィルタによって濾過した。
溶剤ストリッピング試験、エッチング試験、及び熱安定性試験のためのスピンコーティングは、TEL、ACT 2 Trackを使用して手分注で(各コーティングに1.5から2.5mLの配合物を使用して)行った。
1)溶剤ストリッピング試験−各ハードマスク配合物をウェハ上に1500RPMでスピンコートし、続いて105℃で60秒間の自由選択のコーティング後ベーク、及びその後、所望の温度で60秒間の硬化ベークを行った。その後、そのコーティングされたウェハをコーティングボウルに持って行き、そこで溶剤をそのウェハにゆっくりと分注してパドルを形成した。パドルを90秒間保持した後、溶剤を振り落した。THERMA−WAVE Spectroscopic Ellipsometer Model 7341を使用して、「溶剤ストリッピング試験」前及び後のメタルハードマスクの膜厚を測定した。ストリッピング前と後での膜厚の変化がメタルハードマスクの耐溶剤性を示す。
2)エッチング試験−各ハードマスク配合物を、上で論じたように1500RPMでウェハにスピンコートし、その後、250℃で60秒間硬化させた。メタルハードマスク膜を硬化させた後、PLASMA−THERM 790 RIEシステムを使用し、指定の電力(O2エッチングについては90W及びCF4エッチングについては50W)及びエッチング時間を用いて、その硬化した皮膜をエッチングした。エッチング前と後に膜厚を測定した。「全膜厚損失」及びエッチング時間を用いて、各メタルハードマスク膜についてのエッチング速度を算出した。
3)熱安定性試験−各ハードマスク配合物を1500RPMでウェハ上にスピンコートし、続いて105℃で60秒間の自由選択のコーティング後ベーク、及びその後、所望の温度で60秒間の硬化ベークを行った。次に、その硬化したメタルハードマスク膜を250℃で600秒(10分)間加熱し、この加熱プロセス中の膜厚変化を測定し、膜の熱安定性を示すために用いた。典型的な電子用途のためのメタルハードマスク膜は、その膜厚の5%より多くを損失してはならない。
4)メタルハードマスクの底部反射防止コーティング(BARC)特性を試験するためにリソグラフィ試験を用いた。プロセス条件については下の表26を参照のこと。この試験では、メタルハードマスクを、デュアルBARCスタックにおいて、該スタック中の底部BARCを本発明のメタルハードマスクで置換することによって試験した。本発明のメタルハードマスクを含有するスタックのリソグラフィ性能を原型デュアルBARCスタックと比較した。
上で論じた「溶剤ストリップ試験」についての概要を参照のこと。場合により、溶剤ストリッピング後にウェハをホットプレートに戻し、105℃で60秒間ベークした(ストリップ後ベーク(post strip back))。その後、膜厚を再び測定した。この自由選択のベーキングは、皮膜内の吸収溶剤を除去するためであった。
研究A:架橋剤としての有機金属(ストリップ試験)
研究B(ストリップ試験)
研究C(ストリップ試験)
研究D(異なる有機金属の使用)
研究E(ストリップ試験−ジルコニウムブトキシド)
研究F(ストリップ試験−アルコール溶剤)
VI.熱安定性−概要
研究A:30/70(w)HEMA/MMAとTYZOR AA−105
研究B:30/70(w)HEMA/tBAとTYZOR AA−105
VII.耐エッチング性−概要
研究A:皮膜中の有機金属レベル増加に伴う耐エッチング性向上
VIII.メタルハードマスクリソグラフィ試験
Claims (15)
- 少なくとも以下のA及びB:
A)HEMA、OH−スチレン、ヒドロキシアクリレートモノマーおよびヒドロキシアルキルアクリレートモノマーからなる群から選択される、少なくとも1つのヒドロキシル基を含む少なくとも1つのモノマーを重合形態で含む、ポリマー、及び
B)Ti、Zr、Hf、Co、Mn、Zn又はこれらの組み合わせから選択される少なくとも1つの金属を含む有機金属化合物を含む組成物であって、前記有機金属化合物がAとBの合計重量に基づき50重量パーセントより多い量で存在する組成物。 - 前記成分Aのポリマーが、該ポリマーの重量に基づき1重量パーセント未満のケイ素を含む、請求項1に記載の組成物。
- 成分Aが、AとBの合計重量に基づき20重量パーセントより多い量で存在する、請求項1又は請求項2に記載の組成物。
- 成分Bが、AとBの合計重量に基づき80重量パーセント未満の量で存在する、請求項1から3のいずれかに記載の組成物。
- 前記成分Aのポリマーが、該ポリマーの重量に基づき5から100重量パーセントの前記少なくとも1つのヒドロキシル基を含むモノマーを含む、請求項1から4のいずれかに記載の組成物。
- 前記少なくとも1つのヒドロキシル基を含むモノマーが、HEMA、OH−スチレン、又はこれらの組み合わせから選択される、請求項1から5のいずれかに記載の組成物。
- 前記少なくとも1つのヒドロキシル基を含むモノマーが、ヒドロキシアクリレートモノマー又はヒドロキシアルキルアクリレートモノマーから選択される、請求項1から6のいずれかに記載の組成物。
- 前記ポリマーが、アクリレートモノマー又はアルキルアクリレートモノマーをさらに含む、請求項1から7のいずれかに記載の組成物。
- 前記有機金属化合物が、少なくとも2個の酸素原子とキレート化される、請求項1から8のいずれかに記載の組成物。
- 前記有機金属化合物の金属が、Ti、Zr又はこれらの組み合わせから選択される、請求項1から9のいずれかに記載の組成物。
- 前記有機金属化合物が、次の化合物:
又はこれらの組み合わせから選択され、並びに
式中のR1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8が、それぞれ独立して、次のもの:
i)炭化水素基、
ii)置換炭化水素基、
iii)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、又はiv)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基から選択され;並びに
式中のR9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19及びR20が、それぞれ独立して、次のもの:
i)水素原子、
ii)炭化水素基、
iii)置換炭化水素基、
iv)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する炭化水素基、又は
v)その主鎖に少なくとも1個のヘテロ原子を含有する置換炭化水素基から選択される、請求項1から10のいずれかに記載の組成物。 - 請求項1から11のいずれかに記載の組成物から形成されるキレート化金属化合物であって、前記成分Aのポリマーから誘導される少なくとも1つの配位子を含むキレート化金属化合物。
- 請求項1から11のいずれかに記載の組成物から形成される少なくとも1つの成分を含む物品。
- 電子デバイスである、請求項13に記載の物品。
- コート基板を形成する方法であって、少なくとも次の工程:
a)請求項1から11のいずれかに記載の組成物を基板の少なくとも1部分上に塗布する工程、
b)前記組成物を熱処理してコーティングを形成する工程を含む方法。
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