JP6179468B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
(特徴1)セル領域が、外周領域内のp型領域に囲まれている。第2電極のコンタクト部がセル領域を囲むように伸びている。第2電極のコンタクト部の幅が、コーナー部で直線部よりも広い。
(特徴2)セル領域内に、p型領域にチャネルが形成されるIGBTまたはMOSFETが形成されている。
(特徴3)セル領域内に、p型領域がアノードとなるダイオードが形成されている。
本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組み合わせによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組み合わせに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成するものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。
12:半導体基板
14:エミッタ電極
16:ゲートパッド
18:外周電極
18a:コンタクト部
20:コレクタ電極
40:セル領域
44:エミッタ領域
46:ボディ領域
48:ドリフト領域
50:コレクタ領域
54:ゲート電極
80:外周領域
82:周辺p型領域
83a:直線部
83b:コーナー部
84:ガードリング
87:ゲート配線
88:外周端n型領域
Claims (4)
- 半導体装置であって、
半導体基板と、
前記半導体基板の表面にコンタクトしている第1電極と、
前記第1電極のコンタクト部と前記半導体基板の端面の間の外周領域で前記表面にコンタクトしている第2電極と、
前記第1電極の前記コンタクト部と重なるセル領域から前記外周領域に跨る範囲で前記半導体基板の裏面にコンタクトしている第3電極、
を有し、
前記半導体基板が、
前記セル領域から前記外周領域に跨って延びており、第1電極及び第2電極に接続されているp型領域と、
前記p型領域の下側の領域から前記p型領域と前記半導体基板の前記端面の間の領域に跨って延びており、前記p型領域に接しているn型領域、
を有し、
前記外周領域内の前記p型領域が、前記表面を平面視したときに外周端が直線状に伸びる直線部と、前記表面を平面視したときに外周端が曲線状に伸びるコーナー部を有し、
前記p型領域が前記外周領域内の前記表面に露出する面積に対する前記第2電極のコンタクト部の面積の比率が、前記コーナー部で前記直線部よりも大きく、
前記セル領域が、前記外周領域内の前記p型領域に囲まれており、
前記第2電極の前記コンタクト部が前記セル領域を囲むように伸びており、
前記第2電極の前記コンタクト部の幅が、前記コーナー部で前記直線部よりも広く、
前記第2電極の前記コンタクト部と前記第1電極の前記コンタクト部とが繋がらないようにして、前記第2電極と前記第1電極とが互いに接続されている、
半導体装置。 - 前記第2電極に、前記第1電極と同じ電位が印加される請求項1の半導体装置。
- 前記セル領域内に、前記p型領域にチャネルが形成されるIGBTまたはMOSFETが形成されている請求項1または2の半導体装置。
- 前記セル領域内に、前記p型領域がアノードとなるダイオードが形成されている請求項1〜3のいずれか一項の半導体装置。
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JP2014128592A JP6179468B2 (ja) | 2014-06-23 | 2014-06-23 | 半導体装置 |
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