JP6178694B2 - インプリント装置、および物品の製造方法 - Google Patents

インプリント装置、および物品の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6178694B2
JP6178694B2 JP2013216754A JP2013216754A JP6178694B2 JP 6178694 B2 JP6178694 B2 JP 6178694B2 JP 2013216754 A JP2013216754 A JP 2013216754A JP 2013216754 A JP2013216754 A JP 2013216754A JP 6178694 B2 JP6178694 B2 JP 6178694B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
region
imprint
substrate
shot
area
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2013216754A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2015079887A5 (enExample
JP2015079887A (ja
Inventor
村上 洋介
洋介 村上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2013216754A priority Critical patent/JP6178694B2/ja
Priority to US14/515,927 priority patent/US10359696B2/en
Priority to KR1020140139682A priority patent/KR101777905B1/ko
Priority to CN201410551185.5A priority patent/CN104570594B/zh
Publication of JP2015079887A publication Critical patent/JP2015079887A/ja
Priority to KR1020160126650A priority patent/KR20160119024A/ko
Publication of JP2015079887A5 publication Critical patent/JP2015079887A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6178694B2 publication Critical patent/JP6178694B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
JP2013216754A 2013-10-17 2013-10-17 インプリント装置、および物品の製造方法 Expired - Fee Related JP6178694B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013216754A JP6178694B2 (ja) 2013-10-17 2013-10-17 インプリント装置、および物品の製造方法
US14/515,927 US10359696B2 (en) 2013-10-17 2014-10-16 Imprint apparatus, and method of manufacturing article
KR1020140139682A KR101777905B1 (ko) 2013-10-17 2014-10-16 임프린트 장치 그리고 물품을 제조하는 방법
CN201410551185.5A CN104570594B (zh) 2013-10-17 2014-10-17 压印设备和制造制品的方法
KR1020160126650A KR20160119024A (ko) 2013-10-17 2016-09-30 임프린트 장치 그리고 물품을 제조하는 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013216754A JP6178694B2 (ja) 2013-10-17 2013-10-17 インプリント装置、および物品の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2015079887A JP2015079887A (ja) 2015-04-23
JP2015079887A5 JP2015079887A5 (enExample) 2016-12-01
JP6178694B2 true JP6178694B2 (ja) 2017-08-09

Family

ID=53011075

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013216754A Expired - Fee Related JP6178694B2 (ja) 2013-10-17 2013-10-17 インプリント装置、および物品の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6178694B2 (enExample)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6282298B2 (ja) * 2015-06-10 2018-02-21 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法
JP6821387B2 (ja) * 2016-10-24 2021-01-27 キヤノン株式会社 インプリント方法、インプリント装置、および物品の製造方法
JP6993799B2 (ja) * 2017-06-27 2022-01-14 キヤノン株式会社 インプリント装置および物品製造方法
JP7617707B2 (ja) * 2020-01-16 2025-01-20 キヤノン株式会社 インプリント装置及び物品の製造方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7854877B2 (en) * 2007-08-14 2010-12-21 Asml Netherlands B.V. Lithography meandering order
US8628712B2 (en) * 2008-10-27 2014-01-14 Molecular Imprints, Inc. Misalignment management
JP2010239118A (ja) * 2009-03-11 2010-10-21 Canon Inc インプリント装置および方法
JP5875250B2 (ja) * 2011-04-28 2016-03-02 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及びデバイス製造方法
JP5932286B2 (ja) * 2011-10-14 2016-06-08 キヤノン株式会社 インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
JP6045363B2 (ja) * 2012-01-27 2016-12-14 キヤノン株式会社 インプリント装置、それを用いた物品の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015079887A (ja) 2015-04-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11460768B2 (en) Pattern formation method, lithography apparatus, lithography system, and article manufacturing method
JP6418773B2 (ja) インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法
US9823562B2 (en) Imprint apparatus, imprint method, and method of manufacturing article
JP6029494B2 (ja) インプリント方法およびインプリント装置、それを用いた物品の製造方法
US10216103B2 (en) Imprint method, imprint apparatus, and method of manufacturing article
US9971256B2 (en) Imprint apparatus, imprint method, and method of manufacturing article
US10359696B2 (en) Imprint apparatus, and method of manufacturing article
JP2013055327A (ja) インプリント装置および物品の製造方法
US9927700B2 (en) Imprint apparatus, and method of manufacturing article
JP6306830B2 (ja) インプリント装置、および物品の製造方法
US20160223919A1 (en) Imprint method, imprint apparatus, and method of manufacturing article
JP2013125817A (ja) インプリント装置およびインプリント方法、それを用いた物品の製造方法
JP6120677B2 (ja) インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法
JP6178694B2 (ja) インプリント装置、および物品の製造方法
US20200026202A1 (en) Method of manufacturing pattern and article manufacturing method
JP2016082068A (ja) インプリント装置、および物品の製造方法
US20210132516A1 (en) Imprint apparatus, imprint method, and article manufacturing method
JP6792669B2 (ja) パターン形成方法、リソグラフィ装置、リソグラフィシステムおよび物品製造方法
KR102316813B1 (ko) 임프린트 장치, 임프린트 방법 및 물품 제조 방법
JP6797627B2 (ja) インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法
US11833737B2 (en) Imprint apparatus, method of imprinting, and method of manufacturing article
JP2015111708A (ja) インプリント装置、インプリント方法、及びデバイス製造方法
US12204244B2 (en) Imprint apparatus and article manufacturing method

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161013

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20161013

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170616

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170614

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170714

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6178694

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees