JP6165064B2 - 集束電子ビーム機器のスループットを向上させるための多極静電偏向器 - Google Patents
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Description
あるいは、
式中、
Claims (4)
- 集束電子ビーム画像化装置であって、
電子を出射するように構成された電子源と、
前記電子を電子ビーム中に集束させるように構成された銃レンズであって、前記電子ビームは、前記装置の光軸を下方に移動する、銃レンズと、
前記電子ビームを前記光軸から離隔方向に制御可能に偏向させるように構成された事前走査偏向器であって、前記事前走査偏向器は、12極型静電偏向器を含む、事前走査偏向器と、
前記電子ビームを再度前記光軸へと制御可能に偏向させるように構成された主要走査偏向器と、
標的基板の表面上のスポット上に前記電子ビームを集束させるように構成された対物レンズと、
前記標的基板の表面からの散乱電子を検出するように構成された検出器と、
を含み、
前記12極型静電偏向器は、
ラジアル角度2α 1 に及ぶように構成された第1の電極プレートと、
前記第1の電極プレートに隣接する第1の隙間であって、前記第1の隙間はラジアル角度2δに及ぶ、第1の隙間と、
前記第1の隙間に隣接する第2の電極プレートであって、前記第2の電極プレートは、ラジアル角度α 2 に及ぶように構成される、第2の電極プレートと、
前記第2の電極プレートに隣接する第2の隙間であって、前記第2の隙間は、ラジアル角度2δに及ぶ、第2の隙間と、
前記第2の隙間に隣接する第3の電極プレートであって、前記第3の電極プレートは、ラジアル角度α 2 に及ぶように構成される第3の電極プレートと、
前記第3の電極プレートに隣接する第3の隙間であって、前記第3の隙間は、ラジアル角度2δに及ぶ、第3の隙間と、
を含み、
前記第1の電極プレートと共に、前記第1の隙間、前記第2の電極プレート、前記第2の隙間、前記第3の電極プレートおよび前記第3の隙間は、ラジアル角度90度に及ぶ、
集束電子ビーム画像化装置。 - α1=23度、α2=16度、およびδ=2度である、請求項1に記載の集束電子ビーム画像化装置。
- 集束電子ビーム画像化装置であって、
電子を出射するように構成された電子源と、
前記電子を電子ビーム中に集束させるように構成された銃レンズであって、前記電子ビームは、前記装置の光軸を下方に移動する、銃レンズと、
前記電子ビームを前記光軸から離隔方向に制御可能に偏向させるように構成された事前走査偏向器であって、前記事前走査偏向器は、12極型静電偏向器を含む、事前走査偏向器と、
前記電子ビームを再度前記光軸へと制御可能に偏向させるように構成された主要走査偏向器と、
標的基板の表面上のスポット上に前記電子ビームを集束させるように構成された対物レンズと、
前記標的基板の表面からの散乱電子を検出するように構成された検出器と、
を含み、
前記12極型静電偏向器は、
ラジアル角度2α1に及ぶように構成された第1の電極プレートと、
前記第1の電極プレートに隣接する第1の隙間であって、前記第1の隙間はラジアル角度2δに及ぶ、第1の隙間と、
前記第1の隙間に隣接する第2の電極プレートであって、前記第2の電極プレートは、ラジアル角度α2に及ぶように構成される、第2の電極プレートと、
前記第2の電極プレートに隣接する第2の隙間であって、前記第2の隙間は、ラジアル角度2δに及ぶ、第2の隙間と、
前記第2の隙間に隣接する第3の電極プレートであって、前記第3の電極プレートは、ラジアル角度α2に及ぶように構成される、第3の電極プレートと、
前記第3の電極プレートに隣接する第3の隙間であって、前記第3の隙間は、ラジアル角度2δに及ぶ、第3の隙間と、
前記第3の隙間に隣接する第4の電極プレートであって、前記第4の電極プレートは、ラジアル角度2α1に及ぶように構成される、第4の電極プレートと、
前記第4の電極プレートに隣接する第4の隙間であって、前記第4の隙間は、ラジアル角度2δに及ぶ、第4の隙間と、
前記第4の隙間に隣接する第5の電極プレートであって、前記第5の電極プレートは、ラジアル角度α2に及ぶように構成される、第5の電極プレートと、
前記第5の電極プレートに隣接する第5の隙間であって、前記第5の隙間は、ラジアル角度2δに及ぶ、第5の隙間と、
前記第5の隙間に隣接する第6の電極プレートであって、前記第6の電極プレートは、ラジアル角度α2に及ぶように構成される、第6の電極プレートと、
前記第6の電極プレートに隣接する第6の隙間であって、前記第6の隙間は、ラジアル角度2δに及ぶ、第6の隙間と、
前記第6の隙間に隣接する第7の電極プレートであって、前記第7の電極プレートは、ラジアル角度2α1に及ぶように構成される、第7の電極プレートと、
前記第7の電極プレートに隣接する第7の隙間であって、前記第7の隙間は、ラジアル角度2δに及ぶ、第7の隙間と、
前記第7の隙間に隣接する第8の電極プレートであって、前記第8の電極プレートは、ラジアル角度α2に及ぶように構成される、第8の電極プレートと、
前記第8の電極プレートに隣接する第8の隙間であって、前記第8の隙間は、ラジアル角度2δに及ぶ、第8の隙間と、
前記第8の隙間に隣接する第9の電極プレートであって、前記第9の電極プレートは、ラジアル角度α2に及ぶように構成される、
前記第9の電極プレートに隣接する第9の隙間であって、前記第9の隙間は、ラジアル角度2δに及ぶ、第9の隙間と、
前記第9の隙間に隣接する第10の電極プレートであって、前記第10の電極プレートは、ラジアル角度2α1に及ぶように構成される、第10の電極プレートと、
前記第10の電極プレートに隣接する第10の隙間であって、前記第10の隙間は、ラジアル角度2δに及ぶ、第10の隙間と、
前記第10の隙間に隣接する第11の電極プレートであって、前記第11の電極プレートは、ラジアル角度α2に及ぶように構成される、第11の電極プレートと、
前記第11の電極プレートに隣接する第11の隙間であって、前記第11の隙間は、ラジアル角度2δに及ぶ、第11の隙間と、
前記第11の隙間に隣接する第12の電極プレートであって、前記第12の電極プレートは、ラジアル角度α2に及ぶように構成される、第12の電極プレートと、
前記第12の電極プレートに隣接する第12の隙間であって、前記第12の隙間は、ラジアル角度2δに及ぶ、第12の隙間と、
を含み、
α1=23度、α2=16度およびδ=2度である、
請求項1に記載の集束電子ビーム画像化装置。 - 12極型静電偏向器であって、
12個の電極プレートであって、前記12個の電極プレートは、第1の電極プレート、第2の電極プレート、第3の電極プレート、第4の電極プレート、第5の電極プレート、第6の電極プレート、第7の電極プレート、第8の電極プレート、第9の電極プレート、第10の電極プレート、第11の電極プレートおよび第12の電極プレートを含む、12個の電極プレートと、
円筒状容積の周囲の絶縁体であって、前記円筒状容積の軸は光軸であり、前記12個の電極プレートは、前記円筒状容積の周囲上に取り付けられる、絶縁体と、
前記12個の電極プレート内の開口円筒状空間であって、前記開口円筒状空間の軸は、前記光軸である、開口円筒状空間と、
を含み、
前記第1の電極プレートは、第1のラジアル角度に及ぶように構成され、
第1の隙間は、前記第1の電極プレートに隣接し、前記第1の隙間は、隙間ラジアル角度に及び、
前記第2の電極プレートは、前記第1の隙間に隣接し、前記第2の電極プレートは、第2のラジアル角度に及ぶように構成され、
第2の隙間は、前記第2の電極プレートに隣接し、前記第2の隙間は、前記隙間ラジアル角度に及び、
前記第3の電極プレートは前記第2の隙間に隣接し、前記第3の電極プレートは、前記第2のラジアル角度に及ぶように構成され、
第3の隙間は前記第3の電極プレートに隣接し、前記第3の隙間は前記隙間ラジアル角度に及び、
前記第4の電極プレートは前記第3の隙間に隣接し、前記第4の電極プレートは、前記第1のラジアル角度に及ぶように構成され、
第4の隙間は前記第4の電極プレートに隣接し、前記第4の隙間は前記隙間ラジアル角度に及び、
前記第5の電極プレートは前記第4の隙間に隣接し、前記第5の電極プレートは、前記第2のラジアル角度に及ぶように構成され、
第5の隙間は前記第5の電極プレートに隣接し、前記第5の隙間は前記隙間ラジアル角度に及び、
前記第6の電極プレートは前記第5の隙間に隣接し、前記第6の電極プレートは、前記第2のラジアル角度に及ぶように構成され、
第6の隙間は前記第6の電極プレートに隣接し、前記第6の隙間は前記隙間ラジアル角度に及び、
前記第7の電極プレートは前記第6の隙間に隣接し、前記第7の電極プレートは、前記第1のラジアル角度に及ぶように構成され、
第7の隙間は前記第7の電極プレートに隣接し、前記第7の隙間は前記隙間ラジアル角度に及び、
前記第8の電極プレートは前記第7の隙間に隣接し、前記第8の電極プレートは、前記第2のラジアル角度に及ぶように構成され、
第8の隙間は前記第8の電極プレートに隣接し、前記第8の隙間は前記隙間ラジアル角度に及び、
前記第9の電極プレートは前記第8の隙間に隣接し、前記第9の電極プレートは、前記第2のラジアル角度に及ぶように構成され、
第9の隙間は前記第9の電極プレートに隣接し、前記第9の隙間は前記隙間ラジアル角度に及び、
前記第10の電極プレートは前記第9の隙間に隣接し、前記第10の電極プレートは、前記第1のラジアル角度に及ぶように構成され、
第10の隙間は前記第10の電極プレートに隣接し、前記第10の隙間は前記隙間ラジアル角度に及び、
前記第11の電極プレートは前記第10の隙間に隣接し、前記第11の電極プレートは、前記第2のラジアル角度に及ぶように構成され、
第11の隙間は前記第11の電極プレートに隣接し、前記第11の隙間は前記隙間ラジアル角度に及び、
前記第12の電極プレートは前記第11の隙間に隣接し、前記第12の電極プレートは、第2のラジアル角度に及ぶように構成され、
第12の隙間は前記第12の電極プレートに隣接し、前記第12の隙間は前記隙間ラジアル角度に及び、
前記第1のラジアル角度は46度であり、前記第2のラジアル角度は16度であり、前記隙間ラジアル角度は4度である、
12極型静電偏向器。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13/028,444 US8536538B2 (en) | 2011-02-16 | 2011-02-16 | Multiple-pole electrostatic deflector for improving throughput of focused electron beam instruments |
US13/028,444 | 2011-02-16 | ||
PCT/US2012/023128 WO2012112284A2 (en) | 2011-02-16 | 2012-01-30 | Multiple-pole electrostatic deflector for improving throughput of focused electron beam instruments |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014507051A JP2014507051A (ja) | 2014-03-20 |
JP6165064B2 true JP6165064B2 (ja) | 2017-07-19 |
Family
ID=46636175
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013554462A Active JP6165064B2 (ja) | 2011-02-16 | 2012-01-30 | 集束電子ビーム機器のスループットを向上させるための多極静電偏向器 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8536538B2 (ja) |
JP (1) | JP6165064B2 (ja) |
KR (1) | KR101921351B1 (ja) |
TW (1) | TWI459429B (ja) |
WO (1) | WO2012112284A2 (ja) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2627732C2 (ru) * | 2012-06-01 | 2017-08-11 | Сименс Акциенгезелльшафт | Отклоняющая пластина и отклоняющее устройство для отклонения заряженных частиц |
US8921782B2 (en) | 2012-11-30 | 2014-12-30 | Kla-Tencor Corporation | Tilt-imaging scanning electron microscope |
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US9171694B2 (en) * | 2013-11-26 | 2015-10-27 | Kla-Tencor Corporation | Asymmetric electrostatic quadrupole deflector for improved field uniformity |
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TWI783596B (zh) * | 2017-10-02 | 2022-11-11 | 荷蘭商Asml荷蘭公司 | 使用帶電粒子束之設備 |
US11087950B2 (en) * | 2018-05-29 | 2021-08-10 | Kla-Tencor Corporation | Charge control device for a system with multiple electron beams |
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US11335608B2 (en) | 2020-04-15 | 2022-05-17 | Kla Corporation | Electron beam system for inspection and review of 3D devices |
CN112098438B (zh) * | 2020-07-23 | 2021-11-19 | 西安交通大学 | 一种高分辨大扫描场系统的二阶像差补偿方法 |
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US11501946B2 (en) | 2021-03-01 | 2022-11-15 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Method of influencing a charged particle beam, multipole device, and charged particle beam apparatus |
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Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09293472A (ja) | 1996-04-26 | 1997-11-11 | Fujitsu Ltd | 荷電粒子ビーム露光装置、その露光方法及びその製造方法 |
JPH10256136A (ja) | 1997-03-14 | 1998-09-25 | Nikon Corp | 荷電ビーム露光装置 |
US6989546B2 (en) | 1998-08-19 | 2006-01-24 | Ims-Innenmikrofabrikations Systeme Gmbh | Particle multibeam lithography |
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EP1958231B1 (de) * | 2005-12-06 | 2018-05-23 | Ceos Corrected Electron Optical Systems GmbH | Korrektiv zur beseitigung des öffnungsfehlers 3. ordnung und des axialen farbfehlers 1. ordnung 1. grades |
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JP5028181B2 (ja) * | 2007-08-08 | 2012-09-19 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 収差補正器およびそれを用いた荷電粒子線装置 |
JP4945463B2 (ja) | 2008-01-18 | 2012-06-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
JP5237734B2 (ja) * | 2008-09-24 | 2013-07-17 | 日本電子株式会社 | 収差補正装置および該収差補正装置を備える荷電粒子線装置 |
-
2011
- 2011-02-16 US US13/028,444 patent/US8536538B2/en active Active
-
2012
- 2012-01-30 KR KR1020137024380A patent/KR101921351B1/ko active IP Right Grant
- 2012-01-30 WO PCT/US2012/023128 patent/WO2012112284A2/en active Application Filing
- 2012-01-30 JP JP2013554462A patent/JP6165064B2/ja active Active
- 2012-02-14 TW TW101104785A patent/TWI459429B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI459429B (zh) | 2014-11-01 |
WO2012112284A2 (en) | 2012-08-23 |
US8536538B2 (en) | 2013-09-17 |
KR101921351B1 (ko) | 2018-11-22 |
JP2014507051A (ja) | 2014-03-20 |
WO2012112284A3 (en) | 2012-11-01 |
TW201241865A (en) | 2012-10-16 |
US20120205537A1 (en) | 2012-08-16 |
KR20140007902A (ko) | 2014-01-20 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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