JP6157056B2 - 透明導電性コーティング組成物、透明導電性シート、及び透明導電性シートの製造方法 - Google Patents
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- 239000008199 coating composition Substances 0.000 title claims description 73
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 51
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 49
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 45
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical group OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 claims description 30
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 27
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 25
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 23
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 23
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 19
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 15
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 11
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 10
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 claims description 10
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 10
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 8
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims description 5
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 5
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N decyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N hexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC)(OC)OC CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 3
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 claims description 3
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- INPZSKMAWFGEOP-UHFFFAOYSA-N tetrapropylsilane Chemical compound CCC[Si](CCC)(CCC)CCC INPZSKMAWFGEOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrothieno[3,4-b][1,4]dioxine Chemical compound O1CCOC2=CSC=C21 GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 claims description 2
- 229920001145 Poly(N-vinylacetamide) Polymers 0.000 claims description 2
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 claims description 2
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 claims description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 claims description 2
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 26
- 239000010408 film Substances 0.000 description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 7
- -1 sulfonic acid compound Chemical class 0.000 description 6
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- MSXVEPNJUHWQHW-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-2-ol Chemical compound CCC(C)(C)O MSXVEPNJUHWQHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 3
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960004592 isopropanol Drugs 0.000 description 2
- JYVLIDXNZAXMDK-UHFFFAOYSA-N pentan-2-ol Chemical compound CCCC(C)O JYVLIDXNZAXMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004040 pyrrolidinones Chemical class 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100284369 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) has-1 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- BYOIQYHAYWYSCZ-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoxysilane Chemical compound [SiH3]OCC=C BYOIQYHAYWYSCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
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- Conductive Materials (AREA)
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Description
本発明の透明導電性コーティング組成物は、固有導電性高分子、シリコン系化合物、水溶性樹脂、水及びアルコール系化合物を含むものである。これにより、厚みが均一で、かつ、スクライビングホイールへの付着物の発生を抑制可能な透明導電性薄膜を形成できる。
固有導電性高分子とは、Intrinsically Conductive Polymers(ICPs)と呼ばれる高分子であり、ドーパントによるドーピングによって、ポリラジカルカチオニック塩またはポリラジカルアニオニック塩が形成された状態で、それ自体が導電性を発揮し得る高分子をいう。
本発明の透明導電性コーティング組成物を構成するシリコン系化合物としては、2〜4個のアルコキシ基がケイ素に結合したアルコキシシラン化合物を用いることができる。アルコキシシラン化合物の具体例としては、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラプロピルシラン、テトラブトキシシラン、ビニルメトキシシラン、p−スチリルメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、トリフロロプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。上述した化合物を縮合し得られるオリゴマーを用いることもでき、例えば、信越化学工業社製の“KR−500”、“KC−89S”、“X−40−9225”、“X−40−9226”、“X−40−9250”、“X−40−2308”、“X−40−9238”などのアルコキシオリゴマーや、コルコート社製の“エチルシリケート40”、“エチルシリケート48”、“メチルシリケート51”、“メチルシリケート53A”、“EMS−485”、“SS-101”などのシリケートオリゴマーなどが挙げられる。これらのアルコキシシラン化合物は、単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明の透明導電性コーティング組成物を構成する水溶性樹脂としては、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエステル、カルボキシメチルセルロース、及びポリ(N-ビニルアセトアミド)からなる群から選ばれる少なくとも1種を用いることができる。ポリビニルアルコールを用いる場合、ポリビニルアルコールは、ポリ酢酸ビニルをケン化し製造されるものが好ましく、重合度が500〜2400のものが好ましい。
本発明の透明導電性コーティング組成物には、ガラス基板への濡れ性を改善し、塗布適正を付与するために、水とアルコール系溶剤との混合溶剤が添加される。アルコール系溶剤の添加量は、溶剤中で30〜90重量%が好ましい。アルコール系溶剤の添加量は30重量%以上であれば、ガラス基材上で塗布液が拡張し、均一な膜が得られ、90重量%以下であれば、ポリビニルアルコールなど水溶性樹脂の析出が妨げられ、組成物の保存性が向上する。
本発明の透明導電性コーティング組成物には、固有導電性高分子の導電性を向上するため、高沸点溶剤を添加することが好ましい。高沸点溶剤としては、エチレングリコール、ジメチルスルホキサイド、及びピロリドン系化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種を用いることができる。ピロリドン系化合物としては、N−メチルピロリドン、2−ピロリドンなどが挙げられる。高沸点溶剤の含有量は、透明導電性コーティング組成物の溶剤中で、1重量%以上30重量%以下が好ましい。高沸点溶剤の含有量が1重量%未満の場合、固有導電性高分子の分散粒子の融着が十分に行われず、導電性は向上しない。また、含有量が30重量%を超える場合、コーティング組成物が乾燥時に収縮し、均一な膜が得られない。
本発明の透明導電性シートは、ガラス基材と、ガラス基材の少なくとも一方の主面に上記本発明の透明導電性コーティング組成物を用いて形成された透明導電性薄膜とを有する。これにより、厚みが均一で、かつ、スクライブ時にスクライビングホイールへの付着物の発生を抑制可能な透明導電性薄膜を有し、均一なブレイクを可能とし、かつブレイク時にガラス基材の端面に欠けが生じるのを抑制可能な透明導電性シートを実現できる。
本発明の透明導電性シートの製造方法は、ガラス基材の少なくとも一方の主面に上記本発明の透明導電性コーティング組成物を塗布する工程と、前記透明導電性コーティング組成物を乾燥することにより、透明導電性薄膜を形成する工程とを含む。これにより、厚みが均一で、かつ、スクライブ時にスクライビングホイールへの付着物の発生を抑制可能な透明導電性薄膜を有し、均一なブレイクを可能とし、かつブレイク時にガラス基材の端面に欠けが生じるのを抑制可能な透明導電性シートを製造できる。
まず、以下の組成物を混合して、実施例1の透明導電性コーティング組成物を調製した。
(1)固有導電性高分子:PEDOT/PSS(ヘレウス社製、商品名“PH−1000”) 25部
(2)水溶性樹脂:ポリビニルアルコール(クラレ社製、“PVA−217”) 2.5部
(3)シリコン系化合物:テトラエトキシシラン(信越化学工業社製、商品名“KBE−04”) 72.5部
(4)水 1689部
(5)n-プロパノール 1953部
(6)高沸点溶剤:エチレングリコール 500部
まず、以下の組成物を混合して、実施例2の透明導電性コーティング組成物を調製した。
(1)固有導電性高分子:PEDOT/PSS(ヘレウス社製、商品名“PH−1000”) 25部
(2)水溶性樹脂:ポリビニルアルコール(クラレ社製、商品名“PVA−217”) 2.5部
(3)シリコン系化合物:テトラエトキシシラン(信越化学工業社製、商品名“KBE−04”) 36.25部
(4)シリコン系化合物:アルコキシオリゴマー(信越化学工業社製、商品名“X−40−2308”) 36.25部
(5)水 1689部
(6)n-プロパノール 1953部
(7)高沸点溶剤:エチレングリコール 500部
まず、以下の組成物を混合して、実施例3の透明導電性コーティング組成物を作製した。
(1)固有導電性高分子:PEDOT/PSS(ヘレウス社製、商品名“PH−1000”) 15部
(2)水溶性樹脂:ポリエチレングリコール(和光純薬工業社製、商品名“ポリエチレングリコール”) 1.5部
(3)シリコン系化合物:アルコキシオリゴマー(信越化学工業社製、商品名“X−40−2308”) 83.5部
(4)水 1109部
(5)n-プロパノール 788部
(6)2-メチル-2プロパノール 788部
(7)高沸点溶剤:エチレングリコール 300部
まず、以下の組成物を混合して、実施例4の透明導電性コーティング組成物を調製した。
(1)固有導電性高分子:PEDOT/PSS(ヘレウス社製、商品名“PH−1000”) 7.5部
(2)水溶性樹脂:ポリエチレングリコール(和光純薬工業社製、商品名“ポリエチレングリコール”) 7.5部
(3)シリコン系化合物:テトラエトキシシラン(信越化学工業社製、商品名“KBE−04”) 68部
(4)シリコン系化合物:アルコキシシラン(信越化学工業社製、商品名“KBM−13”) 17部
(5)水 1235部
(6)n-プロパノール 554部
(7)2-メチル-2プロパノール 554部
(8)高沸点溶剤:エチレングリコール 150部
まず、以下の組成物を混合して、実施例5の透明導電性コーティング組成物を作製した。
(1)固有導電性高分子:PEDOT/PSS(ヘレウス社製、商品名“PH−1000”) 25部
(2)水溶性樹脂:ポリエステル(互応化学工業社製、商品名“Z−687”) 5部
(3)シリコン系化合物:テトラエトキシシラン(信越化学工業社製、商品名“KBE−04”) 70部
(4)水 1737部
(5)n-プロパノール 536部
(6)2-メチル-2プロパノール 536部
(7)高沸点溶剤:エチレングリコール 150部
まず、以下の組成物を混合して、比較例1の透明導電性コーティング組成物を調製した。
(1)固有導電性高分子:PEDOT/PSS(ヘレウス社製、商品名“PH−1000”) 50部
(2)水溶性樹脂:ポリビニルアルコール(クラレ社製、商品名“PVA−217”) 50部
(3)水 4233部
(4)n-プロパノール 2359部
(5)2-メチル-2プロパノール 2359部
(6)高沸点溶剤:エチレングリコール 1000部
まず、以下の組成物を混合して、比較例2の透明導電性コーティング組成物を調製した。
(1)固有導電性高分子:PEDOT/PSS(ヘレウス社製、商品名“PH−1000”) 25部
(2)シリコン系化合物:アルコキシシシラン(信越化学工業社製、商品名“KBE−04”) 75部
(3)水 1642部
(4)n-プロパノール 1167部
(5)高沸点溶剤:エチレングリコール 500部
まず、以下の組成物を混合して、比較例3の透明導電性コーティング組成物を作製した。
(1)固有導電性高分子:PEDOT/PSS(ヘレウス社製、商品名“PH−1000”) 30部
(2)水溶性樹脂:ポリビニルアルコール(クラレ社製、商品名“PVA−217”)40部
(3)シリコン系化合物:アルコキシシシラン(信越化学工業社製、商品名“KBM−13”) 30部
(4)水 2730部
(5)n-プロパノール 2640部
(6)高沸点溶剤:エチレングリコール 600部
まず、以下の組成物を混合して、比較例4の透明導電性コーティング組成物を調製した。
(1)固有導電性高分子:PEDOT/PSS(ヘレウス社製、商品名“PH−1000”) 25部
(2)水溶性樹脂:ポリビニルアルコール(クラレ社製、商品名“PVA−217”)30部
(3)シリコン系化合物:アルコキシシシラン(信越化学工業社製、商品名“X40−2308”)
45部
(4)水 2212部
(5)n-プロパノール 1131部
(6)2-メチル-2プロパノール 1131部
(7)高沸点溶剤:エチレングリコール 500部
まず、各実施例及び比較例で調製した透明導電性コーティング組成物をアルミニウム製のカップに入れて120℃で24時間乾燥した。その後、固形分中のSi量を蛍光X線分析法により求め、該Si量を用いてSiO2量を算出した。
三星ダイヤモンド工業社製のリニアカッターにアピオタイプAのスクライビングホイール(DCWT D3.0×T0.65×H0.8)を取り付け、上記実施例1〜5及び比較例1〜2の各透明導電性シートの透明導電性薄膜形成面をスクライブした。予めスクライブ前に上記スクライビングホイールに付着物がないことを顕微鏡で確認した。そして、スクライブを30回行った後、再度、顕微鏡により、上記スクライビングホイールに異物が付着しているかどうかを観察した。スクライビングホイールに付着物が確認されなかった場合はA、付着物が確認された場合はBと表記した。
Claims (12)
- ポリチオフェン系化合物とポリスチレンスルホン酸とを含む固有導電性高分子、シリコン系化合物、水溶性樹脂、水、アルコール系溶剤、及び高沸点溶剤を含むガラス基板用透明導電性コーティング組成物であって、
前記シリコン系化合物が、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラプロピルシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、トリフロロプロピルトリメトキシシラン、及びこれらの化合物を縮合してなるアルコキシオリゴマー及びシリケートオリゴマーからなる群から選ばれる少なくとも1種を含み、
前記アルコール系溶剤が、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、及び2−メチル−2−プロパノールからなる群から選ばれる少なくとも1種であり、
前記高沸点溶剤が、エチレングリコールであり、
前記シリコン系化合物の含有量は、前記透明導電性コーティング組成物を120℃で24時間乾燥させたとき、固形分中にSiO2換算で30重量%以上であることを特徴とするガラス基板用透明導電性コーティング組成物。 - 前記シリコン系化合物が、テトラエトキシシラン及び前記アルコキシオリゴマーから選ばれる少なくとも1種である請求項1に記載のガラス基板用透明導電性コーティング組成物。
- 前記ポリチオフェン系化合物は、ポリ3,4−エチレンジオキシチオフェンである請求項1に記載のガラス基板用透明導電性コーティング組成物。
- 前記水溶性樹脂は、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエステル、カルボキシメチルセルロース、及びポリ(N−ビニルアセトアミド)からなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項1に記載のガラス基板用透明導電性コーティング組成物。
- 前記固有導電性高分子の含有量は、固形分中で、5重量%以上35重量%以下である請求項1に記載のガラス基板用透明導電性コーティング組成物。
- 前記水溶性樹脂の含有量は、固形分中で、0.5重量%以上48重量%以下である請求項1に記載のガラス基板用透明導電性コーティング組成物。
- 前記高沸点溶剤の含有量は、前記透明導電性コーティング組成物中で、1重量%以上30重量%以下である請求項1に記載のガラス基板用透明導電性コーティング組成物。
- ガラス基材と、
前記ガラス基材の少なくとも一方の主面に、請求項1〜7のいずれか1項に記載のガラス基板用透明導電性コーティング組成物が塗布されることにより形成された透明導電性薄膜と、を含むことを特徴とする透明導電性シート。 - 前記透明導電性薄膜の膜厚は、0.03〜1.5μmである請求項8に記載の透明導電性シート。
- ガラス基材の少なくとも一方の主面に、請求項1〜7のいずれか1項に記載のガラス基板用透明導電性コーティング組成物を塗布する工程と、
前記ガラス基板用透明導電性コーティング組成物を乾燥することにより、透明導電性薄膜を形成する工程と、を含むことを特徴とする透明導電性シートの製造方法。 - 前記透明導電性薄膜の膜厚は、0.03〜1.5μmである請求項10に記載の透明導電性シートの製造方法。
- 前記乾燥は、80〜200℃で、1分間以上行われる請求項10に記載の透明導電性シートの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012054705A JP6157056B2 (ja) | 2012-03-12 | 2012-03-12 | 透明導電性コーティング組成物、透明導電性シート、及び透明導電性シートの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012054705A JP6157056B2 (ja) | 2012-03-12 | 2012-03-12 | 透明導電性コーティング組成物、透明導電性シート、及び透明導電性シートの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013191294A JP2013191294A (ja) | 2013-09-26 |
JP6157056B2 true JP6157056B2 (ja) | 2017-07-05 |
Family
ID=49391371
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012054705A Active JP6157056B2 (ja) | 2012-03-12 | 2012-03-12 | 透明導電性コーティング組成物、透明導電性シート、及び透明導電性シートの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6157056B2 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6325364B2 (ja) * | 2014-06-18 | 2018-05-16 | マクセルホールディングス株式会社 | 透明導電性コーティング組成物、透明導電性シート及びその製造方法、並びに透明導電パターン形成方法 |
JP2016097562A (ja) * | 2014-11-20 | 2016-05-30 | 日立化成株式会社 | 樹脂層付き基板の製造方法、導電層付き基板の製造方法、樹脂層付き基板、導電層付き基板及びタッチパネル。 |
JP6380912B2 (ja) * | 2015-02-25 | 2018-08-29 | 荒川化学工業株式会社 | 導電性コーティング剤、導電層及び導電層を備える基材 |
JP6491910B2 (ja) * | 2015-03-11 | 2019-03-27 | マクセルホールディングス株式会社 | 透明導電性シート及びその製造方法 |
JP6591785B2 (ja) * | 2015-05-27 | 2019-10-16 | マクセルホールディングス株式会社 | 導電性シートの製造方法及びその製造方法で製造された導電性シート |
JP6640052B2 (ja) * | 2015-08-26 | 2020-02-05 | 信越ポリマー株式会社 | 帯電防止性成形体の製造方法 |
JP6678070B2 (ja) * | 2016-06-20 | 2020-04-08 | マクセルホールディングス株式会社 | 透明導電性コーティング組成物、透明導電性シート及びその製造方法 |
WO2018088492A1 (ja) * | 2016-11-10 | 2018-05-17 | マクセルホールディングス株式会社 | 電磁波吸収シート |
JP7418944B2 (ja) | 2017-09-11 | 2024-01-22 | 日東電工株式会社 | 導電性組成物および生体センサ |
JPWO2019150638A1 (ja) * | 2018-02-05 | 2021-02-04 | マクセルホールディングス株式会社 | 透明導電性膜及びその製造方法 |
JP7100603B2 (ja) * | 2019-03-22 | 2022-07-13 | 信越ポリマー株式会社 | 導電性接着剤組成物、導電性接着構造体及びその製造方法、並びに導電性積層体及びその製造方法 |
US20220396584A1 (en) * | 2019-11-25 | 2022-12-15 | 3M Innovative Properties Company | Biotin-containing monomers and articles formed therefrom |
JP7222878B2 (ja) * | 2019-12-25 | 2023-02-15 | シチズン時計株式会社 | 風防用帯電防止膜形成用組成物、及びそれを用いた時計と時計の製造方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1159382C (zh) * | 1996-12-13 | 2004-07-28 | 三星电管株式会社 | 透明导电组合物、该组合物形成的透明导电层及其制造方法 |
KR100390578B1 (ko) * | 1998-12-17 | 2003-12-18 | 제일모직주식회사 | 고굴절율 전도성 고분자 박막 투명 필름 코팅액 조성물 |
JP4922569B2 (ja) * | 2005-04-04 | 2012-04-25 | 帝人デュポンフィルム株式会社 | 帯電防止コーティング用組成物、これを塗布してなる帯電防止フィルムおよびその製造方法 |
JP4700391B2 (ja) * | 2005-04-11 | 2011-06-15 | 帝人デュポンフィルム株式会社 | 導電性フィルム |
TWI479509B (zh) * | 2006-02-09 | 2015-04-01 | 信越聚合物股份有限公司 | 導電性高分子溶液、導電性塗膜、電容器,以及電容器之製造方法 |
JP5037110B2 (ja) * | 2006-12-22 | 2012-09-26 | 信越ポリマー株式会社 | 帯電防止塗料の製造方法及び帯電防止塗膜の製造方法 |
WO2008141981A1 (en) * | 2007-05-18 | 2008-11-27 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Curable coating compositions providing antistatic abrasion resistant coated articles |
JP2010077294A (ja) * | 2008-09-26 | 2010-04-08 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 帯電防止コーティング用組成物 |
JP2010114066A (ja) * | 2008-10-06 | 2010-05-20 | Fujifilm Corp | 有機導電性高分子塗布液、有機導電性高分子膜、導電体、及び抵抗膜式タッチパネル |
-
2012
- 2012-03-12 JP JP2012054705A patent/JP6157056B2/ja active Active
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JP2013191294A (ja) | 2013-09-26 |
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