JP6152623B2 - 採光パネル、採光パネルの製造方法 - Google Patents
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図2は、図1にII−IIで示した鉛直方向における断面図のうち採光パネル10の部分の断面を示し、採光パネル10の層構成を模式的に表した図である。図2では、見易さのため繰り返しとなる符号は一部省略することがある(以降に示す各図において同じ。)。図3には、図2の一部で、偏向層14の単位プリズム15に注目して拡大した図を示した。
ここで接着層12の厚さは特に限定されるものではないが、10μm以上100μm以下であることが好ましい。10μmより薄いと接着の効果が不十分になる可能性が高く、100μmより厚いと層厚の均一化が困難になる。
ここで基材層13の厚さは25μm以上300μm以下であることが好ましい。25μmより薄いとしわが発生したり基材としての機能を損なう虞がある。一方300μmより厚いと製造時における巻取りが困難となる。
当該θ1の範囲は、例えば東京(北緯35.5度)、札幌(北緯43度)、那覇(北緯26度)の南北に緯度の大きく異なる3か所を基準とし、夏至、冬至における太陽の南中高度及び偏向層に用いることができる一般的な材料の屈折率を考慮して求めることができる。より具体的には次の通りである。
東京は北緯35.5度、札幌は北緯43度、那覇は北緯26度であり、各地の夏至の南中高度はそれぞれ78度(東京)、70.5度(札幌)、87.5度(那覇)となる。一方、冬至の南中高度は31度(東京)、23.5度(札幌)、40.5度(那覇)である。従って、当該範囲の最小である23.5度と最大である87.5度との中心は55度である。ここで、一般的な樹脂の屈折率を1.49(アクリル系樹脂)〜1.59(スチレン、ポリカーボネート系樹脂)として、スネルの法則に基づいて全反射条件を計算し、生産性も考慮すると、θ1は0°以上12.1度以下であることが好ましく、4.5度であることが更に好ましい。θ1が0度より小さいと金型を製造する際の切削性、金型により単位プリズムを成型する際の成型性、及び金型離型性が悪くなる。また、θ1が12.1度より大きくなると、夏至における那覇の南中高度87.5度のときに全反射しなくなる。
単位プリズム15と基材層13とを同じ材料とする場合には、基材層13と偏向層14とを一体に形成することもできる。また、偏向層14と基材層13とが異なる材料である場合、及び同じ材料の場合であっても、基材層13と偏向層14が別に形成され、なんらかの手段により積層されてもよい。
偏向層14の形成方法の例は後で説明する。
ただし、これに限定されることなく、隣り合う単位プリズム15間に、単位プリズム15を構成する材料の屈折率より低い屈折率を有する材料を充填してもよい。具体的に充填される材料は特に限定されることはないが、例えば、アクリル、スチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、アクリロニトリル等の一以上を主成分とする透明樹脂や、エポキシアクリレートやウレタンアクリレート系の反応性樹脂(電離放射線硬化型樹脂等)を挙げることができる。
ここで接着層16の厚さは特に限定されるものではないが、10μm以上100μm以下であることが好ましい。10μmより薄いと接着の効果が不十分になる可能性が高く、100μmより厚いと層厚の均一化が困難になる。
ここで保護層17の厚さは25μm以上300μm以下であることが好ましい。25μmより薄いとしわが発生したり基材としての機能を損なう虞がある。一方300μmより厚いと製造時における巻取りが困難となる。
具体的には電離放射線硬化性樹脂、その他公知の硬化性樹脂等を要求性能に応じて適宜採用すればよい。電離放射線硬化性樹脂としては、アクリレート系、オキセタン系、シリコーン系などが挙げられる。例えば、アクリレート系の電離放射線硬化性樹脂は、単官能(メタ)アクリレートモノマー、2官能(メタ)アクリレートモノマーモノマー、3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーなどの(メタ)アクリル酸エステルモノマー、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステルオリゴマー乃至は(メタ)アクリル酸エステルプレポリマーなどからなる。さらに3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを例示すれば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等がある。
帯電防止性向上には、例えば電子伝導タイプではPEDOT−PSS(PEDOT(Poly(3,4−ethylenedioxythiophene);3,4−エチレンジオキシチオフェンポリマー)とPSS(poly(styrenesulfonate);スチレンスルホン酸ポリマー)との共存)を用いたり、イオン導電タイプではリチウム塩系材料を適用したりすることが挙げられる。
一方、撥水性向上には、フッ素系化合物を用いることが挙げられる。
また接着層16が紫外線硬化樹脂、光硬化性樹脂からなる場合には、積層後に紫外線又は光を照射して硬化させればよい。
なお、θ1の角度によっては水平方向や水平方向より下方に向けて偏向させることができる。この場合でも少なくとも入射光の角度より上方に偏向して室内側に光を採り入れることが可能である。
このように採光パネル10によれば、斜め上方から入射された光を入射した角度より上方に偏向して室内に光を採り入れることができる。これにより例えば床面や空間の下部に直射日光が照射されることが好ましくない場合に、光量を落とさず空間の上部に光を採り入れることが可能となる。
また接着層16が紫外線硬化樹脂、光硬化性樹脂からなる場合には、積層後に紫外線又は光を照射して硬化させればよい。
なお、θ5の角度によっては水平方向や水平方向より下方に向けて偏向させることができる。この場合でも少なくとも入射光の角度より上方に偏向して室内側に光を採り入れることが可能である。
このように採光パネル30によれば、斜め上方から入射された光を入射した角度より上方に偏向して室内に光を採り入れることができる。これにより例えば床面や空間の下部に直射日光が照射されることが好ましくない場合に、光量を落とさず空間の上部に光を採り入れることが可能となる。
11 パネル
12 接着層
13 基材層
14、24、34、44 偏向層
15、25、35、45 単位プリズム
16 接着層
17 保護層
18 ハードコート層
Claims (4)
- 台形断面を有して一方向に伸びる単位プリズムが、前記一方向とは異なる方向に複数配列された偏向層と、
隣り合う前記単位プリズム間に形成され、前記単位プリズムとは屈折率が異なる透明樹脂により形成されている部位と、
透光性を有する板状の部材であり、前記偏向層の前記単位プリズムの台形断面の下底となる面に積層された基材層と、
透光性を有する板状の部材であり、前記偏向層の前記単位プリズムの台形断面の上底となる面に積層された保護層と、
透光性を有しガラス又は樹脂により形成された板状のパネルと、を有し、
前記基材層、前記偏向層、及び前記保護層を含む積層体が前記パネルの一方の面に積層され、
前記単位プリズムの前記台形断面のうち一方の脚部が前記パネルの法線に対して成す角が、他方の脚部の当該成す角よりも大きい、太陽光の採光パネル。 - 前記基材層、前記偏向層、及び前記保護層を含む積層体の前記パネルが配置される側とは反対側にハードコート層が配置されることを特徴とする請求項1に記載の太陽光の採光パネル。
- 請求項1又は2に記載の太陽光の採光パネルを製造する方法であって、
接着層が一方の面に積層された前記基材層の他方の面に前記単位プリズムの前記下底が配置されるように前記偏向層を形成する工程と、
接着層が一方の面に積層された前記保護層を、該保護層の前記接着層が前記単位プリズムの前記上底に接するように貼り付ける工程と、を含む、太陽光の採光パネルの製造方法。 - 請求項2に記載の太陽光の採光パネルを製造する方法であって、
前記ハードコート層が一方の面に積層された前記基材層の他方の面に前記単位プリズムの前記下底が配置されるように前記偏向層を形成する工程と、
接着層が積層された前記保護層を、該保護層の前記接着層が前記単位プリズムの前記上底に接するように貼り付ける工程と、を含む、太陽光の採光パネルの製造方法。
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