JP6149792B2 - 電解質膜構造体の製造方法 - Google Patents

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本発明は、電解質膜構造体の製造方法に関する。
補強膜である多孔性膜に、電解質膜を両側から含浸させて、補強膜を有する電解質膜構造体を製造する方法が知られている(例えば特許文献1)。この方法では、多孔性膜の両側に電解質膜を積層し、一方の電解質膜にスチールベルトを接触させ、他方の電解質膜を加熱ロールに接触させ、スチールベルトと加熱ロールの両方から多孔性膜とその両側の電解質膜とを加圧することで、電解質膜を多孔性膜に含浸させる。
特開2008−277288号公報 特開2013−114887号公報 特開2012−62553号公報
上記技術では、一方の電解質膜にベルトが接触し電解質膜とベルトが密着した後に、他方の電解質膜が加熱ロールに接触する。そのため、電解質膜が加熱ロールにより膨張したときに、電解質膜とベルトとの間に摩擦力が生じ、電解質膜にシワが生じるおそれがあった。
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態として実現することが可能である。
(1)本発明の一実施形態によれば、補強膜に電解質膜を含浸させて電解質膜構造体を製造する電解質膜構造体の製造方法が提供される。この製造方法は、補強膜に電解質膜を配置して積層膜を形成する積層工程と、前記積層膜を加熱する加熱工程と、前記加熱工程の後に前記積層膜の少なくとも一方の面にベルトを配置するベルト配置工程と、前記ベルトを配置した状態で、加熱ロールを用いて前記積層膜に対して加熱しながら押圧力を加えて前記電解質膜を前記補強膜に含浸させる含浸工程と、を備える。電解質膜にベルトを配置してから加熱すると、電解質膜が膨張し、電解質膜とベルトとの間の摩擦力が増大して、シワが発生するおそれがある。この形態によれば、加熱工程により積層膜が膨張した後にベルトが配置されるので、積層膜とベルトとの間の摩擦力の増大を抑制して、積層膜(電解質膜)にシワが発生することを抑制できる。
(2)上記形態の製造方法において、前記加熱工程は、前記積層膜が前記加熱ロールに接触し、前記加熱ロールにより搬送されながら実行されてもよい。この形態によれば、含浸工程で用いる加熱ロールを用いて積層膜を加熱出来る。
(3)上記形態の製造方法において、前記ベルト配置工程において、前記積層膜の温度と前記加熱ロールの温度との差が所定の差以下になってから、前記積層膜の一方の面にベルトが配置されてもよい。この形態によれば、積層膜の膨張がほぼ生じなくなってからベルトが配置されるので、シワが生じにくい。
(4)上記形態の製造方法において、前記ベルト配置工程において、前記積層膜に前記ベルトを配置する前に、前記ベルトを加熱する工程を備えてもよい。この形態によれば、積層膜にベルトを配置する前に、ベルトを加熱するため、ベルトを積層膜に配置したときに、ベルトと積層膜との温度差により積層膜に応力が生じることを抑制できる。
(5)上記形態の製造方法において、前記ベルトは、耐熱性樹脂で形成されていてもよい。この形態によれば、ベルトは耐熱性樹脂で形成されているので、軟質であり、電解質が補強膜の外縁にはみ出すことを抑制しやすい。
(5)上記形態の製造方法において、前記ベルトは、ポリイミドで形成されていてもよい。
なお、本発明は、種々の態様で実現することが可能である。例えば、電解質膜構造体の製造方法の他、電解質膜構造体の製造等の形態で実現することができる。
補強膜と電解質膜の積層装置を示す説明図である。 電解質膜の含浸装置を示す説明図である。 電解質膜構造体の製造フローチャートである。 比較例1の含浸装置を示す説明図ある。 比較例2の含浸装置を示す説明図である。 電解質膜構造体の出来映えを比較する説明図である。 比較例1においてシワが発生する推定メカニズムの説明図である。 本実施形態においてシワが生じにくい理由を示す説明図である。
図1は、補強膜と電解質膜の積層装置10を示す説明図である。積層装置10は、電解質膜製造部100と、保護シート貼合部110と、補強膜・電解質膜積層部120と、を備える。電解質膜製造部100は、電解質の膜(以下「電解質膜210」と呼ぶ。)を形成する。電解質としては、ナフィオン(Nafion:登録商標)の前駆体など、則鎖末端にフッ化スルフリル基(−SOF)を有するパーフルオロスルホン酸ポリマーの前駆体を用いることができる。本実施形態では、電解質膜製造部100は、IECが1.3〜1.8meg/gの電解質の前駆体を用い、厚さ4〜20μmの電解質膜210を形成する。本実施形態では、則鎖末端にフッ化スルフリル基を有する電解質の前駆体を用いたが、代わりに、則鎖末端に塩化スルフリル基(−SOCl)を有する電解質の前駆体、あるいは、則鎖末端にスルホン酸基(−SOH)基を有する電解質を用いても良い。なお、電解質の前駆体のハロゲン化スルフリル基(フッ化スルフリル基、塩化スルフリル基)は、加水分解処理により、スルホン酸基(−SOH)基に容易に変換できる。なお、本実施形態では、電解質と呼ぶ場合には、電解質の前駆体、電解質の両方を含むものとする。
保護シート貼合部110は、一対の貼合ロール112と、保護シート繰出ロール114と、を備えている。保護シート繰出ロール114は、保護シート220を繰り出す。保護シート220は、フッ素系の樹脂、例えばテフロン(テフロンは登録商標)または炭化水素系の樹脂、で形成されている。保護シート貼合部110は、一対の貼合ロール112の2つのロールの間に、電解質膜210と、保護シート220とを挟んで通過させることにより、電解質膜210と、保護シート220とを密着させる。
補強膜・電解質膜積層部120は、一対の積層ロール122と、ペースト押出機124と、延伸機126と、を備える。ペースト押出機124は、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)のファインパウダーとアイソパー(アイソパーは登録商標)とを混合し、帯状に押し出すことで帯状の補強膜230を形成する。延伸機126は、帯状の補強膜230を厚さ1〜5μm、気孔率40〜60%程度に延伸し、約350℃で焼成して、多孔性の補強膜231を形成する。例えば、延伸機126は、一対のロールを用い、その間に補強膜230を通過させながら押圧することにより、補強膜230を延伸してもよい。本実施形態では、補強膜・電解質膜積層部120は、ペースト押出機124を有し、補強膜230を製造しているが、別途作成された補強膜230を用いてもよい。
本実施形態では、補強膜230として、ポリテトラフルオロエチレンを用いたが、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、共重合成分を10モル%含むポリテトラフルオロエチレン共重合体等のポリオレフィン系樹脂:、ポリシロキサン;ポリメチルメタクリレート(PMMA)などのメタクリレート系樹脂;ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS樹脂)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS樹脂)などのスチレン系樹脂;ポリアミド;ポリイミド(PI);ポリエーテルイミド(PEI);ポリアミドイミド;ポリエステルイミド;ポリカーボネート(PC);ポリアセタール;ポリフェニレンエーテル(PPO)などのポリアリーレンエーテル;ポリフェニレンスルフィド(PPS);ポリアリレート;ポリアリール;ポリスルホン(ポリサルホン);ポリエーテルスルホン(PES)(ポリエーテルサルホン);ポリウレタン類;ポリエチレンテレフタレート(PET)などのポリエステル系樹脂;ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)やポリエーテルケトンケトン(PEKK)などのポリエーテルケトン類;ポリアクリル酸ブチル、ポリアクリル酸エチルなどのポリアクリル酸エステル類;ポリブトオキシメチレンなどのポリビニルエステル類;ポリシロキサン類;ポリサルファイド類;ポリフォスファゼン類;ポリトリアジン類;ポリカーボラン類;ポリノルボルネン;エポキシ系樹脂;ポリビニルアルコール;ポリビニルピロリドン;ポリイソプレンやポリブタジエンなどのポリジエン類;ポリイソブチレンなどのポリアルケン類;フッ化ビニリデン系樹脂、ヘキサフルオロプロピレン系樹脂、ヘキサフルオロアセトン系樹脂などの樹脂(熱可塑性樹脂など)のいずれかを用いても良い。
一対の積層ロール122は、補強膜231の両面に、保護シート220を有する電解質膜210を配置して、「保護シート220−電解質膜210−補強膜231−電解質膜210−保護シート220」の5層構造の積層膜200を形成する。積層膜200は、次の工程が実行される含浸装置に送られる。
図2は、電解質膜の含浸装置30を示す説明図である。含浸装置30は、加熱ロール310、320と、一対の搬送ロール対330、332と、搬送ロール334とを備える。一対の搬送ロール対330、332は、積層膜200に0.1〜0.8MPaの張力を掛けながら積層膜200を加熱ロール310に搬送する、加熱ロール310は、回転可能に設けられており、搬送された積層膜200は、加熱ロール310に接触後、加熱ロール310の回転に伴って、加熱ロール310の円周面に沿って搬送される。加熱ロール310は、例えば210〜260℃程度の温度に加熱されており、積層膜200が接触している間、積層膜200を加熱し、軟化させる。
搬送ロール334は、0.8〜2.7MPaの張力を掛けながらベルト250を加熱ロール310に搬送する。ベルト250は、ポリイミドなど耐熱性を有する材料、例えば耐熱性樹脂で形成されている。ベルト250は、ポリイミド以外にSUSなどの金属で形成されたスチールベルトであってもよい。なお、耐熱性樹脂のベルト250の方が、スチールベルトよりも軟質であり、電解質膜210を形成する電解質の前駆体が補強膜231の外縁にはみ出すことを抑制しやすい点で好ましい。また、ベルト250は、閉じたループを形成していても良い。ベルト250は、加熱ロール310上の積層膜200に対し、さらにその上に重ねられる(図1のステップS120)。ベルト250は、積層膜200とともに、加熱ロール310の表面に沿って搬送される。搬送速度は、1〜5m/分である。加熱ロール310の表面に沿って搬送される際に、ベルト250と加熱ロール310の両方から積層膜200を加熱することで、電解質膜210に補強膜231が含浸され始める。
加熱ロール320は、加熱ロール310の下流に配置されており、約180℃に加熱されている。積層膜200は、2つの加熱ロール310と320によって挟まれることで、積層方向の押圧力を受ける。この押圧力によって、その結果、電解質膜210に補強膜231が含浸される。
電解質膜210に補強膜231が含浸された後、積層膜200とベルト250は、ベルト250側が加熱ロール320に接するように、加熱ロール320の表面に沿って0.5MPaの張力で搬送される。加熱ロール320の温度(約180℃)は、加熱ロール310の温度(210〜260℃)より少し低い温度であり、積層膜200は、加熱ロール320上を搬送される間に、ゆっくりと温度が低下する。その後、ベルト250が剥離され、電解質膜構造体201が形成される。なお、積層膜200が加熱ロール310から離れたときに、積層膜200とベルト250とを離間させ、ベルト250のみを加熱ロール320上を搬送させてもよい。
図3は、電解質膜構造体の製造フローチャートである。ステップS100は、図1で説明した補強膜と電解質膜の積層装置10で実行される。ステップS100では、補強膜231の両面に保護シート220を有する電解質膜210を準備し、これらを積層することで、「保護シート220−電解質膜210−補強膜231−電解質膜210−保護シート220」の5層構造の積層膜200を形成する積層工程が実行される。
ステップS110、S120、S130は、図2で説明した含浸装置30で実行される。ステップS110では、加熱ロール310上で積層膜200を加熱ロール310に接触させることで、積層膜200を加熱する加熱工程が実行される。ステップS120では、積層膜200の加熱を維持したまま、積層膜200の上にベルト250を配置するベルト配置工程が実行される。ステップS130では、加熱状態を維持したまま加熱ロール310と320とを用いて積層膜200を積層方向に押圧して、電解質膜210に補強膜231を含浸させる含浸工程が実行される。
図4は、比較例1の含浸装置31を示す説明図である。比較例1の含浸装置31は、積層膜200を加熱ロール310で加熱する前にベルト250を積層膜200に貼り付ける点が本実施形態の含浸装置30と異なる。すなわち、本実施形態の含浸装置30では、積層膜200が加熱ロール310により加熱された後、加熱ロール310上でベルト250が貼り付けられる。これに対し、比較例1の含浸装置31は、先に、一対の搬送ロール対332(「ニップロール332」とも呼ぶ。)の間に積層膜200と、ベルト250とを、通過させながら圧力0.05〜0.4Mpaの圧力を掛けることにより、ベルト250を積層膜200に貼り付ける。その後、ベルト250が貼り付けられた積層膜200を加熱ロール310に接触させて、加熱ロール310上を搬送する。なお、他の構成、工程については、本実施形態と同一である。
図5は、比較例2の含浸装置32を示す説明図である。比較例2の含浸装置32は、ベルト250及びベルト250の搬送ロール334を備えず、代わりに、積層膜200が加熱ロール310に接触する位置よりも少し下流側にらせん状ロール340を備える。らせん状ロール340は、傾斜角約30度に傾斜した溝形状を備える。らせん状ロール340は、積層膜200の搬送方向と交わる方向の端部のシワを伸ばす。
図6は、電解質膜構造体201の出来映えを比較する説明図である。出来映えは、含浸前後の電解質膜構造体201の幅の縮小量(ネックイン量)の大きさと、シワの有無で判断した。ネックイン量は、電解質膜構造体201の幅の縮小量が1%未満を良、1%以上を不良と判定し、シワについては、目視で観察し、シワが無ければ良、シワがあれば不良とした。本実施形態、比較例1、比較例2のいずれも、ネックイン量は1%未満であった。シワについては、本実施形態では目視では発見されなかったが、比較例1、比較例2では、目視で発見された。
図7は、比較例1においてシワが発生する推定メカニズムの説明図である。積層膜200が加熱ロール310に接触すると、積層膜200の補強膜231、2つの電解質膜210、2つの保護シート220は、それぞれ熱膨張する。積層膜200には、熱膨張により生じる膨張力F1が掛かる。また、電解質膜210には、樹脂の剛性により、膨張変形を抑制しようとする弾性復元力F2が掛かる。また、比較例1では、先に積層膜200にベルト250が貼り付けられ、その後に積層膜200が加熱される(膨張する)ため、ベルト250と、積層膜200との間に、弾性復元力F2を抑制しようとする摩擦力F3が掛かる。そのため、膨張力F1を弾性復元力F2で緩和することが出来ずにシワが生じるものと推定される。
図8は、本実施形態においてシワが生じにくい理由を示す説明図である。積層膜200が加熱ロール310に接触したときに、膨張力F1と、弾性復元力F2とが掛かるのは、比較例1と同様である。しかし、本実施形態では、積層膜200が加熱ロール310に接触するときには、ベルト250は、積層膜200に接触していない。そのため、積層膜200の膨張時に、弾性復元力F2を抑制しようとする摩擦力F3が掛からない。その結果、膨張力F1を弾性復元力F2で緩和することが出来、シワが生じ難いものと推定される。
以上、比較例では、ベルト250を積層膜200に配置してから積層膜200を加熱をしたため、ベルト250により把持された状態で積層膜200が膨張するため、シワが発生したが、本実施形態によれば、積層膜200が加熱により膨張した後にベルト250が配置するため、膨張による積層膜200とベルト250との間の摩擦力の増大を抑制して、電解質膜210にシワが発生することを抑制できる。
積層膜200の温度と加熱ロール310の温度との差が所定の差以下(例えば30℃以下)になってから、積層膜200の一方の面にベルト250が配置されるように、搬送ロール334が配置されていることが好ましい。積層膜200の膨張がほぼ生じなくなってからベルト250が配置されるので、電解質膜210にシワが生じにくい。加熱ロール310の温度は、加熱ロールに温度計を配置することで、容易に測定可能である。積層膜200の温度は、赤外線温度計を用いて測定可能である。なお、ベルト250を積層膜200上に接触させる位置を、実験により温度を測定し、予め求めて置いても良い。
ベルトを配置する工程(ステップS120)において、積層膜200にベルト250を配置する前に、ベルト250を加熱してもよい。積層膜200にベルト250を配置する前に、ベルト250を加熱するため、ベルト250を積層膜200に配置したときに、ベルト250と積層膜200との温度差により積層膜200に応力が生じることを抑制できる。ベルト250の加熱は、例えば、加熱ロール320を用いても良い。
本実施形態では、補強膜231の両面に電解質膜210を配置したが、補強膜231の一方の面に電解質膜210を配置してもよい。
以上、いくつかの実施例に基づいて本発明の実施の形態について説明してきたが、上記した発明の実施の形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨並びに特許請求の範囲を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明にはその等価物が含まれることはもちろんである。
10…積層装置
30、31、32…含浸装置
100…電解質膜製造部
110…保護シート貼合部
112…貼合ロール
114…保護シート繰出ロール
120…電解質膜積層部
122…積層ロール
124…ペースト押出機
126…延伸機
200…積層膜
201…電解質膜構造体
210…電解質膜
220…保護シート
230、231…補強膜
250…ベルト
310、320…加熱ロール
330…搬送ロール対
332…搬送ロール対(ニップロール)
334…搬送ロール
340…らせん状ロール
S100…ステップ
F1…膨張力
F2…弾性復元力
F3…摩擦力

Claims (6)

  1. 補強膜に電解質膜を含浸させて電解質膜構造体を製造する電解質膜構造体の製造方法であって、
    補強膜に電解質膜を配置して積層膜を形成する積層工程と、
    前記積層膜を加熱する加熱工程と、
    前記加熱工程の後に前記積層膜の少なくとも一方の面にベルトを配置するベルト配置工程と、
    前記ベルトを配置した状態で、加熱ロールを用いて前記積層膜に対して加熱しながら押圧力を加えて前記電解質膜を前記補強膜に含浸させる含浸工程と、
    を備える、電解質膜構造体の製造方法。
  2. 請求項1に記載の電解質膜構造体の製造方法において、
    前記加熱工程は、前記積層膜が前記加熱ロールに接触し、前記加熱ロールにより搬送されながら実行される、電解質膜構造体の製造方法。
  3. 請求項2に記載の電解質膜構造体の製造方法において、
    前記ベルト配置工程において、前記積層膜の温度と前記加熱ロールの温度との差が30℃以下になってから、前記積層膜の一方の面に前記ベルトが配置される、電解質膜構造体の製造方法。
  4. 請求項1〜3のいずれか一項に記載の電解質膜構造体の製造方法において、
    前記ベルト配置工程において、前記積層膜に前記ベルトを配置する前に、前記ベルトを加熱する工程を備える、電解質膜構造体の製造方法。
  5. 請求項1〜4のいずれか一項に記載の電解質膜構造体の製造方法において、
    前記ベルトは、耐熱性樹脂で形成されている、電解質膜構造体の製造方法。
  6. 請求項5に記載の電解質膜構造体の製造方法において、
    前記ベルトは、ポリイミドで形成されている、電解質膜構造体の製造方法。
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