JP6146043B2 - 測定装置及び測定方法 - Google Patents

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本発明は、被測定用基板及び測定方法に関する。
LSI等の電子機器が実装されたプリント基板において、例えば数十Gbpsの高速伝送信号を伝送しようとすると、高周波に起因する抵抗増加による損失が問題となる。プリント基板における損失は、大きく分けて導体損失と誘電損失がある。この場合、導体損失は、被測定対象である信号ラインにおける損失であり、誘電損失は、プリント基板の絶縁(誘電体)層における損失である。
特開平10−216795号公報
導体損失は、プリント基板の表面粗さの影響を受けて変わる値である。誘電損失は、プリント基板の絶縁(誘電体)材料が有機材料であることから製造されたプリント基板ごとに異なる値である。そのため、測定誤差が大きく、両損失を正確に切り分けて測定することができないという問題がある。
特許文献1には、高周波における抵抗の高精度な測定する方法として、いわゆる誘電体共振器法を用いた測定方法が開示されている。ところがこの測定方法では、共振ポイントのみの測定となるため、高速伝送の信号ラインで必要となる抵抗の周波数特性を測定することができない。
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、高速伝送の信号ラインにおける抵抗の周波数特性(所定範囲の周波数帯域における周波数依存性)を、簡素な構成で正確に測定することができる被測定用基板及び測定方法を提供することを目的とする。
測定装置の一態様は、表面上に、被測定対象である信号ラインと、第1の電極とが設けられたプリント基板と、第2の電極と、前記信号ライン及び前記第1の電極と前記第2の電極とが対向するように、前記信号ライン及び前記第1の電極と前記第2の電極との間に配置された誘電体層と、前記信号ラインに高周波信号を印加する入力部と、出力を前記プリント基板における前記信号ラインの導体損失として測定する測定部とを含み、前記第1の電極と前記第2の電極との間の容量と、前記信号ラインのインダクタンスとによるインピーダンスが前記導体損失に対して十分に小さく、前記信号ラインと前記第2の電極との間の容量によるインピーダンスが前記導体損失に対して十分に大きい
測定方法の一態様は、表面上に、被測定対象である信号ラインと、第1の電極とが設けられたプリント基板と、第2の電極と、前記信号ライン及び前記第1の電極と前記第2の電極とが対向するように、前記信号ライン及び前記第1の電極と前記第2の電極との間に配置された誘電体層とを含み、前記第1の電極と前記第2の電極との間の容量と、前記信号ラインのインダクタンスとによるインピーダンスが、前記プリント基板における前記信号ラインの導体損失に対して十分に小さく、前記信号ラインと前記第2の電極との間の容量によるインピーダンスが前記導体損失に対して十分に大きい測定装置を用いて、前記信号ラインに高周波信号を印加し、出力を前記導体損失として測定する。
上記の諸態様によれば、高速伝送の信号ラインにおける抵抗の周波数特性(所定範囲の周波数帯域における周波数依存性)を、比較的簡素な構成で正確に測定することが可能となり、ひいては、高速伝送に対応した信頼性の高いプリント基板が実現する。
本実施形態による被測定用基板の概略構成を示す断面図である。 図1の被測定用基板の等価回路図である。 比較例による被測定用基板の概略構成を示す断面図である。 図3の被測定用基板の等価回路図である。 本実施形態及び比較例を適用した実際の電磁界解析による結果を示す特性図である。
以下、被測定用基板及び測定方法の具体的な実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
図1は、本実施形態による被測定用基板の概略構成を示す断面図である。図2は、図1の被測定用基板の等価回路図である。
本実施形態による被測定用基板は、プリント基板の配線方法の一種であるマイクロストリップライン構造の被測定用基板である。
この被測定用基板は、図1のように、プリント基板1と、誘電体層2と、グランドプレーン3とを備えて構成されている。
プリント基板1は、絶縁層1aと、絶縁材料1aの一主面である表面上に形成された信号ライン1b及びグランドプレーン1cとを有して、プリント基板の配線方法の一種であるコプレーナ構造として構成される。
絶縁層1aは、例えばエポキシ樹脂等の有機絶縁材料からなる基材である。信号ライン1bは、導体損失の被測定対象であって、所定長さの略直線状に形成されている。グランドプレーン1cは、第1の電極であって、信号ライン1bと同一表面上で当該信号ライン1bを挟むように形成された一対の電極である。グランドプレーン1cは、その面積(誘電体層2との接触面積)が信号ライン1bの面積(誘電体層2との接触面積)に比べて十分に大きく形成されている。これにより、誘電体層2の容量に起因する電気特性への影響を無視し得る程度に小さく抑えることができる。この場合、グランドプレーンを1pF以上の容量とすることが好ましい。
誘電体層2は、サファイア又はシリコン酸化膜等の低損失誘電材料からなる板状部材である。誘電体層2は、好ましくは、その誘電正接が絶縁層1aの誘電正接よりも、少なくとも一桁小さいオーダーの値とされる。これにより、誘電体層2の絶縁層1aに対する誘電率の影響を可及的に小さく抑えることができる。具体的には、絶縁層1aの誘電正接が例えば0.02程度であり、誘電体層2の誘電正接が例えば0.002程度である。測定を行うにあたり、誘電体層2の誘電正接は既知とされている。
グランドプレーン3は、第2の電極である薄い銅板であって、誘電体層2の裏面の全面に形成されている。グランドプレーン3としては、銅板の代わりに、導電性に優れた金属、例えば金、銀等の金属板を用いても良い。
本実施形態による被測定用基板では、プリント基板1の信号ライン1b及びグランドプレーン1cとグランドプレーン3との間に誘電体層2が配置される。プリント基板1の信号ライン1b及びグランドプレーン1cとグランドプレーン3とは、誘電体層2を介して対向している。
図2に、図1の被測定用基板の等価回路図を示す。図2において、R1は信号ライン1bの導体損失、Lは信号ライン1bのインダクタンスである。Cは信号ライン1bとグランドプレーン3との間の容量、C1はグランドプレーン1cとグランドプレーン3との間の容量である。グランドプレーン1cの誘電体層2との接触面積は、信号ライン1bの誘電体層2との接触面積に比べて十分に大きいため、C1はCよりも十分に大きい。
図2の等価回路に高周波信号を入力すると、グランドプレーン1cとグランドプレーン3とが電磁結合し、グランドプレーン1cとグランドプレーン3と間はほぼ導通状態となる。そのため、高周波の電気特性において、C1の影響を無視することができる。当該被測定用基板の構成では、グランドプレーン1c側に誘電損失の低い材料を用いているため、誘電損失の影響を無視することができる。従って当該被測定用基板では、図2の出力により、誘電損失の影響を受けることなく、信号ライン1bの導体損失のみを定量的に正確に測定することができる。
以下、本実施形態による被測定用基板を用いた測定結果について、比較例の被測定用基板を用いた測定との比較に基づいて説明する。
図3は、比較例による被測定用基板の概略構成を示す断面図である。図4は、図3の被測定用基板の等価回路図である。
比較例による被測定用基板は、本実施形態と同様に、マイクロストリップライン構造の被測定用基板である。
この被測定用基板は、図3のように、プリント基板101を備えて構成されている。
プリント基板101は、絶縁層101aと、絶縁材料101aの一主面である表面上に形成された信号ライン101bと、絶縁材料101aの他主面である裏面上に形成されたグランドプレーン101cとを有して構成される。
絶縁層101aは、例えばエポキシ樹脂等の有機絶縁材料からなる基材である。信号ライン101bは、導体損失の被測定対象であって、所定長さ及び所定線幅に形成されている。グランドプレーン101cは、絶縁層101aの裏面の全面に形成されている。被測定用基板では、信号ライン101bとグランドプレーン101cとが絶縁層101aを介して対向配置されている。
図4に、図3の被測定用基板の等価回路図を示す。図4において、R1は信号ライン1bの導体損失、Lは信号ライン1bのインダクタンスである。R2はプリント基板101(絶縁層101a)の誘電損失、Cは信号ライン101bとグランドプレーン101cとの間の容量である。
図4の等価回路に高周波信号を入力すると、出力から測定される損失は、導体損失と誘電損失との合算値となる。この場合、両損失を正確に切り分けて測定することはできない。
これに対して本実施形態では、上述のように、誘電損失の影響を受けることなく、信号ライン1bの導体損失のみを直接的に測定することができる。
本実施形態及び比較例を適用した実際の電磁界解析による測定結果を図5に示す。図5では、解析用サンプルとして、本実施形態及び比較例の夫々について、信号ライン1b,101bの長さを2cmに設定し、絶縁層1a,101aとして誘電率がほぼ同等の絶縁材料を用いた。
図5のように、比較例では、測定周波数帯域である2GHz〜22GHzに亘り、導体損失及び誘電損失を反映した減衰量を示した。これに対して本実施形態では、測定周波数帯域である2GHz〜22GHzに亘って比較例よりも低い減衰量を示した。これは、誘電損失の影響を受けることなく、導体損失のみに起因する減衰量であることが確認された。
以上説明したように、本実施形態によれば、高速伝送の信号ラインにおける抵抗の周波数特性(所定範囲の周波数帯域における周波数依存性)を、比較的簡素な構成で正確に測定することが可能となり、ひいては、高速伝送に対応した信頼性の高いプリント基板が実現する。
以下、本発明の諸態様を付記としてまとめて記載する。
(付記1)表面上に、被測定対象である信号ラインと、第1の電極とが設けられたプリント基板と、
第2の電極と、
前記信号ライン及び前記第1の電極と前記第2の電極とが対向するように、前記信号ライン及び前記第1の電極と前記第2の電極との間に配置された誘電体層と
を含むことを特徴とする被測定用基板。
(付記2)前記第1の電極は、前記プリント基板の同一表面上で前記信号ラインを挟むように配置された一対のグランドプレーンであることを特徴とする付記1に記載の被測定用基板。
(付記3)前記誘電体層は、その誘電正接が前記プリント基板の絶縁材料の誘電正接よりも、少なくとも一桁小さいオーダーの値であることを特徴とする付記1又は2に記載の被測定用基板。
(付記4)前記第1の電極及び前記第2の電極による容量は、1pF以上であることを特徴とする付記1〜3のいずれか1項に記載の被測定用基板。
(付記5)表面上に、被測定対象である信号ラインと、第1の電極とが設けられたプリント基板と、
第2の電極と、
前記信号ライン及び前記第1の電極と前記第2の電極とが対向するように、前記信号ライン及び前記第1の電極と前記第2の電極との間に配置された誘電体層と
を含む被測定用基板を用いて、前記信号ラインの導体損失を測定することを特徴とする測定方法。
(付記6)前記第1の電極は、前記プリント基板の同一表面上で前記信号ラインを挟むように配置された一対のグランドプレーンであることを特徴とする付記5に記載の測定方法。
(付記7)前記誘電体層は、その誘電正接が前記プリント基板の絶縁材料の誘電正接よりも、少なくとも一桁小さいオーダーの値であることを特徴とする付記5又は6に記載の測定方法。
(付記8)前記第1の電極及び前記第2の電極による容量は、1pF以上であることを特徴とする付記5〜7のいずれか1項に記載の測定方法。
1,101 プリント基板
1a,101a 絶縁層
1b,101b 信号ライン
1c,101c グランドプレーン
2 誘電体層
3 グランドプレーン

Claims (6)

  1. 表面上に、被測定対象である信号ラインと、第1の電極とが設けられたプリント基板と、
    第2の電極と、
    前記信号ライン及び前記第1の電極と前記第2の電極とが対向するように、前記信号ライン及び前記第1の電極と前記第2の電極との間に配置された誘電体層と、
    前記信号ラインに高周波信号を印加する入力部と、
    出力を前記プリント基板における前記信号ラインの導体損失として測定する測定部と
    を含み、
    前記第1の電極と前記第2の電極との間の容量と、前記信号ラインのインダクタンスとによるインピーダンスが前記導体損失に対して十分に小さく、前記信号ラインと前記第2の電極との間の容量によるインピーダンスが前記導体損失に対して十分に大きいことを特徴とする測定装置。
  2. 前記第1の電極及び前記第2の電極は、前記プリント基板の同一表面上で前記信号ラインを挟むように配置された一対のグランドプレーンであることを特徴とする請求項1に記載の測定装置。
  3. 前記誘電体層は、その誘電正接が前記プリント基板の絶縁材料の誘電正接よりも、少なくとも一桁小さいオーダーの値であることを特徴とする請求項1又は2に記載の測定装置。
  4. 前記第1の電極及び前記第2の電極による容量は、1pF以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の測定装置。
  5. 表面上に、被測定対象である信号ラインと、第1の電極とが設けられたプリント基板と、
    第2の電極と、
    前記信号ライン及び前記第1の電極と前記第2の電極とが対向するように、前記信号ライン及び前記第1の電極と前記第2の電極との間に配置された誘電体層と
    を含み、
    前記第1の電極と前記第2の電極との間の容量と、前記信号ラインのインダクタンスとによるインピーダンスが、前記プリント基板における前記信号ラインの導体損失に対して十分に小さく、前記信号ラインと前記第2の電極との間の容量によるインピーダンスが前記導体損失に対して十分に大きい測定装置を用いて、
    前記信号ラインに高周波信号を印加し、
    出力を前記導体損失として測定することを特徴とする測定方法。
  6. 前記第1の電極及び前記第2の電極は、前記プリント基板の同一表面上で前記信号ラインを挟むように配置された一対のグランドプレーンであることを特徴とする請求項5に記載の測定方法。
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