JP6135265B2 - 改質装置 - Google Patents

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Description

本発明は、ガス化原料をガス化させることで生成されたガス化ガスに含まれるタールを改質する改質装置に関する。
近年、石油に代えて、石炭やバイオマス、タイヤチップ等のガス化原料をガス化してガス化ガスを生成する技術が開発されている。このようにして生成されたガス化ガスは、発電システムや、水素の製造、合成燃料(合成石油)の製造、化学肥料(尿素)等の化学製品の製造等に利用されている。ガス化ガスの原料となるガス化原料のうち、特に石炭は、可採年数が150年程度と、石油の可採年数の3倍以上であり、また、石油と比較して埋蔵地が偏在していないため、長期に亘り安定供給が可能な天然資源として期待されている。
従来、石炭のガス化プロセスは、酸素や空気を用いて部分酸化することにより行われていたが、2000℃といった高温で部分酸化する必要があるため、ガス化炉のコストが高くなるといった欠点を有していた。
この問題を解決するために、水蒸気を利用し、700℃〜900℃程度で石炭をガス化する技術(水蒸気ガス化)が開発されている。この技術では、温度を低く設定することでコストを低減することが可能となるが、生成されたガス化ガスには、2000℃の高温で部分酸化して生成したガス化ガスと比較して、タールが多く含まれることが多い。水蒸気ガス化によって生成されたガス化ガスを利用するプロセスにおいてガス化ガスの温度が低下すると、ガス化ガスに含まれるタールが凝縮し、配管の閉塞、プロセスで使用する機器の故障、触媒の被毒等の問題が生じてしまう。
そこで、生成されたガス化ガスに酸素や空気を添加して燃焼させ、1100℃〜1500℃にし、酸化改質することで、ガス化ガスに含まれるタールを除去する改質炉が利用されている。
このような改質炉において、改質炉とは別体のセラミック熱交換器を設けておき、ガス化炉から送出され改質炉に導入される前のガス化ガスと、改質炉から送出された改質ガスとで熱交換を行うことで、改質炉に導入されるガス化ガスを昇温する技術が開示されている(例えば、特許文献1)。
また、ガス化ガス中のタールを改質するための触媒を利用することで、改質炉の温度(タールを酸化改質するために必要な温度)を1000℃以下に低減する技術が開示されている(例えば、特許文献2)。特許文献2の技術では、当該触媒層の温度を活性温度に維持するために、触媒層を多段に配し、触媒の近傍から触媒に向けて酸素や空気を直接導入している。
特開2009−215387号公報 特開2010−111779号公報
しかし、上述した特許文献1の技術のように、改質炉の温度を1100℃以上にするために、ガス化ガス中の可燃性ガス(水素やメタン)を酸素や空気で燃焼させると、ガス化ガス中の可燃性ガスを消費(燃焼)し、改質炉で処理したガス化ガスの単位体積あたりの可燃性ガスの割合が低下してしまう。
一方、特許文献2の技術では、触媒を用いるため、改質炉の温度を1000℃以下に低減できる。したがって、特許文献1の触媒を用いない改質炉で処理する場合と比較して、改質炉で消費される可燃性ガスの量を低減することができる。
しかし、特許文献2の技術は、触媒の近傍から触媒に向けて酸素や空気を直接導入しているため、酸素や空気が導入されることで生じる火炎が触媒まで広がり、触媒の温度が上昇しすぎて、触媒が溶融してしまうおそれがある。また、触媒層の温度低下を防止するために触媒層を多段に配しているが、多段であるため、制御や構造が複雑になってしまうという課題がある。
本発明は、このような課題に鑑み、簡易な構成で、触媒を効率よく予熱することができ、当該触媒によってタールを除去しつつ、可燃性ガスの低減を抑制することが可能な改質装置を提供することを目的としている。
上記課題を解決するために、本発明の改質装置は、内管の内側を含んで形成され、ガス化炉でガス化原料をガス化させて生成されたガス化ガスが流通する第1の流路と、内管と、内管の外側を囲繞する外管との間を含んで形成され、第1の流路の下流に設けられた第2の流路と、第2の流路内に配され、ガス化ガス中のタールの改質を促進する触媒と、を備え、第1の流路を流通するガス化ガスは、内管の側壁を通じて触媒を加熱することを特徴とする。
また、第1の流路内に酸化剤を供給する酸化剤供給部を備え、酸化剤供給部は、酸化剤によって生じる火炎が触媒に到達しない供給量または位置関係で、酸化剤を供給するとしてもよい。
また、内管および外管の軸心が鉛直方向となるように配され、外管の下端から延在するとともに、内管の下端の下方に配され、ガス化ガスに含まれる固形物を貯留する貯留部と、貯留部に貯留された固形物を外部に排出する排出機構と、をさらに備え、ガス化ガスは、内管の下端から貯留部に送出され、外管の下端を通じて第2の流路に導入されるとしてもよい。
また、触媒に、気体を吹き付けることで、触媒に付着した煤を触媒から脱離させるスートブローをさらに備えるとしてもよい。
本発明によれば、簡易な構成で、触媒を効率よく予熱することができ、当該触媒によってタールを除去しつつ、可燃性ガスの低減を抑制することが可能となる。
ガス化ガス生成システムを説明するための概念図である。 改質装置を説明するための図である。 精製装置を説明するための図である。
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値等は、発明の理解を容易とするための例示にすぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。なお、本明細書および図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本発明に直接関係のない要素は図示を省略する。
(ガス化ガス生成システム100)
図1は、ガス化ガス生成システム100を説明するための図である。図1に示すように、ガス化ガス生成システム100は、ガス化ガス生成装置110と、改質装置130と、精製装置140とを含んで構成される。なお、図1中、ガス化原料、ガス、水蒸気、空気の流れを実線の矢印で、流動媒体(砂)の流れを一点鎖線の矢印で示す。
(ガス化ガス生成装置110)
ガス化ガス生成装置110は、燃焼炉112と、媒体分離装置(サイクロン)114と、ガス化炉116とを含んで構成される。ガス化ガス生成装置110は、循環流動層式ガス化システムであり、全体として、粒径が300μm程度の硅砂(珪砂)等の砂で構成される流動媒体を熱媒体として循環させている。具体的に説明すると、まず、流動媒体は、燃焼炉112で900℃〜1000℃程度に加熱され、燃焼排ガスEXとともに媒体分離装置114に導入される。媒体分離装置114においては、高温の流動媒体と燃焼排ガスEXとが分離され、当該分離された燃焼排ガスEXは、不図示の熱交換器(例えば、ボイラー)等で熱回収された後、外部へ排出される。
一方、媒体分離装置114で分離された高温の流動媒体は、ガス化炉116に導入される。そして、ガス化炉116に導入された流動媒体は、ガス化炉116の底面から導入されるガス化剤(水蒸気)によって流動層化された後、最終的に、燃焼炉112に戻される。
ガス化炉116は、例えば、気泡流動層(バブリング流動層)ガス化炉であり、褐炭等の石炭、石油コークス、バイオマス、タイヤチップ等の固体原料や、黒液等の液体原料といったガス化原料を700℃〜900℃でガス化させてガス化ガスを生成する。本実施形態では、ガス化炉116に水蒸気を供給することにより、ガス化原料をガス化させてガス化ガスを生成する(水蒸気ガス化)。
なお、ここでは、ガス化炉116として、循環流動層方式を例に挙げて説明したが、ガス化原料をガス化することができれば、ガス化炉116は、単なる流動層方式や、砂が自重で鉛直下方向に流下することで移動層を形成する移動層方式であってもよい。
ガス化炉116で生成されたガス化ガスX1には、タール、水蒸気等が含まれているため、下流の改質装置130、精製装置140に送出され、精製される。以下、ガス化ガスX1中に含まれる燃焼灰および流動媒体を「灰」と称する。
(改質装置130)
図2は、改質装置130を説明するための図であり、図2(a)は、改質装置130の概念図を、図2(b)は、図2(a)におけるII(b)−II(b)線断面を説明するための図である。本実施形態の図2では、垂直に交わるX軸(水平方向)、Y軸(水平方向)、Z軸(鉛直方向)を図示の通り定義している。
図2に示すように、改質装置130は、内管210と、外管220と、第1の流路Aと、第2の流路Bと、触媒230と、酸化剤供給部240と、貯留部250と、排出機構260と、スートブロー270とを含んで構成される。なお、図2(b)中、理解を容易にするために触媒230を省略する。また、スートブロー270は、内管210の周方向に複数(例えば90°間隔で4つ)設けられているとよい。ここでは、理解を容易にするために、複数のスートブロー270のうち1のスートブロー270について例示する。
内管210は、アルミナ、シリカ等で構成され、その内側が、ガス化炉116において生成されたガス化ガスX1が流通する第1の流路Aの一部を形成する。換言すれば、第1の流路Aは、内管210の内側を含んで形成され、ガス化ガスX1が流通する流路であるといえる。
外管220は、アルミナ、シリカ等で構成され、内管210と、内管210の外側を囲繞する当該外管220との間の空間が、第1の流路Aと連通し当該第1の流路Aの下流に設けられた第2の流路Bの一部を形成する。換言すれば、第2の流路Bは、内管210と、内管210の外側を囲繞する外管220との間を含んで形成され、第1の流路Aの下流に設けられた流路であるといえる。つまり、内管210と外管220とは、内側に内管210が配されるとともに、外側に外管220が配される二重管である。
具体的に説明すると、本実施形態において、内管210および外管220の軸心は、鉛直方向(図2中、Z軸方向)となるように配され、ガス化ガスX1は、内管210の下端212を介して、後述する貯留部250に送出され、流通方向を折り返して(例えば、180度折り返して)、外管220の下端222を通じて第2の流路Bへ導入される。
触媒230は、外管220の内側から内管210の外側に亘って設けられた網等で構成される触媒保持部224によって第2の流路B内に配され、ガス化ガスX1中のタールの改質を促進する。
触媒230(図2(a)中、白丸で示す)は、タールの改質を促進することができればよく、例えば、Ni(ニッケル)系触媒、Fe(鉄)系触媒、Ru(ルテニウム)系触媒、Rh(ロジウム)系触媒、Co(コバルト)系触媒、鉱石系触媒を採用することができる。
Ni系触媒は、活性種として、少なくともNiが含まれていればよく、Fe系触媒は、活性種として、少なくともFeが含まれていればよく、Ru系触媒は、活性種として、少なくともRuが含まれていればよく、Rh系触媒は、活性種として、少なくともRhが含まれていればよく、Co系触媒は、活性種として、少なくともCoが含まれていればよい。
これらの触媒における活性種の担体としては、例えば、酸化アルミニウム(Al)、ジルコニア(ZrO)、酸化セリウム(CeO)、酸化ケイ素(SiO)、マグネシウム(Mg)、酸化マグネシウム(MgO)、天然鉱石を利用することができる。
また、鉱石系触媒は、Ca(カルシウム)、Mg、Fe、および、Si(シリコン)の群から選択される1または複数の元素の酸化物または炭酸塩であり、例えば、ドロマイト、カンラン石、褐鉄鉱、石灰石といった天然鉱石である。
上述したように、内管210と外管220とは、内側に内管210が配されるとともに、外側に外管220が配される二重管である。このため、図2(b)の白抜き矢印で示すように、第1の流路Aを流通するガス化ガスX1の熱は、内管210の側壁を通じて第2の流路Bに伝達される。つまり、第1の流路Aを流通するガス化ガスX1は、内管210の側壁を通じて、第2の流路B内に配された触媒230を加熱する。このため、内管210の側壁は、熱伝導率が相対的に高い材質で構成される。
このように、内管210と外管220とで二重管を構成するとともに、内管210に改質前のガス化ガスX1を流通させ、外管220に触媒230を配する構成により、ガス化ガスX1と触媒230とで、相対的に短距離かつ熱伝導率の高い内管210を介して、熱交換を行わせ、ガス化ガスX1が有する熱で触媒230を加熱(予熱)することができる。したがって、ガス化ガスX1の熱を触媒230に効率よく伝達することが可能となる。
酸化剤供給部240は、酸化剤導入部242とノズル244とを含んで構成され、第1の流路A内に酸化剤を供給する。ここで酸化剤は、少なくとも酸素を含む気体(例えば、酸素、空気)である。酸化剤導入部242は、ノズル244に酸化剤を導入する。ノズル244は、酸化剤の噴出孔244aが、触媒230が配される領域における鉛直方向の上端と実質的に等しい位置、または、上端よりも鉛直上方の位置に配される。
また、酸化剤導入部242は、噴出孔244aから噴出された酸化剤によって生じる火炎が、第1の流路Aにおける、触媒230と相対する位置に、可能な限り行き届くように、かつ、火炎が触媒230に到達しない供給量で、酸化剤をノズル244に導入する。なお、火炎は、内管210の下端212から第2の流路Bへ回り込むため、酸化剤導入部242は、当該回り込みを勘案して、噴出孔244aから噴出された酸化剤によって生じる火炎が、触媒230に到達しない供給量で、酸化剤をノズル244に導入するとよい。
酸化剤供給部240において、火炎が、第1の流路Aにおける触媒230と相対する位置に可能な限り配されるように酸化剤を供給する構成により、噴出孔244aから噴出された酸化剤によって生じる火炎の熱を、内管210を介して、触媒230に満遍なく伝達することができる。
また、酸化剤供給部240において、火炎が触媒230に到達しない供給量で酸化剤を供給する構成により、火炎が触媒230に直接接触してしまう事態を回避することができ、火炎による触媒230の溶融を防止することができる。
なお、本実施形態において、酸化剤供給部240は、酸化剤導入部242が酸化剤の供給量を調整することで、ノズル244の噴出孔244aから噴出された酸化剤によって生じる火炎が触媒230に到達しない構成としている。しかし、酸化剤供給部240は、噴出孔244aの位置を、噴出孔244aから噴出された酸化剤によって生じる火炎が触媒230に到達しない位置として、火炎の触媒230への到達を回避してもよい。
貯留部250は、アルミナ、シリカ等で構成され、外管220の下端222から延在するとともに、内管210の下端212の下方に配され、ガス化ガスX1に含まれる固形物を貯留する。ガス化ガスX1は、流動媒体の熱でガス化されて生成されるため、流動媒体や、燃焼炉112において流動媒体を加熱するために用いられた燃料の灰が含まれる。貯留部250を備える構成により、流動媒体や灰といった固形物をガス化ガスX1から除去することができ、また、固形物が触媒230に接触し、触媒230が被毒されてしまう事態を回避することが可能となる。
排出機構260は、シール性を維持するスクリューフィーダ等で構成され、貯留部250におけるガス化ガスX1の漏出を防止しつつ、貯留部250に貯留された固形物を外部に排出する。排出機構260を備える構成により、改質装置130の運転を維持したまま、貯留部250から固形物を排出することができる。
スートブロー270は、気体供給部272とノズル274とを含んで構成され、触媒230に、気体(例えば、窒素、空気)を吹き付けることで、触媒230に付着した煤を触媒230から脱離させる。スートブロー270を備える構成により、改質装置130の運転を維持したまま、触媒230から煤を脱離させることができる。
(精製装置140)
図3は、精製装置140を説明するための図である。図3に示すように、精製装置140は、熱交換器310と、第1冷却器320と、第2冷却器330と、昇圧器340と、排水処理器350と、脱硫器360と、脱アンモニア器370と、脱塩器380とを含んで構成される。なお、脱硫器360、脱アンモニア器370、脱塩器380はガス化ガスX2の用途およびガス化原料の種類に応じて、設置順序および設置有無を変更することができる。図3中、ガスの流れを実線の矢印で、水の流れを一点鎖線の矢印で示す。
熱交換器310は、改質装置130から導入されたガス化ガスX2と水蒸気との熱交換を行い、すなわち、ガス化ガスX2の顕熱を水蒸気で回収し、ガス化ガスX2の出口温度を300℃〜600℃にする。
第1冷却器320は、水をスプレー噴霧することにより、300℃〜600℃となったガス化ガスX2をさらに冷却する。これにより、ガス化ガスX2に残存するタールや粉塵(灰)が凝縮し、ガス化ガスX2から除去される。
第2冷却器330は、海水、ブライン等を用いて、ガス化ガスX2を30℃以下にさらに冷却し、さらに残存するタールや粉塵を凝縮して除去する。なお、第2冷却器330の後段に電機集塵機等で構成されるミスト・粉塵除去器を設け、タールや粉塵をさらに除去することもできる。
昇圧器340は、ブロワや圧縮機、ターボ型のポンプ、容積型のポンプ等で構成され、第2冷却器330を通過したガス化ガスX2を0.1MPa〜5MPaに昇圧する。なお、昇圧器340の後段にガス化ガスX2を30℃以下に冷却する冷却器を設け、タールや粉塵をさらに除去することもできる。
排水処理器350は、第1冷却器320、第2冷却器330、昇圧器340で発生するタールや粉塵を含有する排水からタールや粉塵を除去する処理を行う。排水処理器350で処理した後の水(処理後水)は、熱交換器310や第1冷却器320等で再利用される。
脱硫器360は、ガス化ガスX2に残存する硫黄や硫黄化合物を除去する。脱アンモニア器370は、ガス化ガスX2中のアンモニア等の窒素化合物を除去する。脱塩器380は、ガス化ガスX2中の塩素や塩素化合物を除去する。
このように、ガス化ガス生成装置110で生成され、改質装置130でタール、灰、流動媒体が除去されたガス化ガスX2は、熱交換器310、第1冷却器320、第2冷却器330、昇圧器340においてタール、燃焼灰、流動媒体が除去され、脱硫器360で硫黄や硫黄化合物が、脱アンモニア器370でアンモニアやアンモニア化合物が、脱塩器380で塩素や塩素化合物がそれぞれ除去されることにより精製され、精製ガス化ガスとなる。
以上説明したように、本実施形態にかかる改質装置130によれば、簡易な構成で、触媒230を効率よく予熱することができ、当該触媒230によってタールを除去しつつ、可燃性ガスの低減を抑制する。
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
例えば、上述した実施形態において、内管210および外管220の軸心が、鉛直方向に沿って配される構成を例に挙げて説明したが、内管210および外管220の軸心の位置に限定はなく、例えば、水平方向であってもよい。いずれにせよ、内管210と外管220とで二重管を構成するとともに、内管210に改質前のガス化ガスX1を流通させ、外管220に触媒230を配することで、ガス化ガスX1が有する熱で触媒230を加熱(予熱)することができればよい。
また、上述した実施形態では、ガス化剤として水蒸気を利用したガス化炉116で生成されたガス化ガスX1中のタールを改質する場合を例に挙げて説明したが、ガス化剤に限定はなく、例えば、窒素等であってもよい。
また、上述した実施形態において、酸化剤供給部240を備えた改質装置130について説明したが、ガス化ガスX1が有する熱で触媒230を加熱することで、触媒230の活性温度を維持できれば、酸化剤供給部240を設けずともよい。
また、上述した実施形態において、貯留部250と、排出機構260とを備えた改質装置130について説明したが、ガス化ガスX1に流動媒体や灰が含まれない、または、流動媒体や灰が含まれていたとしても触媒230にとって影響がない程度の少量である場合、貯留部250、排出機構260を設けずともよい。
また、上述した実施形態において、スートブロー270を備えた改質装置130について説明したが、煤が生じない、または、煤が生じたとしても触媒230にとって影響がない程度の少量である場合、スートブロー270を設けずともよい。
本発明は、ガス化原料をガス化させることで生成されたガス化ガスに含まれるタールを改質する改質装置に利用することができる。
116 ガス化炉
130 改質装置
A 第1の流路
B 第2の流路
210 内管
212 下端
220 外管
230 触媒
240 酸化剤供給部
250 貯留部
260 排出機構
270 スートブロー

Claims (4)

  1. 内管の内側を含んで形成され、ガス化炉でガス化原料をガス化させて生成されたガス化ガスが流通する第1の流路と、
    前記内管と、該内管の外側を囲繞する外管との間を含んで形成され、前記第1の流路の下流に設けられた第2の流路と、
    前記第2の流路内に配され、前記ガス化ガス中のタールの改質を促進する触媒と、
    を備え、
    前記第1の流路を流通するガス化ガスは、前記内管の側壁を通じて前記触媒を加熱することを特徴とする改質装置。
  2. 前記第1の流路内に酸化剤を供給する酸化剤供給部を備え、
    前記酸化剤供給部は、前記酸化剤によって生じる火炎が前記触媒に到達しない供給量または位置関係で、該酸化剤を供給することを特徴とする請求項1に記載の改質装置。
  3. 前記内管および前記外管の軸心が鉛直方向となるように配され、
    前記外管の下端から延在するとともに、前記内管の下端の下方に配され、前記ガス化ガスに含まれる固形物を貯留する貯留部と、
    前記貯留部に貯留された固形物を外部に排出する排出機構と、
    をさらに備え、
    前記ガス化ガスは、前記内管の下端から前記貯留部に送出され、前記外管の下端を通じて前記第2の流路に導入されることを特徴とする請求項1または2に記載の改質装置。
  4. 前記触媒に、気体を吹き付けることで、前記触媒に付着した煤を該触媒から脱離させるスートブローをさらに備えたことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の改質装置。
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