JP6134166B2 - 位置検出装置および位置検出方法 - Google Patents
位置検出装置および位置検出方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6134166B2 JP6134166B2 JP2013048725A JP2013048725A JP6134166B2 JP 6134166 B2 JP6134166 B2 JP 6134166B2 JP 2013048725 A JP2013048725 A JP 2013048725A JP 2013048725 A JP2013048725 A JP 2013048725A JP 6134166 B2 JP6134166 B2 JP 6134166B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mark
- substrate
- center
- detection
- temporary
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims description 178
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 297
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 118
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 29
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 51
- 238000000034 method Methods 0.000 description 47
- 230000008569 process Effects 0.000 description 42
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 30
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 15
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 7
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 3
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 238000011960 computer-aided design Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
はじめに、描画装置100にて描画対象とされる基板9(すなわち、位置検出装置140において検出対象とされる基板9)について、図1を参照しながら説明する。図1は、基板9を模式的に示す平面図である。
<2−1.構成>
次に、位置検出装置140が搭載された描画装置100の構成について、図2を参照しながら説明する。図2は、描画装置100の概略構成を示す模式図である。
描画ステージ110は、平板状の外形を有し、その上面に描画対象物である基板9を水平姿勢に載置して保持する保持部である。描画ステージ110の上面には、複数の吸引孔(図示省略)が形成されており、この吸引孔に負圧(吸引圧)を形成することによって、描画ステージ110に載置された基板9を描画ステージ110の上面に固定保持することができるようになっている。
描画ステージ駆動機構120は、描画ステージ110を基台1001に対して移動させることによって、描画ステージ110を描画ヘッド130に対して相対的に移動させる機構である。描画ステージ駆動機構120は、具体的には、例えば、描画ステージ110を、主走査方向、主走査方向と直交する副走査方向、および、回転方向(鉛直軸周りの回転方向)の各方向にそれぞれ移動させる。
描画ヘッド130は、光源131と変調部132とを含んで構成され、パターンデータに応じて光に変調を施して描画光Lを生成する。そして、描画ヘッド130は、描画ステージ110に保持された基板Wに向けて描画光Lを照射しながら、当該基板W上を走査して(すなわち、基板Wに対して相対的に移動して)、当該基板Wにパターンを描画する。ただし、「パターンデータ」とは、光を照射するべき基板W上の位置情報が画素単位で記録されたデータである。パターンデータは、具体的には、例えば、CAD(Computer Aided Design)を用いて生成されたパターンの設計データを、ラスタライズすることにより生成される。
位置検出装置140は、基板9の位置を検出する装置であり、描画処理に先だって、基板9の位置を検出する。位置検出装置140については、後に具体的に説明する。
搬送装置150は、基板9を支持するための2本のハンド151,151と、ハンド151,151を独立に移動させるハンド駆動機構152とを備える。各ハンド151は、ハンド駆動機構152によって駆動されることにより進退移動および昇降移動されて、描画ステージ110と位置検出装置140との間での基板9の受け渡しを行う。
制御部160は、描画装置100が備える各部と電気的に接続されており、各種の演算処理を実行しつつ描画装置100の各部の動作を制御する。制御部160は、例えば、一般的なコンピュータにより構成することができる。制御部160の記憶装置には、パターンデータが格納されており、制御部160は、上述したとおり、パターンデータに基づいて描画ヘッド130を制御して、これに描画光Lを生成させる。
描画装置100の動作について図3を参照しながら説明する。図3は、描画装置100において行われる一連の処理の流れを示す図である。以下に説明する一連の動作は、制御部160の制御下で行われる。
位置検出装置140の構成について、図4を参照しながら説明する。図4は、位置検出装置140の概略構成を模式的に示す図である。位置検出装置140は、基板9の位置を検出する装置であり、基板9が載置されるステージ11と、ステージ11に載置された基板9を撮像する撮像部12と、ステージ11と撮像部12とを相対的に移動させる駆動機構13と、これら各部を制御する制御部16とを主として備える。
ステージ11は、平板状の外形を有し、その上面に基板9を水平姿勢に載置して保持する保持部である。ステージ11の上面には、複数の吸引孔(図示省略)が形成されており、この吸引孔に負圧(吸引圧)を形成することによって、ステージ11に載置された基板9をステージ11の上面に固定保持することができるようになっている。
撮像部12は、ステージ11に載置された基板9の上面を撮像する機構である。撮像部12は、例えばLEDにより構成される光源と、鏡筒と、対物レンズと、エリアイメージセンサ(二次元イメージセンサ)により構成されるCCDイメージセンサとから構成することができる。例えば、撮像部12は、画素数が「640ピクセル×480ピクセル」程度であり、解像度が「10〜15μm/ピクセル」程度であればよい。この場合、撮像部12の視野は、一辺が数ミリメートル(mm)程度の領域(解像度が10μm/ピクセルの場合、「6.4mm×4.8mm」の領域)となる。撮像部12は、制御部16からの指示に応じて、ステージ11に載置された基板9を撮像して、基板9の面内領域の一部を撮像した二次元の画像データ(多階調の画像データ)を取得する。なお、撮像部12は、基板9を透過した赤外光によって基板9の下面(裏面)のパターンを撮像するものであってもよい。
駆動機構13は、制御部16により制御されて、ステージ11と撮像部12とをθ軸およびR軸のそれぞれに沿って相対的に移動させる機構である。駆動機構13は、具体的には、例えば、ステージ11をθ軸に沿って回動させるθ駆動機構14と、撮像部12をR軸に沿って移動させるR駆動機構15とを備える。位置検出装置140には、その基台1401に対してXY座標系(基台1401の上面内に規定される直交2軸の各方向(X方向およびY方向)により規定される座標系)が規定されており、これらXY座標系の原点は、例えば、ステージ11の載置面の中心111と一致しているとする。いま、撮像部12が駆動されるR軸は、ステージ11の中心111を通る軸であり、この実施の形態においては、R軸はX軸と一致しているとする。また、θ軸は、回転軸A(ステージ11の中心111を通るとともにステージ11の載置面に垂直な回転軸A)を中心とした回転方向である。
制御部16は、位置検出装置140が備える各部と電気的に接続されており、各種の演算処理を実行しつつ位置検出装置140の各部の動作を制御する。なお、制御部16は、例えば、描画装置100の制御部160において実現されてもよい。
位置検出装置140においては、ステージ11上の基板9の位置を検出する位置検出部20が実現される。位置検出部20は、制御部16において、例えばCPU161がプログラムPに従って所定の演算処理を行うことによって、あるいは、専用の論理回路等でハードウエア的に実現される。
検出対象とされる基板9が、搬送装置150によってステージ11に載置されると、当該基板9の位置を検出する処理が開始される。まず、回転位置補正部21が、基板9のスクライブライン91の少なくとも一部分が、X軸あるいはY軸と平行になるように、基板9の回転位置を補正(仮補正)する(ステップS1)。
ステップS1の処理が完了すると、続いて、仮中心位置特定部22が、基板9のエッジ位置に基づいて、基板の仮中心Qの位置を特定する(ステップS2)。
上述したとおり、基板9上のマーク93と基板中心90との位置関係は、記憶装置144に格納されているマップ情報Mから特定できる。ここで、基板中心90が仮中心Qにあると仮定した場合に、マップ情報Mから規定されるマーク93の位置を、当該マーク93の「仮マーク位置」とよぶ。
ステップS3の処理が完了すると、続いて、マーク検出部24が、第1マーク931の位置を検出する(ステップS4)。具体的には、マーク検出部24は、撮像部12に、第1マーク931が写っている撮像データが得られるまで、4個の候補位置71a,71b,71c,71dを順に撮像させ、当該撮像データ(すなわち、第1マーク931が写っている撮像データ)から第1マーク931の位置を検出する。
ステップS4の処理が完了すると、続いて、仮マーク位置特定部23が、残りの3個のマーク93(すなわち、第2マーク932、第3マーク933、および、第4マーク934)各々の仮マーク位置72,73,74を特定する(ステップS5)。ただし、この段階(すなわち、基板9の正立状態からの回転量が一意に特定されている段階)では、各マーク932,933,934の仮マーク位置となり得る位置が1個に絞られる。
ステップS5の処理が完了すると、続いて、マーク検出部24が、残りの3個のマーク932,933,934各々の位置を検出する(ステップS6)。
ステップS6の処理が完了すると、続いて、位置特定部25が、4個のマーク検出位置D1,D2,D3,D4に基づいて、基板9の位置(具体的には、基板中心90の位置)を特定する(図19参照)(ステップS7)。
基板9の中心位置は、第1マーク検出位置D1の座標を用いて次の(式1x)(式1y)のように表される。ただし、ここでは、第1マーク検出位置D1を用いて表される基板9の中心位置P1を「P1=(X1,Y1)」とし、第1マーク検出位置D1を「D1=(0,L1)」としている。また、第1マーク検出位置D1の、仮マーク位置(第1マーク931の仮マーク位置)からのずれ量(変位ベクトル)を、「ΔdA=(Ax,Ay)」としている。また、基板9の仮中心Qを「Q=(Qx,Qy)」とし、回転誤差Φを「Φ」としている。
Y1=Qy−L1sinΦ+Ay ・・・(式1y)
一方、基板9の中心位置は、第2マーク検出位置D2の座標を用いて次の(式2x)(式2y)のように表される。ただし、ここでは、第2マーク検出位置D2を用いて表される基板9の中心位置P2を「P2=(X2,Y2)」とし、第2マーク検出位置D2を「D2=(0,L2)」としている。また、第2マーク検出位置D2の、仮マーク位置(第2マーク932の仮マーク位置72)からのずれ量を、「ΔdB=(Bx,By)」としている。
Y2=Qy−L2sinΦ+By ・・・(式2y)
上記の式には、未知数である回転誤差Φが含まれているため、位置特定部25は、まず、この回転誤差Φを特定する。
Φ=arcsin{(Ay−By)/(L1−L2)} ・・・(式3y)
ここで、「Ax」「Ay」「Bx」「By」の各々は、誤差を含んだ観測値である。いま、
βx=arccos(α+1) ・・・(式4x)
βy=arcsinα ・・・(式4y)
としたとき、「α」に「Δα」の誤差が含まれているとすると、「βx」の誤差(Δβx)は、αがゼロに近づくと、「Δβx=∞」となる。一方、「βy」の誤差(Δβy)は、αがゼロに近づくと、「Δβy=Δα」となる。
回転誤差Φが特定されると、(式1x)(式1y)から、第1マーク検出位置D1の座標を用いて、基板9の中心位置P1が算出される。また、(式2x)(式2y)から、第2マーク検出位置D2の座標を用いて、基板9の中心位置P2が算出される。同様に、第3マーク検出位置D3の座標を用いて基板9の中心位置が算出され、第4マーク検出位置D4の座標を用いて基板9の中心位置が算出される。
X=(X1+X2)/2 ・・・(式5x)
Y=(Y1+Y2)/2 ・・・(式5y)
この場合、(式5x)が与えるX座標の誤差ΔX、および、(式5y)が与えるY座標の誤差ΔYは、次のとおりとなる。
ΔY=(dY/dΦ)ΔΦ ・・・(式6y)
いま、
dX/dΦ={(L1+L2)sinΦ}/2 ・・・(式7x)
dY/dΦ=−(L1+L2)cosΦ ・・・(式7y)
である。したがって、Φが十分小さい場合(Φ≒0)、
dX/dΦ=0 ・・・(式8x)
dY/dΦ=−(L1+L2) ・・・(式8y)
となる。以上より、Φが十分小さい場合(Φ≒0)、(式5x)の方が(式5y)よりも、精度がよいことがわかる。そこで、位置特定部25は、(式5x)を用いて、基板9の中心位置P1のX座標を算出する。すなわち、位置特定部25は、第1マーク検出位置D1から規定される中心位置P1のX座標(X1)と、第2マーク検出位置D2から規定される中心位置P2のX座標(X2)との平均値を、基板9の中心位置のX座標(X)として取得する。つまり、位置特定部25は、X軸付近の2つのマーク931,932のマーク検出位置D1,D2を用いて、中心位置のX座標を特定する。
上記の実施の形態によると、格子状のスクライブライン91の一部分が定められた方向と平行になるように基板9の回転位置を仮補正する。そして、仮補正によって回転位置が4個に絞られている基板9の面内において、第1マーク931の仮マーク位置となり得る4個の候補位置71a,71b,71c,71dを特定する。そして、撮像部12に、第1マーク931が写っている撮像データが得られるまで、4個の候補位置71a,71b,71c,71dを順に撮像させ、当該撮像データから第1マーク931の位置を検出する。この構成によると、第1マーク931の位置を迅速に検出できるとともに、第1マーク931の位置が検出されるのと同時に基板9の回転位置も特定できる。また、マークの検出位置に基づいて基板9の位置を特定するので、基板9の位置を十分な精度で特定することができる。したがって、基板9の位置を迅速かつ十分な精度で検出できる。
上記の実施の形態においては、4個のマーク931,932,933,934各々の検出位置(マーク検出位置D1,D2,D3,D4)に基づいて基板9の位置を特定していた。しかしながら、1〜3個のマーク93の検出位置に基づいて基板9の位置を特定してもよく、5個以上のマーク93の検出位置に基づいて基板9の位置を特定してもよい。例えば、基板9の回転位置の仮補正を高精度に行えるために、回転誤差Φがゼロとみなせる場合、1個のマーク93の検出位置に基づいて、基板9の位置を特定してもよい。
12 撮像部
13 駆動機構
14 θ駆動機構
15 R駆動機構
16 制御部
20 位置検出部
21 回転位置補正部
22 仮中心位置特定部
23 仮マーク位置特定部
24 マーク検出部
25 位置特定部
100 描画装置
110 描画ステージ
120 描画ステージ駆動機構
130 描画ヘッド
140 位置検出装置
150 搬送装置
160 制御部
9 基板
90 基板中心
93 マーク
931 第1マーク
932 第2マーク
933 第3マーク
934 第4マーク
71a,71b,71c,71d 候補位置
72,73,74 仮マーク位置
Q 仮中心
Claims (6)
- 面内に格子状のラインと位置検出に利用可能な1以上のマークとが形成された基板の、位置を検出する位置検出装置であって、
前記格子状のラインの一部分が定められた方向と平行になるように、基板の回転位置を仮補正する回転位置補正部と、
基板の仮中心の位置を特定する仮中心位置特定部と、
基板の中心が前記仮中心にあると仮定した場合の前記マークの位置を仮マーク位置とよぶとして、前記仮補正によって回転位置が4個に絞られている基板の面内において、第1マークの仮マーク位置となり得る4個の候補位置を特定する仮マーク位置特定部と、
撮像部に、前記第1マークが写っている撮像データが得られるまで、前記4個の候補位置を順に撮像させ、前記撮像データから前記第1マークの位置を検出するマーク検出部と、
前記第1マークの検出位置に基づいて、基板の位置を特定する位置特定部と、
を備え、
前記仮マーク位置特定部は、前記第1マークの検出位置に基づいて、第2マークから第4マークの仮マーク位置をそれぞれ特定し、
前記マーク検出部は、撮像部に前記第2マークから前記第4マークの仮マーク位置をそれぞれ撮像させ、それぞれ得られた撮像データから前記第2マークから前記第4マークの位置を検出し、
前記第1マークおよび前記第2マークは第1の方向において互いに対向する位置に形成されており、前記第3マークおよび前記第4マークは前記第1の方向と直交する第2の方向において互いに対向する位置に形成されており、
前記位置特定部は、
前記第1マークの検出位置および前記第2マークの検出位置に基づいて、基板の回転位置についての誤差を求め、
前記誤差、前記第1マークの検出位置および前記第2マークの検出位置に基づいて、基板の中心の前記第1の方向の位置を特定し、
前記誤差、前記第3マークの検出位置および前記第4マークの検出位置に基づいて、基板の中心の前記第2の方向の位置を特定する、位置検出装置。 - 請求項1に記載の位置検出装置であって、
前記仮中心位置特定部が、
基板のエッジ位置に基づいて、前記仮中心を特定する、
位置検出装置。 - 請求項1または2に記載の位置検出装置であって、
前記第1マークと前記第2マークとが、前記第1の方向に沿って基板の中心を挟んだ位置に形成されており、
前記第3マークと前記第4のマークとが、前記第2の方向に沿って基板の中心を挟んだ位置に形成されている、
位置検出装置。 - 面内に格子状のラインと位置検出に利用可能な1以上のマークとが形成された基板の、位置を検出する位置検出方法であって、
a)前記格子状のラインの一部分が定められた方向と平行になるように、基板の回転位置を仮補正する工程と、
b)基板の仮中心の位置を特定する工程と、
c)基板の中心が前記仮中心にあると仮定した場合の前記マークの位置を仮マーク位置とよぶとして、前記仮補正によって回転位置が4個に絞られている基板の面内において、第1マークの仮マーク位置となり得る4個の候補位置を特定する工程と、
d)撮像部に、前記第1マークが写っている撮像データが得られるまで、前記4個の候補位置を順に撮像させ、前記撮像データから前記第1マークの位置を検出する工程と、
c1)前記第1マークと第1の方向において対向する位置に形成された第2マークの仮マーク位置と、前記第1の方向と直交する第2の方向において互いに対向する位置に形成された第3マークおよび第4マークとの仮マーク位置とを、前記第1マークの検出位置に基づいて、それぞれ特定する工程と、
d1)撮像部に前記第2マークから前記第4マークの仮マーク位置をそれぞれ撮像させ、それぞれ得られた撮像データから前記第2マークから前記第4マークの位置を検出する工程と、
e)前記第1マークの検出位置に基づいて、基板の位置を特定する工程と、
を備え、
前記工程e)において、
前記第1マークの検出位置および前記第2マークの検出位置に基づいて、基板の回転位置についての誤差を求め、
前記誤差、前記第1マークの検出位置および前記第2マークの検出位置に基づいて、基板の中心の前記第1の方向の位置を特定し、
前記誤差、前記第3マークの検出位置および前記第4マークの検出位置に基づいて、基板の中心の前記第2の方向の位置を特定する、位置検出方法。 - 請求項4に記載の位置検出方法であって、
前記b)工程が、
b1)基板のエッジを検出する工程と、
b2)前記b1)工程で検出されたエッジの位置に基づいて、前記仮中心を特定する工程と、
を備える、位置検出方法。
位置検出方法。 - 請求項4または5に記載の位置検出方法であって、
前記第1マークと前記第2マークとが、前記第1の方向に沿って基板の中心を挟んだ位置に形成されており、
前記第3マークと前記第4のマークとが、前記第2の方向に沿って基板の中心を挟んだ位置に形成されている、
位置検出方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013048725A JP6134166B2 (ja) | 2013-03-12 | 2013-03-12 | 位置検出装置および位置検出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013048725A JP6134166B2 (ja) | 2013-03-12 | 2013-03-12 | 位置検出装置および位置検出方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014175571A JP2014175571A (ja) | 2014-09-22 |
JP6134166B2 true JP6134166B2 (ja) | 2017-05-24 |
Family
ID=51696486
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013048725A Active JP6134166B2 (ja) | 2013-03-12 | 2013-03-12 | 位置検出装置および位置検出方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6134166B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180138102A (ko) * | 2017-06-20 | 2018-12-28 | 윤영엽 | 웨이퍼 위치 검증 방법 및 장치 |
JP7138360B2 (ja) | 2018-06-22 | 2022-09-16 | 株式会社テクニカ | 2本針本縫ミシン |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6783185B2 (ja) * | 2017-05-15 | 2020-11-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 検査装置 |
DE102018001181B3 (de) * | 2018-02-15 | 2019-07-11 | Azur Space Solar Power Gmbh | Sonnenstandssensor |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3336505B2 (ja) * | 1991-12-12 | 2002-10-21 | 株式会社ニコン | 位置合わせ方法及び装置ならびに露光方法及び装置 |
JPH09306977A (ja) * | 1996-05-14 | 1997-11-28 | Komatsu Ltd | ウエハ検査装置等におけるウエハの位置決め方法 |
JP3739550B2 (ja) * | 1997-10-29 | 2006-01-25 | 大日本スクリーン製造株式会社 | ウェハの測定位置決定方法 |
JP2001332490A (ja) * | 2000-03-14 | 2001-11-30 | Nikon Corp | 位置合わせ方法、露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP2002198415A (ja) * | 2000-12-27 | 2002-07-12 | Lintec Corp | ウエハアライメント装置及びウエハアライメント方法 |
JP2003092246A (ja) * | 2001-09-17 | 2003-03-28 | Canon Inc | アライメントマーク及びアライメント装置とその方法、及び露光装置、デバイスの製造方法 |
JP5011003B2 (ja) * | 2007-06-28 | 2012-08-29 | 株式会社ディスコ | 位置合わせ方法 |
JP5122880B2 (ja) * | 2007-07-11 | 2013-01-16 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置のアライメント方法 |
JP2013026383A (ja) * | 2011-07-20 | 2013-02-04 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 位置合わせ装置、位置合わせ方法、および、描画装置 |
-
2013
- 2013-03-12 JP JP2013048725A patent/JP6134166B2/ja active Active
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180138102A (ko) * | 2017-06-20 | 2018-12-28 | 윤영엽 | 웨이퍼 위치 검증 방법 및 장치 |
KR101940414B1 (ko) * | 2017-06-20 | 2019-01-18 | 윤영엽 | 웨이퍼 위치 검증 방법 및 장치 |
JP7138360B2 (ja) | 2018-06-22 | 2022-09-16 | 株式会社テクニカ | 2本針本縫ミシン |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014175571A (ja) | 2014-09-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8284399B2 (en) | Alignment system for optical lithography | |
US20140168648A1 (en) | Alignment device for exposure device, and alignment mark | |
JP5253916B2 (ja) | マスクレス露光方法 | |
JP6134166B2 (ja) | 位置検出装置および位置検出方法 | |
WO2017167258A1 (zh) | 一种投影曝光装置及方法 | |
JP5346759B2 (ja) | 基板位置決め方法 | |
JP6719246B2 (ja) | 計測方法、計測装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 | |
US8964173B2 (en) | Maskless exposure apparatus and spot beam position measurement method using the same | |
JP2009223193A (ja) | 三次元画像表示装置の製造装置、三次元画像表示装置の製造方法及びレンズ板 | |
JP6343524B2 (ja) | 投影露光装置 | |
KR20140062600A (ko) | 마스크리스 노광장비 및 이의 왜곡차 측정 및 매칭방법 | |
JP5782348B2 (ja) | 位置検出装置、描画装置、および、位置検出方法 | |
CN109075185A (zh) | 微led阵列作为照射源 | |
JP6063270B2 (ja) | 描画装置および描画方法 | |
JP2013026383A (ja) | 位置合わせ装置、位置合わせ方法、および、描画装置 | |
TW201712732A (zh) | 補正資訊生成裝置、描繪裝置、補正資訊生成方法及描繪方法 | |
JP5934546B2 (ja) | 描画装置および描画方法 | |
JP5708501B2 (ja) | 検出方法および検出装置 | |
JP5872310B2 (ja) | 描画装置、テンプレート作成装置、および、テンプレート作成方法 | |
JP2010108967A (ja) | バーニア及び露光位置の測定方法 | |
JP2021085981A (ja) | 計測方法、計測装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 | |
KR102024785B1 (ko) | 마스크리스 노광 장치의 얼라인 방법 | |
JP4604443B2 (ja) | 繋ぎ合わせ測定装置および分割露光用マスク | |
JP2014066870A (ja) | パターン形成方法及び装置、露光装置並びに表示用パネル製造方法 | |
KR20140059913A (ko) | 마스크리스 노광장비 및 이를 이용한 크로스토크 검사방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151215 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20161128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161206 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20170203 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170223 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170418 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170421 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6134166 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |