JP6131552B2 - 波長変換素子及びその製造方法 - Google Patents

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Description

この発明は、波長変換素子及びその製造方法に関する。
周期的分極反転構造によって擬似位相整合(QPM:Quasi−Phase Matching)を実現して波長変換を行う擬似位相整合型波長変換素子(以降、単に、「波長変換素子」とも称する。)が注目されている。波長変換素子は、波長変換されるべき基本波光の波長に応じた周期の周期的分極反転構造(以下、単に「分極反転構造」とも称する。)が形成された光導波路を有する。そして、この光導波路に基本波光を入力して、波長変換された波長変換光を出力させる。
波長変換素子は、光通信分野で主に用いられているが、これ以外の、例えば、電気光学偏光器(例えば、特許文献1参照)や、テラヘルツ波発生装置(例えば、特許文献2参照)や、光変調器(例えば、特許文献3参照)等の光計測の分野でも利用され始めている。
何れの用途でも、波長変換素子には、高い効率で波長を変換する能力が求められる。そのためには、光導波路中で、基本波光及び波長変換光の電界分布の重複を増すことが有効である。しかし、光導波路の屈折率分布の非対称性により、波長変換素子の波長変換効率を高めることは難しかった。以下、この点について詳述する。
波長変換素子の光導波路は、例えば、常法に従い分極反転構造を作成した強誘電体結晶基板に、周知のプロトン交換法や、Ti拡散法により高屈折率領域を形成することで得られる。このようにして形成された光導波路(以下、「拡散型光導波路」とも称する。)では、プロトンやTiが基板表面から拡散されているので、これらの濃度に依存して、屈折率が深さとともに徐々に小さくなっていく。このような屈折率分布を持つ光導波路では、基本波光と波長変換光の電界分布が大きく異なるため、波長変換効率を上げることができなかった。
また、光導波路を形成する別方法として、土台である低屈折率基板上に貼り付けた、分極反転構造を有する強誘電体結晶基板を、断面リッジ形の直線状にダイシングする技術がある(例えば、非特許文献1参照)。
特開平10−83001号公報 特開2005−77470号公報 特開平11−174390号公報
確かに、リッジ形の光導波路は、拡散型光導波路に比べて、光導波路内部での屈折率の対称性が高いため、プロトン交換法等で得られる光導波路よりも波長変換効率を上げることができる。しかし、リッジ形光導波路の外側は空気であるので、基板面に垂直な方向に沿った光導波路の屈折率分布は、非対称となる。この非対称性ゆえに、基本波光と波長変換光の電界分布にズレが生じ、波長変換効率を十分に向上できなかった。
この発明は、このような技術的背景の下でなされた。従って、この発明の目的は、従来よりも波長変換効率を高めた波長変換素子、及びその製造方法を得ることにある。
発明者は鋭意検討の結果、分極反転構造を有するコアを、等方性を有するクラッド、つまり屈折率が場所によらず均一なクラッド中に埋め込んだ波長変換素子を用いることで、上述の目的が達せられることに想到した。すなわち、この発明の波長変換素子は、第1基板とコアとクラッドとを備える。ここで、コアは、自発分極の向きが反転する第1及び第2ドメインが交互に並ぶ周期的分極反転構造を有する強誘電体結晶で構成される。また、クラッドは、コアの光伝搬方向に沿った全側面を覆い、均一な屈折率を有する。また、クラッドは、第1基板の主面上に設けられている。そして、第1及び第2ドメインの境界面が、光伝搬方向と非平行に配置されている。また、コアは、クラッド中に第1基板の主面に平行に延在して設けられている。第1基板の、コアの直下領域の両側には、コアに沿って延在する凹部が形成されている。この凹部は、クラッドで充填されている。
また、本発明の波長変換素子の形成方法では、自発分極の向きが反転する第1及び第2ドメインが交互に並ぶ周期的分極反転構造を有する強誘電体結晶基板を準備する。そして、この強誘電体結晶基板と、第1基板とを、互いに対向する主面間に満たした2μm以上の厚みの接着剤で接着する。
続いて、強誘電体結晶基板側から、第1及び第2ドメインの境界面と非平行な方向に沿って2本の溝を形成することで、2本の溝の間の強誘電体結晶基板の領域をコアとする素子前駆体を形成する。ここで、これらの溝の強誘電体結晶基板の主面に垂直に測った深さを強誘電体結晶基板の厚み以上とし、かつ、溝の光伝搬方向に直交しかつ強誘電体結晶基板の主面に平行に測った幅を2μm以上とする。
続いて、素子前駆体のコアが形成された側の面と、第2基板の主面との間を接着剤で満たして素子前駆体と第2基板を接着して、2本の溝の内部を接着剤で満たすと共に、コアの上面と第2基板の主面とに2μm以上の接着剤を介在させ、接着剤をクラッドとして機能させる。
上述のように構成された波長変換素子及びその製造方法は、コアの周囲の屈折率の対称性を高めることができるので、基本波光と波長変換光の電界分布の重複が大きくなる。その結果、基本波光から波長変換光への波長変換効率を従来よりも高めることができる。
(A)は、波長変換素子を概略的に説明するための模式図であり、(B)は、従来の波長変換素子に対応し、(C)は、本発明の波長変換素子に対応する。 (A)は、波長変換素子の構成を概略的に示す斜視図であり、(B)は、(A)のA−A線に沿った端面図である。 (A)及び(B)は、波長変換素子の製造方法を工程順に示す斜視図である。 (A)及び(B)は、図3(B)に続く工程を工程順に示す斜視図である。
以下、図面を参照して、この発明の実施形態について説明する。なお、各図では、各構成要素の形状、大きさ及び配置関係を、この発明が理解できる程度に概略的に示している。また、以下、この発明の好適な構成例について説明するが、各構成要素の材質及び数値的条件などは、単なる好適例にすぎない。従って、この発明は、以下の実施形態に何ら限定されない。また、各図において、共通する構成要素には同符号を付し、重複する説明を省略することもある。また、他の図面との対応関係が明らかな構成要素の符号を省略することもある。
(発明の概要)
まず、図1(A)〜(C)を参照して、この発明の概要について説明する。図1(A)は、波長変換素子の概容を説明するための模式図である。図1(B)は、従来の波長変換素子に対応する。図1(C)は、本発明の波長変換素子に対応する。なお、図1(B)及び(C)は、言わば、図1(A)のA−A線に沿った端面図に相当する。また、図1(B)及び(C)には、端面図と共に、厚み方向に沿って測った素子の屈折率分布を示している。
波長変換素子1の説明に先立ち、図1(A)を参照して、以下の説明で用いる方向及び寸法を定義する。基本波光INの光伝搬方向(図中、矢印Pで示す。)に垂直かつコア12の下面12aに平行な方向を幅方向と称し、幅方向に沿って測った幾何学的長さを「幅」と称する。また、下面12aに垂直な方向を高さ又は厚み方向と称し、高さ又は厚み方向に沿って測った幾何学的長さを「高さ」又は「厚さ」と称する。同様に、光伝搬方向に沿って測った幾何学的長さを「長さ」と称する。また、所定の構造体の光伝搬方向に垂直な断面のことを「横断面」と称する。
始めに、図1(A)を参照して、波長変換素子について概略的に説明する。波長変換素子1は、コア12と、コア12の周囲に設けられるクラッド6とで構成される光導波路18を備える。コア12は、自発分極の向き(図中、白矢印で示す。)が反転した第1及び第2ドメインD及びDが交互に並ぶ周期的分極反転構造13を有する強誘電体結晶で形成されている。
ここで、分極反転構造13の第1及び第2ドメインD及びDの周期Λは、波長λの基本波光INに対して、擬似位相整合条件(以下、QPM条件とも称する。)を満足するように設定されている。さらに、第1及び第2ドメインD及びDの境界面Sが、光伝搬方向と非平行に配置されている。この例では、境界面Sは光伝搬方向に垂直に設けられている。
これらの結果、光導波路18のコア12の一端に入力された基本波光IN(λ)は、コア12を伝搬する過程で波長変換されて、他端から、波長λ(≠λ)の波長変換光OUTとして出力される。
以下、このQPM条件について詳述する。例えば、入力された基本波光INを、第2高調波発生に基づき波長変換するには、分極反転構造13の周期Λを、次式(1)を満たす値とすればよい。
Λ=λ/{2(N−N)}・・・(1)
ここで、Nは基本波光INに対する光導波路18の等価屈折率、Nは波長変換光OUTに対する光導波路18の等価屈折率である。基本波光IN又は波長変換光OUTに対する光導波路18の等価屈折率とは、光導波路18を伝搬する基本波光IN又は波長変換光OUTの伝搬定数と波数の関係を規格化して表した数値である。光導波路18を伝搬する基本波光IN又は波長変換光OUTの位相速度は、この等価屈折率を有する空間中を伝搬する場合と等しくなる。
この他、差周波発生、和周波発生等に基づく波長変換素子についても同様に、これらのQPM条件を満たすように、周期Λを設定することで、それぞれの様式の波長変換が実現される。
この例では、境界面Sが光伝搬方向に垂直に配置される場合について説明した。しかし、境界面Sの延在方向は、光伝搬方向に対して垂直以外の非平行、つまり斜めであってもよい。この構成によっても、分極反転構造13の実効的な周期Λ'に応じた波長で波長変換を行うことができる。ここで、実効的な周期Λ'とは、境界面Sと光伝搬方向のなす角をΘとしたときに、Λ'=Λ/sinΘで与えられる。
続いて、図1(B)を参照して、従来型の波長変換素子100(以下、従来型素子100とも称する。)について説明する。従来型素子100は、分極反転構造13が形成された断面矩形状のリッジ形のコア12と、クラッド105とを備える。従来型素子100では、コア12とクラッド105とで光導波路18が構成される。ここでクラッド105は、コア12の下面に接する基板104と、コアの両側面及び上面に接する第1クラッド106とで構成される。
図1(B)に示した屈折率分布を参照すると、従来型素子100では、コア12が基板104上に設けられていることに起因して、厚み方向に沿った屈折率分布が非対称となる。すなわち、コア12、基板104及び第1クラッド106の屈折率をそれぞれ、n、n及びnとすると、n>n>nとの大小関係が成り立つ。
コア12の周囲の屈折率分布の非対称性の結果、図1(B)に示すように、コア12の断面において、基本波光INと波長変換光OUTの電界分布E(IN)及びE(OUT)に、厚み方向に関してズレが生じる。基本波光INから波長変換光OUTへの変換効率は、両電界分布E(IN)及びE(OUT)の重なり(図中斜線部分)の大きさに依存する。このように、屈折率分布が非対称な従来型素子100では、両電界分布E(IN)及びE(OUT)のズレを回避できず、波長変換効率を十分に高めることができなかった。
それに対し、図1(C)に示す本発明の波長変換素子10は、コア12の光伝搬方向に沿った全側面が、屈折率の等しいクラッド16で覆われている。特に図1(C)に示す例では、コア12が均一な屈折率n’(<n)のクラッド16の中に埋め込まれており、コア12とクラッド16とで光導波路18が構成されている。
これにより、図1(C)の屈折率分布に示すように、厚み方向に沿った屈折率分布がコア12を挟んで対称になる。その結果、基本波光の電界分布E(IN)と、波長変換光の電界分布E(OUT)のズレが無くなり、両分布の重複が最大になる。その結果、本発明の波長変換素子10の波長変換効率は、従来型素子100よりも向上する。
(実施形態)
続いて、図2〜図4を参照して、本発明の波長変換素子、及びその製造方法の実施形態について説明する。図2(A)は、波長変換素子の構成を概略的に示す斜視図である。図2(B)は、図2(A)のA−A線に沿った端面図である。図3(A)及び(B)は、波長変換素子の製造方法を工程順に示す斜視図である。図4(A)及び(B)は、図3(B)に続く工程を工程順に示す斜視図である。
<構造>
図2(A)及び(B)に示すように、波長変換素子20は、分極反転構造が形成されたコア12と、コア12の光入出力端面を除く全側面を覆うクラッド16とを備えた光導波路18を備えている。そして、波長変換素子20は、この光導波路18を、厚み方向の上下から挟持する第1及び第2基板22及び24を備える。また、波長変換素子20は、光導波路18の幅方向の両側に、分極反転構造が形成された強誘電体結晶基板26の部分領域である第1及び第2基板部分26a及び26bを備えている。
より詳細には、コア12は、第1及び第2基板部分26a及び26bとともに、接着剤28により第1基板22に貼り付けられていた平行平板状の強誘電体結晶基板26の一部をなす。ただ、コア12の幅方向の両側の強誘電体結晶基板26の一部領域26cは光伝搬方向に沿って除去されており、残った基板領域が、コア12と第1及び第2基板部分26a及び26bとを構成する。なお、この例では、強誘電体結晶基板26には、周知の方法で分極反転構造を形成したLiNbO基板を用いている。
図2(B)を参照すると、コア12は、断面矩形状であり、この例では、幅W及び高さHがそれぞれ5μmで等しい断面正方形状である。コア12の幅W及び高さHは、それぞれ、下限が3μm以上で上限が10μm以下であることが好ましく、下限が3μm以上で上限が5μm以下であればより一層好ましい。コア12の寸法をこの範囲とすることにより、コア12を伝搬する基本波光INのパワー密度が高くなるので、波長変換効率を高めることができる。
また、コア12の断面形状を正方形状とすることにより、クラッド16に屈折率が均一な物質を用いることと相俟って、光導波路18を偏波無依存とすることができる。より詳細には、厚み方向に関する屈折率分布と、幅方向に関する屈折率分布とを等しく対称的にすることにより、光導波路18を偏波無依存とすることができる。
その結果、光導波路18は、波長変換を受けるTM偏波のみでなく、TE偏波をロスを抑えながら伝搬させることができるので、光の利用効率を高めることができる。これにより、例えば、光導波路18の出力端に、自発分極の向きがコア12と直行する分極反転構造が形成されたコアを有するTE偏波用の別の波長変換素子を直列に設置できる。このようにすることにより、TM偏波のみでなく、TE偏波をも波長変換することが可能となり、より一層光の利用効率が高まる。
クラッド16は、第1及び第2基板22及び24を強誘電体結晶基板26の上下に貼り付けるために用いた接着剤28である。すなわち、第1及び第2基板22及び24の互いに対向する主面の間に充填された接着剤28をクラッド16とし、このクラッド16中に主面に平行に延在するコア12を設けている。つまり、この波長変換素子20では、接着剤28を十分に厚くすることにより、言わば、コア12を接着剤28に埋め込んで、接着剤28をクラッド16として機能させている。
接着剤28をクラッド16として機能させるためには、厚みが2μm以上であることが好ましい。すなわち、(1)コア12の下面と第1基板22との間の接着剤28の厚さ、(2)コア12の上面と第2基板24との間の接着剤28の厚さ、及び(3)コア12の両側面と第1及び第2基板部分26a及び26bとの間の接着剤28の厚さを全て2μm以上とすることが好ましい。接着剤28の厚さを2μm以上とすることにより、接着剤28は、クラッド16として実用上十分に機能し、光導波路18を伝搬する光の系外への放射を抑制する。
ここで、接着剤28としては、コア12よりも屈折率が小さい公知の光学用接着剤を用いることができる。例えば、エポキシ系樹脂や、変性メタクリレート系樹脂、変性アクリレート系樹脂を用いることができる。
第1基板22は、平行平板であり、強誘電体結晶基板26が貼り付けられる土台として機能する。すなわち、一部領域26cの基板部分が除去される前の強誘電体結晶基板26は、第1基板22の上面に2μm以上の厚みの接着剤28で貼り付けられる。なお、この例では、第1基板22として、ガラス基板を用いている。
そして、接着された両基板22及び26を、強誘電体結晶基板26側からダイシングして、一部領域26cを除去しつつ第1基板22に、凹部22bを形成する。コア12の両側に設けられる一部領域26cの幅は、幅方向に十分な厚みのクラッド16を設けるために、それぞれ2μm以上とすることが好ましい。なお、この凹部22b及び一部領域26cには、第2基板24を接着する過程で、接着剤28が充填される。
なお、第1基板22に凹部22bを設け、接着剤28を充填することにより、コア12の中心軸に対して傾斜した方向についても屈折率分布を対称とできるので、コア12の周囲の屈折率の対称性をより高めることができる。
第2基板24は、コア12と、第1及び第2基板部分26a及び26bの上面に接着剤28を介して貼り付けられる平行平板である。なお、この例では、第2基板24として、ガラス基板を用いている。
第2基板24を貼り付ける際に、上述のダイシングで形成された、凹部22b及び一部領域26c中には接着剤28が隙間無く充填される。第2基板24の貼り付けに用いる接着剤28をクラッド16として機能させるためには、幅方向に関しては、コア12の両側面から測った接着剤28の厚みを2μm以上とすることが好ましい。また、厚み方向に関しては、コア12の上面と、第2基板24の下面との間に2μm以上の厚みの接着剤28を介在させることが好ましい。なお、第2基板24の貼り付けに用いる接着材28と、第1基板22の貼り付けに用いる接着材とは、同じ材料でもよいし、材料が異なっていても、屈折率が等しければよい。
このようにして、コア12の光伝搬方向に沿った全側面に、2μm以上の厚さのクラッド16を設けることにより、光導波路18の屈折率分布の対称性が高まる。その結果、基本波光INと波長変換光OUTの電界分布の重なりが大きくなり、波長変換効率が向上する。
また、コア12の横断面を正方形とし、さらに幅及び高さの両方向に関して屈折率分布を等しくすることにより、光導波路18を偏波無依存とすることができる。これにより、光の利用効率が向上する。
なお、強誘電体結晶基板26としては、LiNbO基板に限らず、例えば、LiTaO基板や、KTiOPO基板や、KNbO基板等の、周知の強誘電体結晶基板を用いることができる。また、これらの基板に、屈折率を調整するために、Mg,Zn,Sc,In等から選択される1種類以上の元素をドープしても良い。
なお、第1及び第2基板22及び24には、ガラス基板以外にも、Siや、石英や、上述の種々の強誘電体結晶基板等を用いることができる。上述のように、コア12と第1及び第2基板22及び24との間に十分な厚みのクラッド16を設けることができれば、第1及び第2基板22及び24を構成する材料に特に限定はない。コア12よりも屈折率が高くても低くてもよい。また、コア12の上面に2μm以上の厚みの接着剤28を設けることができれば、第2基板24は特に必要ない。
<製造方法>
続いて、図3及び図4を参照して、本発明の波長変換素子の製造方法について説明する。図3(A)及び(B)は、波長変換素子の製造方法を工程順に示す斜視図である。図4(A)及び(B)は、図3(B)に続く工程を工程順に示す斜視図である。
<第1工程:図3(A)>
図3(A)に示すように、分極反転構造が形成された平行平板状の強誘電体結晶基板26’を準備する。そして、この強誘電体結晶基板26’の主面と、第1基板22の主面との間に満たした2μm以上の厚みの接着剤28で両基板22及び26’を接着する。
<第2工程:図3(B)>
続いて、図3(B)に示すように、第1基板22に貼り付けた強誘電体結晶基板26’を、常法に従いコア12の厚みHとなるまで研磨する。これにより、第1基板22には、接着剤28を介して、厚みがHの平行平板状の強誘電体結晶基板26が配位される。
<第3工程:図4(A)>
続いて、図4(A)に示すように、ダイシングソー30等を用いて、強誘電体結晶基板26側から、第1及び第2ドメインD及びDの境界面Sと垂直な方向に平行に2本の溝32a及び32bを形成する。溝32a及び32bを切削することで両溝32a及び32bの間に残った強誘電体結晶基板26の領域をコア12とする。以降、このように溝32a及び32bとコア12が形成された構造体を、素子前駆体40と称する。
ここで、溝32a及び32bの厚み方向に測った深さは、強誘電体結晶基板26の厚み以上とする。この例では、ダイシングソー30により、強誘電体結晶基板26をダイシングして、一部領域26cを除去しつつ第1基板22に、凹部22bを形成する。
また、溝32a及び32bのそれぞれの幅、つまり、コア12の側面と第1及び第2基板部分26a及び26bとの間の距離は2μm以上とする。
<第4工程:図4(B)>
続いて、図4(B)に示すように、素子前駆体40のコア12が形成された側の面と、第2基板24の主面との間を満たす接着剤28で素子前駆体40と第2基板24を接着して、2本の溝32a及び32bの内部を接着剤28で満たすと共に、コア12の上面と第2基板24の主面とに2μm以上の接着剤28を介在させ、接着剤28をクラッド16として機能させる。
これにより、均一な屈折率を有するクラッド16(接着剤28)内に埋め込まれたコア12を有する波長変換素子20が得られる。
なお、この例では、第4工程において、第2基板24を素子前駆体40に貼り付けた場合について説明した。しかし、コア12の上面上、及び溝32a及び32b内部に十分な厚みの接着剤28を設けることができれば、第2基板24を設ける必要は無い。
1,10,20 波長変換素子
6,16,105 クラッド
12 コア
13 周期的分極反転構造(分極反転構造)
18 光導波路
22 第1基板
22b 凹部
24 第2基板
26,26’ 強誘電体結晶基板
26a 第1基板部分
26b 第2基板部分
26c 一部領域
28 接着剤
30 ダイシングソー
32a,32b 溝
40 素子前駆体
100 従来型の波長変換素子(従来型素子)
104 基板
106 第1クラッド

Claims (7)

  1. 第1基板と、
    自発分極の向きが反転する第1及び第2ドメインが交互に並ぶ周期的分極反転構造を有する強誘電体結晶で構成されるコアと、
    前記第1基板の主面上に設けられた、前記コアの光伝搬方向に沿った全側面を覆う均一な屈折率を有するクラッドと
    を備え、
    前記第1及び第2ドメインの境界面が、光伝搬方向と非平行に配置されており、
    前記コアは、前記クラッド中に前記主面に平行に延在して設けられており、
    前記第1基板の、前記コアの直下領域の両側に、前記コアに沿って延在する凹部が形成されており、
    該凹部は、前記クラッドで充填されている
    ことを特徴とする波長変換素子。
  2. 前記クラッドが、前記コアよりも屈折率が小さい材料で構成されていることを特徴とする請求項1に記載の波長変換素子。
  3. 前記クラッドは、各前記側面から光伝搬方向に直交する方向に測った厚みが2μm以上であることを特徴とする請求項1又は2に記載の波長変換素子。
  4. 前記コアの光伝搬方向に垂直な横断面形状が正方形であることを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に記載の波長変換素子。
  5. 前記クラッド上に第2基板が設けられていることを特徴とする請求項1〜4の何れか一項に記載の波長変換素子。
  6. 前記クラッドが、前記第1基板及び前記第2基板に、前記強誘電体結晶の基板を貼り付けるための接着剤であることを特徴とする請求項5に記載の波長変換素子。
  7. 自発分極の向きが反転する第1及び第2ドメインが交互に並ぶ周期的分極反転構造を有する強誘電体結晶基板と、第1基板とを、互いに対向する主面間に満たした2μm以上の厚みの接着剤で接着する工程と、
    前記強誘電体結晶基板側から、前記第1及び第2ドメインの境界面と非平行な方向に沿って2本の溝を形成し、該溝の前記強誘電体結晶基板の主面に垂直に測った深さを該強誘電体結晶基板の厚み以上とし、かつ、該溝の光伝搬方向に直交しかつ前記強誘電体結晶基板の主面に平行に測った幅を2μm以上とすることにより、前記2本の溝の間の強誘電体結晶基板の領域がコアである素子前駆体を形成する工程と、
    前記素子前駆体のコアが形成された側の面と、第2基板の主面との間を接着剤で満たして前記素子前駆体と前記第2基板とを接着して、2本の溝の内部を接着剤で満たすと共に、前記コアの上面と前記第2基板の主面とに2μm以上の前記接着剤を介在させる工程とを備え、
    前記接着剤をクラッドとして機能させることを特徴とする波長変換素子の形成方法。
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