JP6120284B2 - コロイド分散液、その製造方法、およびその利用 - Google Patents
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Description
(概要)
本発明に係るコロイド分散液の製造方法は、水溶性の有機溶媒中に有機半導体材料を動的光散乱法に基づき測定した平均粒径が50nm以下になるまで分散して溶解し、有機半導体材料を含む溶液を作製する工程Aと、上記溶液を水に加えて攪拌する工程Bとを含むものである。この製造方法により、非水溶性の有機半導体材料のコロイドが水に分散しているコロイド分散液が得られる。以下、各工程についてより詳細に説明する。
工程Aは、水溶性の有機溶媒中に有機半導体材料を動的光散乱法に基づき測定した平均粒径が50nm以下になるまで分散して溶解し、有機半導体材料を含む溶液を作製する工程である。
本発明に係るコロイド分散液の製造方法における有機半導体材料は、非水溶性で且つ有機溶媒に対して溶解可能なものを指し、p型半導体材料またはn型半導体材料として利用される。p型半導体材料としては、例えば、ポリチオフェンおよびチオフェン系化合物のポリマーが挙げられる。本願明細書において、チオフェン系化合物のポリマーとは、主鎖にチオフェン骨格を有する繰返し単位を含み、さらに主鎖にチオフェン骨格以外の構造を有する繰り返し単位を含んでいてもよいポリマー(但しポリチオフェンを除く)を指す。ここで、チオフェン骨格以外の構造を有する繰り返し単位として、例えば、カルバゾール骨格を有する繰返し単位、ベンゾチオフェン骨格を有する繰返し単位、およびp−フェニレンビニレン骨格を有する繰返し単位等が挙げられる。なお、これらの繰返し単位は何れも、当該繰返し単位中に含まれる水素原子の一部が、例えば、炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜10のアルキル基;フェニル基およびベンジル基等の単環系の芳香族置換基(狭義のアリール基);その他の芳香族置換基;等で置換されていてもよい。
水溶性の有機溶媒は、水と相分離をせずに混和することができ、且つ上記非水溶性の有機半導体材料を溶解させることができる限り、特に限定されない。水溶性の有機溶媒は、水に対して1体積%以上の溶解性を有することが好ましく、水に対して10体積%以上の溶解性を有することがより好ましい。
有機溶媒に対する有機半導体材料の量は、特に限定されない。用いる有機溶媒に対する有機半導体材料の溶解度等によって、適宜決定すればよい。有機溶媒に有機半導体材料を溶解させた溶液中における有機半導体材料の量(濃度)は、例えば、0.01重量%以上で10重量%以下であることが好ましく、0.05重量%以上で3重量%以下であることがより好ましく、0.1重量%以上で1重量%以下であることがさらに好ましい場合がある。0.01重量%以上である場合には、最終的に得られるコロイド分散液の濃度調整(濃縮)がより容易となるからである。また、10重量%以下であれば、後述する工程B以降において、有機半導体材料の一部が水中でコロイド化せずに凝集して粗大粒子を形成する虞がより確実に低減されるからである。
工程Bは、工程Aで作製した溶液を水に加えて攪拌する工程である。工程Bにおいて、有機半導体材料は、水中でコロイド化して分散する。本明細書では、工程Bを経て得られた、有機半導体材料が水中でコロイド化して分散した液を、単に「コロイド分散液」と称する場合がある。
好ましくは、工程Bの後、得られたコロイド分散液から有機溶媒を除去する工程(工程C)を行う。これによって、コロイド分散液の濃縮および不要物の除去が行われるため、当該コロイド分散液を有機薄膜素子の製造等に用いた際に、より良質な(例えば、均一で平滑な)薄膜を形成することができる。
必要に応じて、工程Bと工程Cとの間または工程Cの後、コロイド分散液を濾過する工程(工程D)を行ってもよい。コロイド分散液中で有機半導体材料の粗大粒子が形成された場合でも、濾過によって、当該粗大粒子をコロイド分散液から除去することができる。濾過の方法は、特に限定されないが、好ましくはペーパーフィルターを用いる方法である。ペーパーフィルターの種類は、コロイド化した半導体材料の濾取が少なく粗大粒子の選択的な濾取が可能という観点で、JIS P3801 5種Cの規格のものが好ましい。これによって、より安定なコロイド分散液を得ることができる。そのため、当該コロイド分散液を有機薄膜素子の製造等に用いた際に、より良質な薄膜を形成することができる。
上記の製造方法によって製造されたコロイド分散液は、以下のような特徴を有する。
(i)有機半導体材料のコロイドの粒径が小さい。
(ii)不要な有機溶媒がほとんど含まれていないか、実質的に全く含まれていない。
(iii)分散安定剤(界面活性剤等)を併用しなくても分散安定性が良好であり、高濃度でも分散安定性を有する。
(付着工程)
本発明に係る有機薄膜素子の製造方法は、上記コロイド分散液を基体に付着させる付着工程を含むものである。
有機薄膜素子の製造において、必要に応じて、形成したコロイド粒子の製膜性向上のために、界面活性剤、または増粘剤等の添加剤をコロイド分散液に添加してもよい。また、薄膜成形後の機能の維持または向上を目的として、酸化防止剤、または光安定剤等の添加剤をコロイド分散液に添加してもよい。コロイド分散液の製造過程または有機薄膜素子の製造過程における、上記添加剤の添加時期および添加量は、適宜決定し得る。
有機薄膜素子としては、例えば、太陽電池、EL素子、トランジスタ(光トランジスタ等)、センサ(光センサ等)、メモリ、電子写真用感光体、コンデンサ、およびバッテリー等が挙げられる。
20mgのポリ(3−ヘキシルチオフェン)(P3HT;商品名SP001、MERCK社より購入)(有機半導体材料)を20mlのテトラヒドロフラン(水溶性の有機溶媒)に添加し、DLS測定によるP3HTの平均粒径が8nmになるまで超音波によって分散させて、溶解させた(装置名SONO CLEANER 50D、株式会社カイジョー製)。超音波分散の条件は、テトラヒドロフランの温度が45℃、超音波の出力が38kHz、50Wで、分散処理の時間が60分間であった。添加後分散前のP3HTは、数mm程度の黒色固体であったが、分散により得られた溶液は、淡橙色を呈した。超音波分散の後直ちに、上記溶液の全量を500mlの蒸留水に滴下して、メカニカルスターラーで2時間撹拌した。次いで、得られたコロイド分散液を5C(JIS P3801 5種Cに相当)の濾紙を用いて濾過した。さらに、得られた濾液を40℃の湯浴中で減圧留去することによって、テトラヒドロフラン等を取り除いて濃縮し、濃青色のコロイド分散液を得た。このコロイド分散液は、長期間、室温下で保存をしてもほぼ変色せず、塊状の沈殿物または浮遊物の増加もほぼ観察されなかった(表1参照)。
20mgのポリ(3−ヘキシルチオフェン)(P3HT)(実施例1と同一品)を20mlのテトラヒドロフランに添加し、DLS測定によるP3HTの平均粒径が20nmになるまで超音波によって分散させて、溶解させた。超音波分散の条件は、実施例1と同一の装置を用いて、テトラヒドロフランの温度が45℃、超音波の出力が38kHz、50Wで、分散処理の時間が15分間であった。添加後分散前のP3HTは、数mm程度の黒色固体であったが、分散により得られた溶液は、淡橙色を呈した。超音波分散の後、実施例1と同様の操作により、濃青色のコロイド分散液を得た(コロイド分散液A)。このコロイド分散液は、長期間、室温下で保存をしてもほぼ変色せず、塊状の沈殿物または浮遊物の増加もほぼ観察されなかった(表1参照)。
100mgのポリ(3−ヘキシルチオフェン)(P3HT)(実施例1と同一品)を20mlのテトラヒドロフランに添加し、DLS測定によるP3HTの平均粒径が20nmになるまで超音波によって分散させて、溶解させた。超音波分散の条件は、実施例1と同一の装置を用いて、テトラヒドロフランの温度が45℃、超音波の出力が38kHz、50Wで、分散処理の時間が15分間であった。なお、添加後分散前のP3HTは、数mm程度の黒色固体であったが、分散により得られた溶液は、淡橙色を呈した。超音波分散の後、実施例1と同様の操作により、濃青色のコロイド分散液を得た。このコロイド分散液は、長期間、室温下で保存をしてもほぼ変色せず、塊状の沈殿物または浮遊物の増加もほぼ観察されなかった(表1参照)。
20mgのポリ[[9−(1−オクチルノニル)−9H−カルバゾール−2,7−ジイル]−2,5−チオフェンジイル−2,1,3−ベンゾチアヂアゾール−4,7−ジイル−2,5−チオフェンジイル](PCDTBT;独立行政法人理化学研究所で合成したもの)(有機半導体材料)を20mlのテトラヒドロフランに添加し、DLS測定によるPCDTBTの平均粒径が50nmになるまで超音波によって分散させて、溶解させた。超音波分散の条件は、実施例1と同一の装置を用いて、テトラヒドロフランの温度が45℃、超音波の出力が38kHz、50Wで、分散処理の時間が30分間であった。なお、添加後分散前のPCDTBTは、数mm程度の黒色粉末であったが、分散により得られた溶液は、濃青色を呈した。超音波分散の後、実施例1と同様の操作により、濃青紫色のコロイド分散液を得た(コロイド分散液B)。このコロイド分散液は、長期間、室温下で保存をしてもほぼ変色せず、塊状の沈殿物または浮遊物の増加もほぼ観察されなかった(表1参照)。
20mgのフェニルC61酪酸メチルエステル(PCBM;商品名nanom spectra E100、フロンティアカーボン株式会社より購入)(有機半導体材料)を20mlのテトラヒドロフランに添加し、DLS測定によるPCBMの平均粒径が50nmになるまで超音波によって分散させて、溶解させた。超音波分散の条件は、実施例1と同一の装置を用いて、テトラヒドロフランの温度が45℃、超音波の出力が38kHz、50Wで、分散処理の時間が15分間であった。なお、添加後分散前のPCBMは、数mm程度の黒色粉末であったが、分散により得られた溶液は、褐色を呈した。超音波分散の後、実施例1と同様の操作により、淡褐色のコロイド分散液を得た(コロイド分散液C)。このコロイド分散液は、長期間、室温下で保存をしてもほぼ変色せず、塊状の沈殿物または浮遊物の増加もほぼ観察されなかった(表1参照)。
<実施例6>
20mgのポリ(3−ヘキシルチオフェン)(P3HT)(実施例1と同一品)を20mlのテトラヒドロフランに添加し、DLS測定によるP3HTの平均粒径が50nmになるまで超音波によって分散させて、溶解させた。超音波分散の条件は、実施例1と同一の装置を用いて、テトラヒドロフランの温度が45℃、超音波の出力が38kHz、50Wで、分散処理の時間が5分間であった。なお、添加後分散前のP3HTは、数mm程度の黒色固体であったが、分散により得られた溶液は、淡橙色を呈した。超音波分散の後、実施例1と同様の操作により、濃青色のコロイド分散液を得た。このコロイド分散液は、長期間、室温下で保存をしてもほぼ変色せず、塊状の沈殿物または浮遊物の増加もほぼ観察されなかった(表1参照)。
20mgのポリ(3−ヘキシルチオフェン)(P3HT)(実施例1と同一品)を20mlのテトラヒドロフランに添加し、DLS測定でP3HTの平均粒径が100nmになるまで超音波によって分散させて、溶解させた。超音波分散の条件は、実施例1と同一の装置を用いて、テトラヒドロフランの温度が22℃、超音波の出力が38kHz、50Wで、分散処理の時間が30分間であった。なお、添加後分散前のP3HTは、数mm程度の黒色固体であったが、分散により得られた溶液は、濃褐色を呈した。超音波分散の後、実施例1と同様の操作により、薄青色のコロイド分散液を得た(表1参照)。
20mgのポリ(3−ヘキシルチオフェン)(P3HT)(実施例1と同一品)を20mlのテトラヒドロフランに添加し、DLS測定でP3HTの平均粒径が200nmになるまで超音波によって分散させて、溶解させた。超音波分散の条件は、実施例1と同一の装置を用いて、テトラヒドロフランの温度が22℃、超音波の出力が38kHz、50Wで、分散処理の時間が15分間であった。なお、添加後分散前のP3HTは、数mm程度の黒色固体であったが、分散により得られた溶液は、濃褐色を呈した。超音波分散の後、実施例1と同様の操作により、薄青色のコロイド分散液を得た(表1参照)。
20mgのポリ(3−ヘキシルチオフェン)(P3HT)(実施例1と同一品)を20mlのテトラヒドロフランに添加し、DLS測定でP3HTの平均粒径が200〜300nmになるまで超音波によって分散させて、溶解させた。超音波分散の条件は、実施例1と同一の装置を用いて、テトラヒドロフランの温度が22℃、超音波の出力が38kHz、50Wで、分散処理の時間が5分間であった。なお、添加後分散前のP3HTは、数mm程度の黒色固体であったが、分散により得られた溶液は、濃褐色を呈した。超音波分散の後、実施例1と同様の操作により、薄青色のコロイド分散液を得た。このコロイド分散液は、長期間、室温下で保存をすると、透明から懸濁状態に変化し、さらに塊状の沈殿物または浮遊物の増加が観察された(表1参照)。
静電噴霧装置(装置名ES-3500、株式会社フューエンス製)を用いて、実施例2、4、5で得られたコロイド分散液(それぞれコロイド分散液A、B、C)を、ITOパターンガラス基板(商品名ITOパターンガラス、テクノプリント株式会社製)上に塗布し、基板A〜Cをそれぞれ得た。コロイド分散液A〜Cは、何れも調製後1日〜数ヶ月程度経過したものを用いた。なお、調整後の経過時間と塗膜中の平均粒径との間に有意な関係性はみられなかった。
実施例7で得た基板A〜CのITO電極7上の薄膜8に、アルミ電極9を真空蒸着法によって成膜し、図2に示すような素子10(それぞれ素子A〜C)を作製した。真空蒸着は、1×10−4Pa〜4×10−4Pa程度において、抵抗加熱法によって行った。アルミ電極9の膜厚は40nm〜400nmであった。ITO電極7とアルミ電極9とが重畳し、素子として機能する電極面積は、2.5mm×3.0mm(素子A)または2.5mm×2.5mm(素子B、C)となるよう設計した。
比較(従来法)として、ITOパターンガラス基板上に、P3HTをスピンコート法によって塗布し、基板Dを得た。P3HTの溶液は、濃度が14mg/mlとなるようP3HTをクロロベンゼン(スペクトロゾール)に溶解させ、30〜40℃でスターラーを用いて一晩撹拌して作製した。基板は実施例8で使用したものと同じであり、ITO電極7付きの基板6を純水、2−プロパノール、アセトン、クロロホルムで超音波洗浄し、さらにUVオゾン洗浄を行った。洗浄した基板に、上記P3HTのクロロベンゼン溶液を用いて、スピンコート法により薄膜を作製した。回転数は1000rpm、時間は20秒とした。得られた基板Dに、実施例8と同様の方法によって、アルミ電極を真空蒸着法によって成膜して、素子Dを得た。素子として機能する電極面積は、2.5mm×2.5mmとなるよう設計した。
実施例2と同様の方法で、P3HTをテトラヒドロフランに溶解し、DLS測定によるP3HTの平均粒径が20nm以下になるまで超音波によって分散させた。この溶液を常温で静置し、溶液の色の変化を肉眼で観察した。
実施例2と同様の方法で、P3HTのコロイド分散液を得た。また、実施例5と同様の方法で、PCBMのコロイド分散液を得た。これらのコロイド分散液をDMA(Differential Mobility Analyzer:低圧型DMAシステム、ワイコフ科学株式会社製)によって、コロイド粒子のサイズ分布を測定した。また、これらのコロイド分散液を走査型電子顕微鏡(FE-SEM Hitachi S4800T)で観察した。
本実施例は、実施例8の素子Aに比較して、ITO電極とコロイド分散液を静電噴霧装置で噴霧して作製した薄膜との間に、スピンコート法によって作製されたP3HT薄膜が挿入されている点で異なる。
2 コロイド分散液
3 針金状電極
4 スプレーフレーム
5 アクリル板
6 基板
7 ITO電極
8 薄膜
9 アルミ電極
10 素子
Claims (14)
- 非水溶性の有機半導体材料のコロイドが水に分散しているコロイド分散液の製造方法であって、
水溶性の有機溶媒中に上記有機半導体材料を動的光散乱法に基づき測定した平均粒径が50nm以下になるまで分散して溶解し、有機半導体材料を含む溶液を作製する工程Aと、
上記溶液を水に加えて攪拌する工程Bとを含むことを特徴とする製造方法。 - 上記工程Bは、上記工程Aの後30分以内に上記溶液を10倍体積以上で100倍体積以下の水に加えることを特徴とする請求項1に記載の製造方法。
- 上記工程Bの後、上記溶液が加えられた水から上記有機溶媒を除去する工程Cをさらに含むことを特徴とする請求項1または2に記載の製造方法。
- 上記工程Aにおいて、超音波によって上記有機半導体材料を分散することを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の製造方法。
- 上記工程Bは、上記溶液を水に滴下して加えることを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の製造方法。
- 上記有機半導体材料が、ポリチオフェン、チオフェン系化合物のポリマー、フラーレン、またはフラーレン誘導体であることを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の製造方法。
- 上記有機溶媒が、テトラヒドロフラン、クロロホルム、およびエタノールからなる群より選択される少なくとも一種であることを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載の製造方法。
- 上記工程Aにおいて、上記有機溶媒の温度を30〜60℃の範囲内に保ちながら上記有機半導体材料を分散することを特徴とする請求項1〜7の何れか1項に記載の製造方法。
- 請求項1、6(請求項1を引用する場合のみ)または7(請求項1を引用する場合のみ)に記載の製造方法によって製造されることを特徴とするコロイド分散液。
- 請求項9に記載のコロイド分散液を基体に付着させる付着工程を含むことを特徴とする有機薄膜素子の製造方法。
- 上記基体はスピンコーティングによって形成された半導体膜を表面に有しており、上記付着工程は当該半導体膜の少なくとも一部に、当該半導体膜と多数キャリアが同じである有機半導体が分散している上記コロイド分散液を付着させることを特徴とする請求項10に記載の製造方法。
- 上記付着工程において、上記コロイド分散液を静電噴霧堆積法によって基体に付着させることを特徴とする請求項10または11に記載の製造方法。
- 上記有機薄膜素子が太陽電池素子であることを特徴とする請求項10〜12の何れか1項に記載の製造方法。
- 請求項10、12(請求項11を引用する場合を除く)または13(請求項11を引用する場合を除く)に記載の製造方法によって製造されることを特徴とする有機薄膜素子。
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