JP6117998B2 - フレキシブルoledパネルの製造方法 - Google Patents
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Landscapes
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Description
302 薄膜トランジスタ基板
304 カラーフィルタ基板
306 液晶層
(本発明)
20 リジッド基板
22 金属層
24 支持層
40 フレキシブル基板
42 OLED素子
422 陽極
424 有機機能層
426 陰極
442 正孔輸送層
444 有機発光層
446 電子輸送層
60 封止用キャップ
Claims (15)
- フレキシブルOLEDパネルの製造方法であって、
前記製造方法は、以下の工程1から工程7を含み、
工程1では、リジッド基板とフレキシブル基板を用意し、
工程2では、前記リジッド基板周縁に金属層を形成し、
工程3では、前記金属層内側のリジッド基板上に支持層を形成し、
工程4では、前記フレキシブル基板を前記リジッド基板上に配置し、
工程5では、前記金属層に対して電圧を印加して前記フレキシブル基板を加熱するとともに、前記金属層と接触したフレキシブル基板の材料が融点に達した後、加熱を停止することで、前記フレキシブル基板と前記リジッド基板を一つに接合し、
工程6では、前記フレキシブル基板上にOLED素子を形成するとともに、前記OLED素子に対してパッケージングを行い、
工程7では、前記金属層に対して電圧を印加して前記フレキシブル基板を加熱するとともに、前記金属層と接触したフレキシブル基板の材料が融点に達した後、前記フレキシブル基板とリジッド基板を分離させることにより、フレキシブルOLEDパネルが製造されることを特徴とする、フレキシブルOLEDパネルの製造方法。 - 更に、前記リジッド基板は、ガラス基板であることを特徴とする、請求項1に記載のフレキシブルOLEDパネルの製造方法。
- 更に、前記支持層の上側表面は、前記金属層の上側表面と同一平面になるように設けられることを特徴とする、請求項1に記載のフレキシブルOLEDパネルの製造方法。
- 更に、前記金属層は、電気抵抗率の大きい金属によって形成されることを特徴とする、請求項1に記載のフレキシブルOLEDパネルの製造方法。
- 更に、前記金属層は、鉄・亜鉛・クロムの中のいずれか一つによって形成されることを特徴とする、請求項4に記載のフレキシブルOLEDパネルの製造方法。
- 更に、前記支持層は、酸化ケイ素或は窒化ケイ素のいずれか一つによって形成されることを特徴とする、請求項1に記載のフレキシブルOLEDパネルの製造方法。
- 更に、前記工程4において、
真空条件下で前記フレキシブル基板は、ローラーによって平らな状態で前記リジッド基板上に真空吸着されることを特徴とする、請求項1に記載のフレキシブルOLEDパネルの製造方法。 - 更に、前記OLED素子は、前記フレキシブル基板上に形成された陽極と、前記陽極上に形成された有機機能層と、前記有機機能層上に形成された陰極とからなることを特徴とする、請求項1に記載のフレキシブルOLEDパネルの製造方法。
- 更に、前記有機機能層は、前記陽極上に形成された正孔輸送層と、前記正孔輸送層上に形成された有機発光層と、前記有機発光層上に形成された電子輸送層とからなることを特徴とする、請求項8に記載のフレキシブルOLEDパネルの製造方法。
- 更に、前記工程7では、前記フレキシブル基板を真空吸着するとともに機械で持上げることによって、前記フレキシブル基板とリジッド基板の分離を行うことを特徴とする、請求項1に記載のフレキシブルOLEDパネルの製造方法。
- フレキシブルOLEDパネルの製造方法であって、
前記製造方法は、以下の工程1から工程7を含み、
工程1では、リジッド基板とフレキシブル基板を用意し、
工程2では、前記リジッド基板周縁に金属層を形成し、
工程3では、前記金属層内側のリジッド基板上に支持層を形成し、
工程4では、前記フレキシブル基板を前記リジッド基板上に配置し、
工程5では、前記金属層に対して電圧を印加して前記フレキシブル基板を加熱するとともに、前記金属層と接触したフレキシブル基板の材料が融点に達した後、加熱を停止することで、前記フレキシブル基板と前記リジッド基板を一つに接合し、
工程6では、前記フレキシブル基板上にOLED素子を形成するとともに、前記OLED素子に対してパッケージングを行い、
工程7では、前記金属層に対して電圧を印加して前記フレキシブル基板を加熱するとともに、前記金属層と接触したフレキシブル基板の材料が融点に達した後、前記フレキシブル基板とリジッド基板を分離させることにより、フレキシブルOLEDパネルが製造され、
更にこのうち、
前記リジッド基板は、ガラス基板であり、
前記支持層の上側表面は、前記金属層の上側表面と同一平面になるように設けられ、
前記金属層は、電気抵抗率の大きい金属によって形成され、
前記金属層は、鉄・亜鉛・クロムの中のいずれか一つによって形成され、
前記支持層は、酸化ケイ素或は窒化ケイ素のいずれか一つによって形成されることを特徴とする、フレキシブルOLEDパネルの製造方法。 - 更に、前記工程4において、
真空条件下で前記フレキシブル基板は、ローラーによって平らな状態で前記リジッド基板上に真空吸着されることを特徴とする、請求項11に記載のフレキシブルOLEDパネルの製造方法。 - 更に、前記OLED素子は、前記フレキシブル基板上に形成された陽極と、前記陽極上に形成された有機機能層と、前記有機機能層上に形成された陰極とからなることを特徴とする、請求項11に記載のフレキシブルOLEDパネルの製造方法。
- 更に、前記有機機能層は、前記陽極上に形成された正孔輸送層と、前記正孔輸送層上に形成された有機発光層と、前記有機発光層上に形成された電子輸送層とからなることを特徴とする、請求項13に記載のフレキシブルOLEDパネルの製造方法。
- 更に、前記工程7では、前記フレキシブル基板を真空吸着するとともに機械で持上げることによって、前記フレキシブル基板とリジッド基板の分離を行うことを特徴とする、請求項11に記載のフレキシブルOLEDパネルの製造方法。
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