JP6094925B2 - 金属製品 - Google Patents
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Description
本発明は、耐摩耗性に優れた金属製品を提供することを目的とする。
請求項1の発明は、
表面の少なくとも一部が金属部材からなる母材と、
前記母材の前記金属部材からなる表面の直上に配置されるか又は前記金属部材の表面が窒化された窒化層の直上に配置され、PVD膜であって、かつ最表面を構成し下記に示す膜組成を有する単層の膜、又は最表面を構成する層を含む複数の層が積層された積層膜であって前記複数の層の全てが下記に示す膜組成を有する積層膜である硬質被膜と、
を有する金属製品である。
(膜組成)Ti原子、Si原子、C原子、N原子を含有し、前記Ti原子とSi原子との合計量に対する前記Si原子の比が10at%以上25at%以下且つ前記C原子とN原子との合計量に対する前記C原子の比が25at%以上55at%以下であり、構成する全原子に占める前記Si原子の割合が5at%以上7.5at%以下である
前記硬質被膜の、ナノインデンテーション法による硬度が15GPa以上35GPa以下である請求項1に記載の金属製品である。
前記硬質被膜が、単層の膜である請求項1または請求項2に記載の金属製品である。
前記硬質被膜が、硬度が異なる複数の層の積層膜である請求項1または請求項2に記載の金属製品である。
前記積層膜は、最表面を構成する最表層の硬度が該最表層と接する下層の硬度よりも低い請求項4に記載の金属製品である。
前記硬質被膜の表面の、下記測定条件でのボールオンディスク法による摩擦係数が0.1以上0.4以下である請求項1〜請求項5の何れか一項に記載の金属製品である。
[測定条件]
・相手材:φ6mmのSUS304ボール
・荷重:5N
・回転速度:10cm/sec
・回転半径:3mm
・摩擦距離:1000m
・環境:無潤滑環境
ここで本発明における金属製品としては、例えば、ねじの頭部に+形などの孔を成形するねじ頭部成形用パンチ、金属板等の打ち抜きなどに用いられるパンチ等の工具;ポンプ用ベーン等の機械部品;ポンチやダイ、金属板等の曲げや絞りなどに用いられる成形用ダイス、プレス成形用金型等の金型;ドリル、エンドミル等の切削工具等が挙げられる。
また、ねじパンチに限らず、一般的な打ち抜き用のパンチも、金属板等の打ち抜きなどに繰り返して用いられるために次第に欠けや折れ等が発生することがあり、耐久性に優れたパンチが求められる。
例えば、図1(A)〜図1(C)に示されるねじパンチの場合であれば、ねじに孔5を成形する際にねじの頭部6と接触する突出部3が少なくとも上記硬質被膜により被覆される。また、打ち抜き用のパンチでは、金属板等の材料を打ち抜く際に打ち抜かれる前記材料と接触する部分が少なくとも上記硬質被膜により被覆され、金型では、成型が施される材料が充填された際に前記材料と接触する部分が少なくとも上記硬質被膜により被覆され、ドリルやエンドミル等の切削工具では、金属等の材料を切削する際に前記材料と接触する部分が少なくとも上記硬質被膜により被覆される。更に、ポンプ用ベーンであれば、ベーンのポンプ中の他の部材と摺動する部分が少なくとも上記硬質被膜により被覆される。
これにより耐摩耗性に優れ、その結果耐久性に優れた金属製品が得られる。
本発明に係る金属製品を構成する母材は、表面の少なくとも一部が金属部材で形成される。尚、この金属部材で構成される領域には少なくとも対象部材と接触する箇所が含まれていればよく、対象部材と接触しない箇所は金属部材で構成されていてもその他の部材で構成されていてもよい。
従って、例えば図1(A)〜図1(C)に示されるねじパンチの場合であれば、該ねじパンチの母材における突出部3が少なくとも金属部材で構成され、本体1は金属部材で構成されていてもその他の部材で構成されていてもよい。尚、ねじパンチとしては、本体1および突出部3が共に金属部材によって一体的に成形されていることがより好ましい。
また、打ち抜き用のパンチであれば、金属板等の材料を打ち抜く際に打ち抜かれる前記材料と接触する部分が少なくとも金属部材で構成され、金型であれば、成型が施される材料が充填された際に前記材料と接触する部分が少なくとも金属部材で構成され、ドリルやエンドミル等の切削工具であれば、金属等の材料を切削する際に前記材料と接触する部分が少なくとも金属部材で構成される。更に、ポンプ用ベーンであれば、ベーンのポンプ中の他の部材と摺動する部分が少なくとも金属部材で構成される。尚、打ち抜き用のパンチ、金型、切削工具、ポンプ用ベーン等の金属製品における上記以外の部分は、金属部材で構成されていてもその他の部材で構成されていてもよく、全体が金属部材によって一体的に成形されていることが好ましい。
前記鋼としては、少なくとも炭素を含有する鉄(いわゆる炭素鋼)や、該炭素鋼に更に他の合金元素を含有する化合物(いわゆる特殊鋼)等の公知の鋼系材料が挙げられる。また前記超硬合金としては、タングステンカーバイト等が挙げられる。
本発明に係る金属製品は、母材の少なくとも一部における金属部材からなる表面上が硬質被膜により被覆される。
尚、Ti原子とSi原子との合計量に対するSi原子の比は10at%以上25at%以下(つまり組成「Ti(1−x)Six」におけるxが0.1以上0.25以下)である。更にはSi原子の比が10at%以上15at%以下であることがより好ましい。
また、Si原子とTi原子との合計量に対しSi原子の含有量は更に15at%未満であることが好ましい。15at%未満の範囲とすることにより、硬質被膜の結晶構造が微細化され、28GPa以上の高硬度を発現させることができるものと推察される。
また、Si原子量は上記上限値を超えると結晶構造が変化してしまうため、硬質被膜として好適に用いることができない。
C原子の比が上記下限値より低い場合、硬質被膜の低摩擦化が実現されず、結果として金属製品の耐久性に劣るとの課題が生じる。
Ti原子:34.5at%以上45at%以下
(より好ましくは37.5at%以上45at%以下)
Si原子:5at%以上12.5at%以下
(より好ましくは5at%以上7.5at%以下)
C原子 :12.5at%以上35at%以下
N原子 :15at%以上41.5at%以下
(より好ましくは15at%以上37.5at%以下)
具体的には、日本電子製のJXA−8500F(FE−EPMA)を用い、加速電圧:10kV、照射電流:5×10−8A、分析領域:φ50μm、使用標準資料:Ti(pure Ti)、Si(pure Si)、C(Glass Carbon)、N(AlN)、O(SiO2)との測定条件にて、測定される。尚、測定結果にはO原子が含まれる場合があるが、このO原子の検出は、硬質被膜を形成する際の炉の残留ガスに起因するもので硬質被膜中に存在するものではないため、O原子を除いた原子で合わせて100%となるよう算出する。
本発明における硬質被膜の表面の摩擦係数は低いほど好ましく、具体的には下記の測定条件でのボールオンディスク法による摩擦係数が0.4以下であることが好ましい。また、その下限値としては特に限定されるものではないが、例えば0.1以上であることが好ましい。
本発明における硬質被膜の、ナノインデンテーション法による硬度は15GPa以上35GPa以下であることが好ましい。
従って、本発明においては、C原子の比が前述の範囲でありC原子を比較的多く含んでいる硬質被膜であるにも関わらず、この硬質被膜の硬さをより硬い方向や、逆に柔らかい方向に調整することもできる。
耐変形性を求めてより硬い膜とする場合には、硬度は30GPa以上35GPa以下がより好ましい。
一方、靱性を求めてより柔らかい膜とする場合には、硬度は10GPa以上20GPa以下がより好ましい。
本発明における硬質被膜は、1層からなる単層の膜であってもよい。単層の膜であることにより形成が容易に行える。
ここで、硬質被膜が単層膜である場合のPVD法による形成方法について説明する。
本発明における硬質被膜は、PVD法であればいかなる方法によって形成してもよく、例えばイオンプレーティング法、スパッタリング法、蒸着法等の方法が挙げられるが、イオンプレーティング法が被膜の密着性を挙げることができるため、好ましい。
金属成分の蒸発源としてTiおよびSiを含むターゲットをセットし、反応ガスとしてN2ガスおよびCH4ガスを流しながら、被覆基体温度、反応ガス圧力、印加するバイアス電圧を調整して成形を行う。反応ガスであるN2ガスおよびCH4ガスの流量を調整することで、硬質被膜におけるC原子とN原子の比が調整される。
本発明における硬質被膜は、硬度が異なる複数の層からなる積層膜であってもよい。硬度が異なる複数の層からなることにより、より柔らかい層による高い靱性とより硬い層による耐変形性との相乗効果により耐久性が向上する。
また、被膜として例えば単層の脆性材料であるセラミックス膜を形成した場合であれば、負荷がかかった際に破壊が一気に進展し膜剥がれが生じることがある。しかし、本発明において上記のように硬度が異なる複数の層からなる積層膜を硬質皮膜として形成することで、膜の破壊が積層間でとどまり、被膜の摩滅も抑制されることで、耐久性が向上する。
積層膜の形成は、前述の単層膜の形成に準じて行われる。尚、PVD法によって硬さの異なる層を積層する方法としては、被膜を形成する際において、反応ガスの流量を途中で変化させる方法、印加するバイアス電圧を途中で変化させる方法等が挙げられ、その切り替えの時点から硬さの異なる層が積層される。
本発明における硬質被膜の厚さは、特に限定されるものではないが、1μm以上20μm以下が好ましく、2μm以上10μm以下がより好ましい。
尚、本発明の金属製品においては、母材上に前記硬質被膜を形成する前に、金属部材からなる表面上に窒化層を形成し、この窒化層を介して硬質被膜を形成してもよい。
・母材の準備
まず、ねじパンチ(母材)として、図1(A)〜図1(C)に示される形状を有する日発精密工業社製の商品名JISM4皿頭ねじ用仕上げパンチ(全体が鋼系部材で構成されるねじパンチ)を準備した。
また、膜特性評価用試験片として以下の試験片を準備した。
(試験片1)SKH51材の20mm角、厚み2mmで片面を鏡面研磨した平板試験片
(試験片2)φ6mmのSKH51材ドリル
(試験片3)φ15mm、長さ60mmのSKH51材の冷間鍛造用プレスのパンチ
(試験片4)外径36mm、内径10.5mm、厚さ7mmのSKD11材のダイス
上記ねじパンチの突出部3を含む成形部2、および(試験片2)SKH51材ドリルを除く(試験片1、3、4)の膜特性評価用試験片に、まず窒化層を形成した。処理はラジカル窒化装置を用いており、反応ガスであるNH3、H2を所定のガス比率で混合し、ヒーター加熱温度を500℃以下の条件の下で3時間の処理を行った。
次に、窒化層を形成したねじパンチおよび(試験片1、3、4)の膜特性評価用試験片、並びに窒化層を形成していない(試験片2)の膜特性評価用試験片を、アークイオンプレーティング装置(神戸製鋼所製のAIP−S20)に入れ、Arイオンによるボンバードメント処理を行い、金属成分の蒸発源であるTiSiターゲット、および反応ガスであるN2ガスおよびCH4ガスを導入し、被覆基体温度400℃、チャンバー内圧力5Paの条件下にて硬質被膜を形成した。
尚、この際のN2ガスの流量は290ml/min、CH4ガスの流量は290ml/min、バイアス電圧は50Vに調整した。
得られた硬質被膜の厚さは、2.2μmであった。
得られたねじパンチおよび(試験片1〜4)の膜特性評価用試験片について、前述の方法により硬質被膜を構成する全元素におけるTi原子、Si原子、C原子、およびN原子のそれぞれの割合、Ti原子とSi原子との合計量に対するSi原子の比(Si/(Ti+Si))、C原子とN原子との合計量に対するC原子の比(C/(C+N))、ボールオンディスク法による摩擦係数、ナノインデンテーション法による硬度を測定した。結果を下記表1に示す。
実施例1の硬質被膜の形成において、N2ガスの流量を440ml/minに、CH4ガスの流量を220ml/minに変更した以外は、実施例1と同様の方法によりねじパンチおよび(試験片1〜4)の膜特性評価用試験片を作製した。
実施例1の硬質被膜の形成において、N2ガスの流量を600ml/minに、CH4ガスの流量を150ml/minに変更した以外は、実施例1と同様の方法によりねじパンチおよび(試験片1〜4)の膜特性評価用試験片を作製した。
実施例1の硬質被膜の形成において、N2ガスの流量を670ml/minに、CH4ガスの流量を80ml/minに変更した以外は、実施例1と同様の方法によりねじパンチおよび(試験片1〜4)の膜特性評価用試験片を作製した。
実施例1の硬質被膜の形成において、N2ガスの流量を750ml/minに、CH4ガスの流量を0ml/minに変更した以外は、実施例1と同様の方法によりねじパンチおよび(試験片1〜4)の膜特性評価用試験片を作製した。
・ボールオンディスク摩耗試験
硬質被膜における潤滑性および耐摩耗性を、ボールオンディスク摩耗試験にて評価した。
試験は、CSM Instruments社(スイス)製「トライボメーター」を用いた。試験機に試験片をセットし、相手材にφ6mmのSUS304ボールをホルダーにセットした。荷重:5N、回転速度:10cm/sec、回転半径:3mm、摩擦距離:1000m、無潤滑環境で試験を行った。
上記試験により得られた結果は1000m試験後の試験片の摩耗痕で凝着が発生しているかどうか、摩擦係数は一般的な鋼材同士の摩擦係数(0.5〜0.6)を下回っているか、凝着発生を意味する0.8以上になっていないか、を以下の評価基準により評価した。
◎:凝着せず、摩擦係数0.5以下で安定した摩擦挙動を示す
○:凝着せず、摩擦係数0.5を超え0.8未満であるが安定した摩擦挙動を示す
△:摩擦係数は0.5を超え0.8未満であり、試験途中で凝着を発生した
×:摩擦係数0.8以上を示し、凝着が発生している
前記(試験片2)のドリルの試験片を用い、以下の試験により、硬質被膜におけるドリル切削性能を評価した。
試験方法は、ドリル切削加工により形成できた穴の数により評価した。切削条件は被削材がSUS板厚さ2T、切削速度50m/分、送り0.2mm/RPM、貫通穴とした。
前記(試験片3)の冷間鍛造用プレスのパンチの試験片を用い、以下の試験により、硬質被膜における金型加工性能を評価した。
試験方法は、冷間鍛造用プレスのナックルジョイント型160tプレス機を用い、被加工材であるSS400(ボンデ処理品)の加工前寸法、直径19.7mm、高さ14.0mmのものを、前記実施例および比較例でのコーティング処理済の試験パンチでショットプレスを行い、底厚5mmの厚さにまで圧延し、この試験を150ショット繰り返した。ショットプレス後の試験パンチに施した被膜の剥がれの有無を確認した。
上記試験により得られた結果を、以下の評価基準により評価した。
◎:150ショット加工可能であった。加工後もパンチ表面に傷は見られない
○:150ショット加工可能であった。加工後パンチ表面に被膜の剥がれが見られた
×:150ショット加工できず、途中でパンチのかじりが発生した
前記(試験片4)のダイスの試験片を用い、以下の試験により、硬質被膜における金型加工性能を評価した。
試験方法は、皮膜を被覆したダイスの性能をアルミニウム絞り加工により形成できた製品の数により評価した。被加工材料がA1100アルミニウム板厚さ0.4T、切削油は強粘性プレス油を使用し、加工速度は30spmで加工した。加工数として30,000個を定数とした。
前記ねじパンチを用い、以下の試験により、皿頭部分に+形の孔が未形成であるねじに対して孔を形成し、寿命までの本数を確認した。
試験方法は、中島田製ダブルヘッダー(NS41)により回転数160rpm、ねじ線材SUSXM7、線径3.45mm、潤滑油ナニワルーブにて食い付き限界寿命を評価した。
実施例1の硬質被膜の形成において、バイアス電圧を100Vに変更した以外は、実施例1と同様の方法によりねじパンチおよび(試験片1〜4)の膜特性評価用試験片を作製した。
実施例1の硬質被膜の形成において、バイアス電圧を200Vに変更した以外は、実施例1と同様の方法によりねじパンチおよび(試験片1〜4)の膜特性評価用試験片を作製した。
実施例2の硬質被膜の形成において、バイアス電圧を100Vに変更した以外は、実施例2と同様の方法によりねじパンチおよび(試験片1〜4)の膜特性評価用試験片を作製した。
実施例2の硬質被膜の形成において、バイアス電圧を200Vに変更した以外は、実施例2と同様の方法によりねじパンチおよび(試験片1〜4)の膜特性評価用試験片を作製した。
硬質被膜の形成を以下の通り変更した以外は、実施例1と同様の方法によりねじパンチおよび(試験片1〜4)の膜特性評価用試験片を作製した。
・硬質被膜(積層膜)の形成
実施例2の硬質被膜と実施例5の硬質被膜を交互に5回積層した後、最表層に実施例1の硬質被膜を被覆した。得られた被膜の膜厚は全体で2.6μmであった。
2 成形部
3 突出部
4 本体
5 孔
6 頭部
Claims (6)
- 表面の少なくとも一部が金属部材からなる母材と、
前記母材の前記金属部材からなる表面の直上に配置されるか又は前記金属部材の表面が窒化された窒化層の直上に配置され、PVD膜であって、かつ最表面を構成し下記に示す膜組成を有する単層の膜、又は最表面を構成する層を含む複数の層が積層された積層膜であって前記複数の層の全てが下記に示す膜組成を有する積層膜である硬質被膜と、
を有する金属製品。
(膜組成)Ti原子、Si原子、C原子、N原子を含有し、前記Ti原子とSi原子との合計量に対する前記Si原子の比が10at%以上25at%以下且つ前記C原子とN原子との合計量に対する前記C原子の比が25at%以上55at%以下であり、構成する全原子に占める前記Si原子の割合が5at%以上7.5at%以下である - 前記硬質被膜の、ナノインデンテーション法による硬度が15GPa以上35GPa以下である請求項1に記載の金属製品。
- 前記硬質被膜が、単層の膜である請求項1または請求項2に記載の金属製品。
- 前記硬質被膜が、硬度が異なる複数の層の積層膜である請求項1または請求項2に記載の金属製品。
- 前記積層膜は、最表面を構成する最表層の硬度が該最表層と接する下層の硬度よりも低い請求項4に記載の金属製品。
- 前記硬質被膜の表面の、下記測定条件でのボールオンディスク法による摩擦係数が0.1以上0.4以下である請求項1〜請求項5の何れか一項に記載の金属製品。
[測定条件]
・相手材:φ6mmのSUS304ボール
・荷重:5N
・回転速度:10cm/sec
・回転半径:3mm
・摩擦距離:1000m
・環境:無潤滑環境
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