JP6094891B2 - ガラス基板生産管理システム及びガラス基板生産管理方法 - Google Patents

ガラス基板生産管理システム及びガラス基板生産管理方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6094891B2
JP6094891B2 JP2013175391A JP2013175391A JP6094891B2 JP 6094891 B2 JP6094891 B2 JP 6094891B2 JP 2013175391 A JP2013175391 A JP 2013175391A JP 2013175391 A JP2013175391 A JP 2013175391A JP 6094891 B2 JP6094891 B2 JP 6094891B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass substrate
defects
sided
sided glass
defect
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2013175391A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2015044697A (ja
Inventor
慎司 大東
慎司 大東
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Electric Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Electric Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Glass Co Ltd filed Critical Nippon Electric Glass Co Ltd
Priority to JP2013175391A priority Critical patent/JP6094891B2/ja
Priority to TW103128629A priority patent/TW201518227A/zh
Priority to US14/914,058 priority patent/US20160207822A1/en
Priority to CN201480038073.8A priority patent/CN105358495B/zh
Priority to KR1020157030959A priority patent/KR20160048030A/ko
Priority to PCT/JP2014/071722 priority patent/WO2015029847A1/ja
Publication of JP2015044697A publication Critical patent/JP2015044697A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6094891B2 publication Critical patent/JP6094891B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B33/00Severing cooled glass
    • C03B33/02Cutting or splitting sheet glass or ribbons; Apparatus or machines therefor
    • C03B33/023Cutting or splitting sheet glass or ribbons; Apparatus or machines therefor the sheet or ribbon being in a horizontal position
    • C03B33/037Controlling or regulating
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B19/00Programme-control systems
    • G05B19/02Programme-control systems electric
    • G05B19/418Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM]
    • G05B19/41875Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS] or computer integrated manufacturing [CIM] characterised by quality surveillance of production
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • G01N2021/8854Grading and classifying of flaws
    • G01N2021/8858Flaw counting
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/958Inspecting transparent materials or objects, e.g. windscreens
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00Program-control systems
    • G05B2219/30Nc systems
    • G05B2219/32Operator till task planning
    • G05B2219/32206Selection from a lot of workpieces to be inspected
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P40/00Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/50Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
    • Y02P40/57Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P90/00Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
    • Y02P90/02Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
  • General Factory Administration (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Description

本発明は、ガラス基板生産管理システムに係り、詳しくは、上流側工程で作製された複数の仮想単面を有する多面採りガラス基板を、下流側工程で製品関連処理を施して複数の単面ガラス板に分割する手順を含むガラス基板生産管理システムに関する。
周知のように、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ(サーフェイスエミッションディスプレイを含む)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、及び有機ELディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ(以下、FPDともいう)に用いられるガラス基板、有機EL照明に用いられるガラス基板、タッチパネルの構成要素である強化ガラス等に用いられるガラス基板、太陽電池のパネル、或いはその他の電子デバイスに用いられるガラス基板は、生産性の向上等を目的として、いわゆる多面採りガラス基板としての使用が推進されているのが実情である。
この種の多面採りガラス基板においては、最も上流側の処理として、マザーガラスを一枚ずつ順次作製することが行われ、その下流側の処理としては、マザーガラスを切断して複数の単面ガラス板に分割したり、或いはマザーガラスの表面に例えば複数のディスプレイ画面に対応する膜や回路パターンの形成等の製品関連処理を施した後に複数の単面ガラス板に分割することが行われる。
その場合、従来においては、多面採りガラス基板における複数の仮想単面の如何なる位置にも欠陥が存在しないことが要求されていたことから、多面採りガラス基板の大型化に伴って、製品歩留まりが大きく低下し、コストの高騰を余儀なくされるという問題を有していた。
このような問題に対処するため、例えば特許文献1によれば、特定の箇所に欠陥を有する多面採りガラス基板については、良品として取り扱うことにより、上流側工程から下流側工程に至る過程での無駄を省略することが開示されている。
具体的には、例えば仮想単面が4面存在する場合に、そのうちの1面の欠陥のために4面分の多面採りガラス基板全部が無駄にならないように、個々の多面採りガラス基板毎の欠陥の位置、種類及び大きさなどの欠陥情報を、上流側工程の処理者から下流側工程の処理者に伝達し、悪質な欠陥が存在している仮想単面を、切断後に不良の単面ガラス板として廃棄している。
特許第4347067号公報
しかしながら、上述の特許文献1に開示された手法は、欠陥情報を上流側工程の処理者から下流側工程の処理者に伝達するための方法の検討や設備が必要になると共に、それを行うことによる在庫管理の複雑化や製品の生産計画立案の煩雑化が顕著となり、現実の運用が困難になるという問題を有している。
加えて、同文献に開示された手法は、単に上流側工程から下流側工程に伝達された欠陥情報に基づいて、下流側工程で製品関連処理が施された単面ガラス板を廃棄しているに過ぎないため、下流側工程での処理者が著しい損失を受けているか否かが判明せず、結果的には、下流側工程の処理者が極めて大きな損失を受けるという問題をも有している。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、多面採りガラス基板の個々の欠陥情報を上流側工程から下流側工程に伝達することを不要とし、且つ欠陥の検査を簡略化して作業能率の向上を図ると共に、上流側工程の処理者と下流側工程の処理者とのトータル的な損益をも考慮したガラス基板生産管理システムを提供することを課題とする。
上記課題を解決するために創案された本発明(第1の技術的手段)は、上流側工程で作製された多面採りガラス基板を、下流側工程で製品関連処理を施して複数の単面ガラス板に分割する手順を含むガラス基板生産管理システムであって、上流側工程で10枚以上の一ロットの多面採りガラス基板から10枚以上が抜き取られた欠陥検査の欠陥データに基づいて、その抜き取られた多面採りガラス基板に存在している欠陥の総個数を検出し、その欠陥の総個数を検査対象とした総面積で除したロット平均欠陥密度を算出する第1検査手段と、上流側工程における前記一ロットの多面採りガラス基板について、欠陥が存在している多面採りガラス基板を予備的に良品とみなして下流側工程に送ることによる上流側工程の処理者が受ける利益と、それらの予備的に良品とみなされた多面採りガラス基板に製品関連処理を施して複数の単面ガラス板に分割した場合に前記欠陥の存在に起因して不良品が発生したことによる下流側工程の処理者が受ける損失とを、前記ロット平均欠陥密度を使用して、1枚の前記多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の個数を異ならせて複数回に亘って試算し、それらの試算結果に基づいて、前記利益が前記損失を上回っている場合における1枚の前記多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の適切個数である欠陥許容個数を算出する試算手段と、上流側工程における前記一ロットの多面採りガラス基板の全数を欠陥検査して1枚の前記多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の実個数を計数する第2検査手段と、1枚の前記多面採りガラス基板に存在する欠陥の実個数が前記試算手段で算出された欠陥許容個数の範囲内にある多面採りガラス基板を、欠陥が全く存在していない多面採りガラス基板に加えて下流側工程に送る良品とし、その他の多面採りガラス基板を、上流側工程で廃棄する不良品とする良否判定手段と、を備えたことに特徴づけられる。
ここで、上記の試算手段における「上流側工程の処理者が受ける利益」とは、欠陥が一つでも存在する多面採りガラス基板を廃棄していた従来システムとの比較において取得できる利益である。また、上記の試算手段における「下流側工程の処理者が受ける損失」とは、従来システムであれば、多面採りガラス基板の全面に上流側工程に起因する欠陥が存在していなかったことから、それらに製品関連処理を施して分割して得られた全ての単面ガラス板が良品であった事との比較において生じる損失である。なお、「製品関連処理」とは、多面採りガラス基板の表面に例えばディスプレイ画面に対応する膜や回路パターン等を形成する処理のことである。
このような構成によれば、上流側工程の処理者が成形装置等を使用して矩形等の多面採りガラス基板を順次製作し、10枚以上の一ロットの多面採りガラス基振の製作が完了した時点または製作していく過程において、第1の検査手段が、欠陥検査の欠陥データに基づいて、各多面採りガラスの全面に存在している欠陥の個数を計数し、それらの総個数を、検査した総面積で除した一群の多面採りガラス基板のロット平均欠陥密度を算出する。次に、試算手段が、1枚の多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の個数を順次異ならせて予備的に複数回に亘って、上流側工程の処理者が受ける利益と、下流側工程の処理者が受ける損失とを試算して、上記の利益が上記の損失を上回っている場合の1枚の多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の適切個数である欠陥許容個数を算出する。この算出に際しては、上流側工程での多面採りガラス基板の一枚あたりの単価と、ロット平均欠陥密度から計算され且つ1枚の多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の個数が欠陥許容個数にある多面採りガラス基板の収率(良品率)とから、上流側工程の処理者が受ける利益が判明する。また、下流側工程で多面採りガラス基板に製品関連処理を施して複数の単面ガラス板に分割した場合の単面ガラス板の一枚あたりの単価と、ロット平均欠陥密度から計算され且つ前記欠陥が存在している仮想単面を含む多面採りガラス基板が欠陥許容個数に対応して下流側工程にまで送られた結果、下流側工程での分割後の単面ガラス板に欠陥が含まれて不良になる率とから、下流側工程の処理者が受ける損失が判明する。この後においては、第2の検査手段が、前記一ロットの多面採りガラス基板の全数について、1枚の多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の実個数を計数した後、良否判定手段が、実際に1枚の多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の実個数が、試算手段で算出された欠陥許容個数である場合には、全く欠陥が存在していない多面採りガラス基板と共に、良品とみなして下流側工程に送り、その他の多面採りガラス基板は不良品として上流側工程で廃棄する。この結果、上流側工程の処理者が受ける利益と下琉側工程の処理者が受ける損失とは、トータルで利益となるため、この利益を両者で分配すれば、両者共に利益をあげることができる。以上のような動作が行われることにより、下流側工程とは縁が切れた状態で、上流側工程でのみ、多面採りガラス基板の良否の判断を行うことが可能となり、これに伴って、上流側工程の処理者から下流側工程の処理者に欠陥情報を伝達する必要がなくなるため、設備面、在庫管理面、及び生産計画立案面等で有利となり、現実の運用を簡単に行うことが可能となる。しかも、上流側工程での入念な欠陥の検査を行う必要がなくなり、欠陥の検査作業が極めて簡素化されて、作業能率の向上が図られる。加えて、上流側工程の処理者と下流側工程の処理者とのトータル的な損益を考慮して、多面採りガラス基板が良品か不良品かを決定する構成であるため、上流側工程の処理者のみまたは下流倒工程の処理者のみが不当な損失を受ける等の弊害も生じなくなる。
また、上記課題を解決するために創案された本発明(第2の技術的手段)は、上流側工程で作製された多面採りガラス基板を、下流側工程で製品関連処理を施して複数の単面ガラス板に分割する手順を含むガラス基板生産管理システムであって、上流側工程で10枚以上の一ロットの多面採りガラス基板から10枚以上が抜き取られた欠陥検査の欠陥データに基づいて、その抜き取られた多面採りガラス基板に存在している欠陥の総個数を検出し、その欠陥の総個数を検査対象とした総面積で除したロット平均欠陥密度を算出すると共に、前記一ロットの多面採りガラス基板の全数を欠陥検査して1面の前記多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の実個数を計数する検査手段と、上流側工程における前記一ロットの多面採りガラス基板について、欠陥が存在している多面採りガラス基板を予備的に良品とみなして下流側工程に送ることによる上流側工程の処理者が受ける利益と、それらの予備的に良品とみなされた多面採りガラス基板に製品関連処理を施して複数の単面ガラス板に分割した場合に前記欠陥の存在に起因して不良品が発生したことによる下流側工程の処理者が受ける損失とを、前記ロット平均欠陥密度を使用して、1枚の多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の個数を異ならせて複数回に亘って試算し、それらの試算結果に基づいて、前記利益が前記損失を上回っている場合における1枚の多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の適切個数である欠陥許容個数を算出する試算手段と、前記検査手段により計数された1枚の多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の実個数が、前記試算手段で算出された欠陥許容個数の範囲内にある多面採りガラス基板を、欠陥が全く存在していない多面採りガラス基板に加えて下流側工程に送る良品とし、その他の多面採りガラス基板を、上流側工程で廃棄する不良品とする良否判定手段と、を備えたことに特徴づけられる。
この第2の技術的手段が、上述の第1の技術的手段と相違するところは、単一の検査手段で、ロット平均欠陥密度の算出と、一ロットの多面採りガラス基板の全数についての欠陥が存在している1枚の多面採りガラス基板に存在する欠陥の実個数の計数とを同時期に行うようにした点である。その他の構成は同一であるので、その動作或いは作用効果の説明は、ここでは省略する。
上記第1、第2の技術的手段において、下流側工程で製品関連処理が施される多面採りガラス基板の面を、欠陥が製品関連処理に対して有害となる有害領域と、欠陥が製品関連処理に対して無害となる無害領域とに区分して、無害領域の面積を多面採りガラス基板の面積で除した値を無害領域救済率とし、この無害領域救済率を、前記試算手段で行われる計算に使用することができる。
このようにすれば、仮想単面に欠陥が存在していても、その欠陥が無害領域にあれば、下流側工程で不良とならないため、実情に合致することになって、試算手段での計算精度が高くなる。
以上の構成において、前記上流側工程の処理者が、フラットパネルディスプレイ用の多面採りガラス基板としてのマザーガラスの製造者であり、前記下流側工程の処理者が、フラットパネルディスプレイのパネルの中間や最終の製造者であってもよい。
このようにすれば、上流側工程の処理者がダウンドロー法やフロート法等により矩形のマザーガラスを順次製作し、既述の動作を行えば、最終的に良品として取り扱うマザーガラスについての欠陥の個数を推定できることになる。そして、パネルの製造者は、通常の検査を行って不良品を排除することにより、マザーガラスの製造者とパネルの製造者とについては、両者の損益をトータルした場合に利得が出ることになる。
また、前記上流側工程の処理者が、フラットパネルディスプレイ用の多面採りガラス基板としてのマザーガラスの製造者であり、前記下流側工程の処理者が、フラットパネルディスプレイのマザーガラスから切断して単面ガラス板に加工する製造者であってもよい。
このようにした場合であっても、直上述の場合と同様の利点を得ることができる。
上記課題を解決するために創案された本発明(第3の技術的手段)は、上流側工程で作製された多面採りガラス基板を、下流側工程で製品関連処理を施して複数の単面ガラス板に分割する手順を含むガラス基板生産管理方法であって、上流側工程で10枚以上の一ロットの多面採りガラス基板から10枚以上が抜き取られた欠陥検査の欠陥データに基づいて、その抜き取られた多面採りガラス基板に存在している欠陥の総個数を検出し、その欠陥の総個数を検査対象とした総面積で除したロット平均欠陥密度を算出する第1検査工程と、上流側工程における前記一ロットの多面採りガラス基板について、欠陥が存在している多面採りガラス基板を予備的に良品とみなして下流側工程に送ることによる上流側工程の処理者が受ける利益と、それらの予備的に良品とみなされた多面採りガラス基板に製品関連処理を施して複数の単面ガラス板に分割した場合に前記欠陥の存在に起因して不良品が発生したことによる下流側工程の処理者が受ける損失とを、前記ロット平均欠陥密度を使用して、1枚の多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の個数を異ならせて複数回に亘って試算し、それらの試算結果に基づいて、前記利益が前記損失を上回っている場合における1枚の多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の適切個数である欠陥許容個数を算出する試算工程と、上流側工程における前記一ロットの多面採りガラス基板の全数を欠陥検査して1枚の多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の実個数を計数する第2検査工程と、1枚の多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の実個数が前記試算手段で算出された欠陥許容個数の範囲内にある多面採りガラス基板を、欠陥が全く存在していない多面採りガラス基板に加えて下流側工程に送る良品とし、その他の多面採りガラス基板を、上流側工程で廃棄する不良品とする良否判定工程と、を備えたことに特徴づけられる。
この第3の技術的手段は、ガラス基板生産管理方法に係るものであるが、実質的な動作或いは作用効果は、上述の第1の技術的手段に係るガラス基板生産管理システムと同一であるので、ここではその説明を省略する。
上記課題を解決するために創案された発明(第4の技術的手段)は、上流側工程で作製された多面採りガラス基板を、下流側工程で製品関連処理を施して複数の単面ガラス板に分割する手順を含むガラス基板生産管理方法であって、上流側工程で10枚以上の一ロットの多面採りガラス基板から10枚以上が抜き取られた欠陥検査の欠陥データに基づいて、その抜き取られた多面採りガラス基板に存在している欠陥の総個数を検出し、その欠陥の総個数を検査対象とした総面積で除したロット平均欠陥密度を算出すると共に、前記一ロットの多面採りガラス基板の全数を欠陥検査して1枚の前記多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の実個数を計数する検査工程と、上流側工程における前記一ロットの多面採りガラス基板について、欠陥が存在している多面採りガラス基板を予備的に良品とみなして下流側工程に送ることによる上流側工程の処理者が受ける利益と、それらの予備的に良品とみなされた多面採りガラス基板に製品関連処理を施して複数の単面ガラス板に分割した場合に前記欠陥の存在に起因して不良品が発生したことによる下流側工程の処理者が受ける損失とを、前記ロット平均欠陥密度を使用して、1枚の前記多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の実個数を異ならせて複数回に亘って試算し、それらの試算結果に基づいて、前記利益が前記損失を上回っている場合における1枚の前記多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の欠陥許容個数を算出する試算工程と、前記検査工程で計数された1枚の前記多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の実個数が、前記試算手段で算出された欠陥許容個数の範囲内にある多面採りガラス基板を、欠陥が全く存在していない多面採りガラス基板に加えて下流側工程に送る良品とし、その他の多面採りガラス基板を、上流側工程で廃棄する不良品とする良否判定工程と、を備えたことに特徴づけられる。
この第4の技術的手段は、ガラス基板生産管理方法に係るものであるが、実質的な動作或いは作用効果は、上述の第2の技術的手段に係るガラス基板生産管理システムと同一であるので、ここではその説明を省略する。
この場合、上述の第3、第4の技術的手段においても、下流側工程で製品関連処理が施される多面採りガラス基板の面を、欠陥が製品関連処理に対して有害となる有害領域と、欠陥が製品関連処理に対して無害となる無害領域とに区分して、無害領域の面積を多面採りガラス基板の面積で除した値を無害領域救済率とし、この無害領域救済率を、前記試算手段(試算工程)で行われる計算に使用することができ、また、前記上流側工程の処理者が、フラットパネルディスプレイ用の多面採りガラス基板としてのマザーガラスの製造者であり、前記下流側工程の処理者が、フラットパネルディスプレイのパネルの中間や最終の製造者であってもよく、もしくは、前記上流側工程の処理者が、フラットパネルディスプレイ用の多面採りガラス基板としてのマザーガラスの製造者であり、前記下流側工程の処理者が、フラットパネルディスプレイのマザーガラスから切断して単面ガラス板に加工する製造者であってもよい。
以上のように本発明によれば、多面採りガラス基板の欠陥情報を上流側工程から下流側工程に伝達することが不要となり、且つ欠陥の検査が簡略化されて作業能率の向上が図られると共に、上流側工程の処理者と下流側工程の処理者のトータル的な損益をも考慮したガラス基板生産管理システムが実現する。
本発明の実施形態に係るガラス基板生産管理システムの主たる構成を示す概略構成図である。 本発明の実施形態に係るガラス基板生産管理システムの手順を示すフローチャートである。 図3(a)、(b)、(c)は、本発明の実施形態に係るガラス基板生産管理システムを使用して、現実に単面ガラス板を製作する過程を示す概略図である。 図4(a)、(b)、(c)は、本発明の実施形態に係るガラス基板生産管理システムを使用して、現実に単面ガラス板を製作する過程を示す概略図である。 図5(a)、(b)、(c)は、本発明の実施形態に係るガラス基板生産管理システムを使用して、現実に単面ガラス板を製作する過程を示す概略図である。 図6(a)、(b)、(c)は、本発明の実施形態に係るガラス基板生産管理システムを使用して、現実に単面ガラス板を製作する過程を示す概略図である。 図7(a)、(b)、(c)は、本発明の実施形態に係るガラス基板生産管理システムを使用して、現実に単面ガラス板を製作する過程を示す概略図である。 本発明の実施形態に係るガラス基板生産管理システムで使用する無害領域救済率を説明するための概略平面図である。 本発明の他の実施形態に係るガラス基板生産管理システムの主たる構成を示す概略構成図である。 本発明の実施形態に係るガラス基板生産管理方法の主たる構成を示す概略構成図である。 本発明の他の実施形態に係るガラス基板生産管理方法の主たる構成を示す概略構成図である。
以下、本発明の実施形態に係るガラス基板の製造方法について図面を参照しつつ説明する。
図1は、本発明の実施形態に係るガラス基板生産管理システム(以下、単に生産管理システムという)の主たる構成を示す概略構成図であり、図2は、その生産管理システムの手順を示すフローチャートであって、図3〜図7は、その生産管理システムの実施状況を示す概略図である。
先ず、便宜上、図3に基づいて、当該生産管理システムの初期状態における主要部の構成を説明する。図3(a)に示すように、多面採りガラス基板1は矩形状をなし、4辺の縁部を除外した領域が、8個の仮想単面2に仮想区画されている。この多面採りガラス基板1は、上流側工程で、ダウンドロー法やフロート法で成形されて、所定の大きさ(例えば横寸法が1400〜2600mm、縦寸法が1600〜2800mm)に切断されている。図3(b)は、下流側工程で、多面採りガラス基板1の全ての仮想単面2に、膜や回路パターンの形成等の処理が施された状態を示し、図3(c)は、当該下流側工程で、処理済みの各仮想単面2が、各単面ガラス板3と分割された状態を示している。
次に、本実施形態に係る生産管理システムの構成を図1を参照しつつ説明する。この生産管理システムSは、上流側工程で10枚以上の一ロットの多面採りガラス基板1から抜き取りにより行われる第1検査手段Aと、この第1検査手段Aによる検出結果に基づいて行われる試算手段Bと、一のロットの全数に対して行われる第2検査手段Cと、試算手段Bの算出結果と第2検査手段の検出結果とに基づいて行われる良否判定手段Dとを有する。そして、この良否判定手段Dの結果は、下流側工程に反映される。従って、一ロットの多面採りガラス基板1についての各処理は、全てが上流側工程で行われる。
上記第1検査手段Aは、一ロットの多面採りガラス基板1から10枚以上が抜き取られた欠陥検査の欠陥データに基づいて、その抜き取られた多面採りガラス基板1に存在している欠陥の総個数を検出し、その欠陥の総個数を、検査対象となった総面積で除したロット平均欠陥密度を算出するものである。ここでいう欠陥とは、下流側工程において問題となる程度の欠陥を意味している。
上記試算手段Bは、先ず、一ロットの多面採りガラス基板1について、欠陥が存在している多面採りガラス基板1を予備的に良品とみなして下流側工程に送ることによる上流側工程の処理者が受ける利益を求める。この算出は、上流側工程での多面採りガラス基板の一枚あたりの単価と、ロット平均欠陥密度から計算され且つ1枚の多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の個数が仮の欠陥許容個数にある多面採りガラス基板の収率(良品率)とから求められる。次いで、それらの予備的に良品とみなされた多面採りガラス基板1に製品関連処理(多面採りガラス基板1の表面に例えばディスプレイ画面に対応する膜や回路パターン等を形成する処理)を施して複数の単面ガラス板3に分割した場合に下流側工程の処理者が受ける損失を求める。この算出は、下流側工程で多面採りガラス基板1に製品関連処理を施して複数の単面ガラス板3に分割した場合の単面ガラス板の一枚あたりの単価と、ロット平均欠陥密度から計算され且つ上記の仮の欠陥許容個数に対応する欠陥が下流側工程にまで送られて単面ガラス板3に含まれて不良になる収率とから求められる。さらに、試算手段Bは、上記の1枚の多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の個数を異ならせて、上述の利益と上述の損失とを求めることを複数回に亘って試算し、それらの試算結果に基づいて、上述の利益が上述の損失を上回っている場合(より好ましくはその利益が試算範囲内で最大である場合)における1枚の多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の欠陥許容個数を算出する。
上記第2検査手段Cは、上記一ロットの多面採りガラス基板1の全数を欠陥検査して、多面採りガラス基板1の各仮想単面2を区画している仮想線と照合しながら、1枚の多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の欠陥許容個数を実測により計数する。
上記良否判定手段Dは、一ロットの多面採りガラス基板1の中から、第2検査手段Cで実測された欠陥が存在している1枚の多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の実個数が、上記試算手段Bで算出された1枚の多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の真の許容個数である多面採りガラス基板1を、欠陥が全く存在していない多面採りガラス基板1に加えて下流側工程に送る良品とする。そして、その他の多面採りガラス基板1を、上流側工程で廃棄する不良品とする。
以上の手順を、図2に示すフローチャートのステップS1〜S7を参照して、詳しく説明する。このフローチャートは、上流側工程での処理の手順のみを示している。
ステップS1は、第1検出手段Aに相当し、ここでは、ダウンドロー法やフロート法等で成形されて所定の加工が施された10枚以上の一ロットの多面採りガラス基板1を対象として、その中から10枚以上を抜き取った多面採りガラス基板1について、欠陥の検査を行い欠陥の総個数を計数し、それを検査総面積で除したロット平均欠陥密度を算出する。第1検査手段A(第2検査手段Cも同様)では、光学式の自動欠陥検出装置が使用されるが、本発明においては、多面採りガラス基板1の各仮想単面2を区画している仮想線が予め判明している必要は無い。
ステップS2では、検査が行われた多面採りガラス基板1を、下流側工程で良品としてみなすと仮定した場合における当該1枚の多面採りガラス基板1に存在する前記欠陥の個数iを0個から1個ずつ順に繰り上げて決定していく。そして、ステップS3では、順次繰り上がっていくiの全ての場合について、それぞれ、上流側工程の処理者が受ける累積利益と、下流側工程の処理者が受ける累積損失とを比較する。ここで言う累積とは、iが0個から1個ずつ順に繰り上がることによって算出される利益の累積値及び損失の累積値を表す。利益の算出は、上流側工程での多面採りガラス基板の一枚あたりの単価と、ロット平均欠陥密度から計算され且つ1枚の多面採りガラス基板1に存在する前記欠陥の個数が欠陥許容個数にある多面採りガラス基板1の収率とから求められる。損失の算出は、下流側工程で多面採りガラス基板に製品関連処理を施して複数の単面ガラス板に分割した場合の単面ガラス板3の一枚あたりの単価と、ロット平均欠陥密度から計算され且つ上記の欠陥許容個数に対応する欠陥が下流側工程にまで送られて単面ガラス板3に含まれて不良になる収率とから求められる。それぞれにおいて、ロット平均欠陥密度から収率を求めるには二項累積分布関数を用いた式で確率的に求めるとよい。
ステップS4では、累積利益が累積損失を上回っている場合に、ステップS5に進み、上回っていない場合にはステップS7に進む。ステップS5では、iが0個から1個ずつ順に繰り上がる一連の試算の中で今までの試算結果に比べて最大の累積利益である場合にはステップS6へ進み、今までの試算結果に比べて最大の累積利益でない場合はステップS8に進む。ステップS6では、その時のiの値を仮の欠陥許容個数(1枚の多面採りガラス基板に存在する欠陥の適切個数)としてステップS7に進む。ステップS7で上流側工程の歩留まりが100%以上(100%に到達している)かを判断して、100%以上ならステップS8に進み、100%未満ならばステップS2に戻る。ステップS8では、その時の仮の許容面数を最終的な許容面数(真の許容面数)としステップS9に移る。
ステップS9は、第2検査手段Cに相当するが、ここでは、一ロットの多面採りガラス基板1の全数について、1枚の多面採りガラス基板1に存在する前記欠陥の実個数を計数して、ステップS10へ進む。ステップS10は、良否判定手段Dに相当するが、ここでは、1枚の多面採りガラス基板1に存在する前記欠陥の実個数と真の欠陥許容個数とから、良品と不良品との選別を行う。
以上の動作が完了することにより、1枚の多面採りガラス基板1に存在する前記欠陥の実個数が1個のみの場合を良品としてみなすか、あるいはそれが2個または3個などの場合をも良品としてみなすかが判明して、その結果に基づいて全数検査選別される。
更に詳述すると、上述の利益と損失は、図3(a)、(b)、(c)に示すように、欠陥が全く存在しない多面採りガラス基板1に、製品関連処理を施した後、8個の単面ガラス板3に分割した場合には、上流側及び下流側共に欠陥に起因する利益及び損失が存在しないから、本発明における利益及び損失は零である。一方、1枚の多面採りガラス基板1に存在する欠陥が1個でもあれば不良品として廃棄する場合には、その不良品とされた全ての多面採りガラス基板1の価格相当分が損失となるが、従来システムでは、それを損失としていたため、従来システムとの比較を行う本発明では、このような場合を損失が零であるとして利益が決まる。
そして、一例として、図4(a)に示す1枚の多面採りガラス基板1には、1個の仮想単面2に1個の欠陥4が存在し、図5(a)に示す1枚の多面採りガラス基板1には、2個の仮想単面2にそれぞれ1個ずつの欠陥4が存在し、図6(a)に示す1枚の多面採りガラス基板1には、3個の仮想単面2にそれぞれ1個ずつの欠陥4が存在し、図7(a)に示す1枚の多面採りガラス基板1には、4個の仮想単面2にそれぞれ1個ずつの欠陥4が存在しているとする。
この場合に、第1検査手段Aでは、単に欠陥4の総個数(本例では10個)だけを検出し、この総個数を、4枚分の多面採りガラス基板1の総面積で除算して、ロット平均欠陥密度を算出する。そして、このロット平均欠陥密度に基づいて、試算手段Bで試算をしていく過程においては、図4(a)で示すように、製品関連処理が施される前段階で、その多面採りガラス基板1を良品とみなすことにより得られる利益と、図4(b)に示すように、製品関連処理を施した後に、図4(c)に示すように、1個の単面ガラス板3を廃棄することにより発生する損失とを比較し、利益が損失を上回っている場合には、この多面採りガラス基板1は良品として上流側工程から下流側工程に送られる。同様に、図5、図6、図7についても、製品関連処理が施される前段階の多面採りガラス基板1を良品とみなすことにより得られる利益と、製造関連処理を施した後に該当個数の単面ガラス板3を廃棄することにより発生する損失とを比較し、利益が損失を上回っているか否かを判定する。そして、図4、図5、図6に示すものについては、利益が損失を上回っているが、図7に示すものについては、利益が損失を上回っていなかったとすると、1枚の多面採りガラス基板1に存在する欠陥の個数が、1個、2個、3個の場合には、製品関連処理が施される前段階の多面採りガラス基板1が、上流側工程から下流側工程に送られるが、当該個数が4個以上の場合には、製品関連処理が施される前段階の多面採りガラス基板1が、上流側工程で廃棄処分される。
上述のロット平均欠陥密度から収率を求めるには二項累積分布関数を用いた式で確率的に求めるとよい。それを含む実施形態の計算について以下説明をする。計算には二項累積分布関数を含む下記の[数1]〜[数5]の数式を用いる。その数式に使用されるパラメータの定義は下記の表1に掲載されている。また、ここでの実施形態において、これらのパラメータのうち前提条件になるパラメータについては下記の表2に掲載する。そして、それらの入力による計算結果を下記の表3に示す。
なお、この計算の中で用いられている無害領域救済率(α)とは、例えば下流工程でガラス基板に形成される回路パターン等の設計情報から前記上流工程で不良となる欠陥が存在しても回路パターンの検査上では不良にならないような複雑に入り組んだ回路パターンに沿った無害領域に対して、回路パターンの設計情報から面積的な割合を確率として置き換えたものである。
上記の表3によれば、αが0%で且つCbsが3000円の場合には、8面採りのガラス基板であって、欠陥許容個数が2個である時に、累積利益が最大(270円)となっているので、一ロットの多面採りガラス基板1においては、1枚の多面採りガラス基板に存在する欠陥の実個数が1個と2個のものが、欠陥の全く存在していないものと共に上流側工程から下流側工程に送られる。また、αが0%で且つCbsが6000円の場合と、αが40%で且つCbsが10000円の場合とは、両者共に、8面採りのガラス基板であって、欠陥許容個数が1個仮想単面が8個の中で許容面数が1個である時に、累積利益が最大(96円)となっているので、一ロットの多面採りガラス基板1においては、1枚の多面採りガラス基板に存在する欠陥の実個数が1個のものが、欠陥の全く存在していないものと共に上流側工程から下流側工程に送られる。なお、αが0%で且つCbsが10000円の場合には、累積利益が全て零以下であるため、一ロットの多面採りガラス基板1においては、欠陥の全く存在していないもののみが上流側工程から下流側工程に送られる。
ここで、無害領域救済率(α)について詳述する。図8に示すように、多面採りガラス基板1に、直線状の回路パターンPa(粗いクロスハッチングが付されている領域)が複数並列に配列されることが予定されている場合に、回路パターンPaに欠陥が存在したり、回路パターンPaが近接している領域Ba(細かいクロスハッチングが付されている領域)に欠陥が存在したりすると、断線や短絡などが生じ得る。そこで、このPaとBaとからなる領域を、欠陥の存在が許されない有害領域とし、その他の領域Ca(平行斜線からなるハッチングが付された領域)を無害領域とする。そして、Caの面積を、多面採りガラス基板1の全領域(有効面領域)の面積で除算した値を、無害領域救済率(α)とする。ここでの実施形態の計算には、この概念を用いることが好ましい。しかしながら、αを特定できない場合はα=0を数式に代入して計算すればよい。
以上の実施形態に係る生産管理システムSは、上流側工程でのみ、多面採りガラス基板1の良否の判断を行うことができるため、上流側工程の処理者から下流側工程の処理者に欠陥情報を伝達する必要がなくなり、設備面、在庫管理面、及び生産計画立案面等で有利となって、現実の運用を簡単に行うことが可能となる。さらに、欠陥検査では、ロット平均欠陥密度を求めるための欠陥の総個数と、1枚の多面採りガラス基板1に存在する欠陥4の個数を検出するだけで良く、上流側工程での入念な欠陥の検査を行う必要がなくなり、欠陥の検査作業が極めて簡素化されて、作業能率の向上が図られる。加えて、上流側工程の処理者と下流側工程の処理者とのトータル的な損益を考慮して、多面採りガラス基板1が良品か不良品かを決定する構成であるため、上流側工程の処理者のみまたは下流側工程の処理者のみが不当な損失を受ける等の弊害も生じなくなる。
なお、上流側工程の処理者は、フラットパネルディスプレイ用の多面採りガラス基板としてのマザーガラスの製造者であり、下流側工程の処理者は、フラットパネルディスプレイのパネルの中間又は最終製造者であってもよく、或いは、上流側工程の処理者が、フラットパネルディスプレイ用の多面採りガラス基板としてのマザーガラスの製造者であり、下流側工程の処理者が、フラットパネルディスプレイのマザーガラスから切断して単面ガラス板に加工する製造者であってもよい。
なお、以上の実施形態における第1検出手段A、試算手段B,第2検査手段C、及び良品判定手段Dについては、ほぼ同時に連続的に行ってもよい。すなわち、連続式に被検査物が流れる光学式の自動欠陥検出装置が使用され、その検査処理においては、図9に示すように単一の検査手段A1で両方の目的がかなうような仕様で検査をしながら、その結果をすぐにコンピュータにて試算手段B1の処理をして、その結果による良品判定手段C1をすぐに行って、最後に被検査物を選別するような工程を組み上げてもよい。この場合には、検出手段A1でのロット平均欠陥密度の検出は、被検査物の連続する10枚以上の投入に応じた移動平均を使用すればよい。
また、1枚の多面採りガラス基板内に構成される複数の仮想単面は、原則は同一サイズであるが、それぞれが異なるサイズであってもよい。
なお、以上の実施形態では、ガラス基板生産管理システムSとして本発明を適用したが、図10に示すように、ガラス基板生産管理方法S2として、第1検査工程A2と、試算工程B2と、第2検査工程C2と、良否判定工程D2とを備えるようにしてもよく、図11に示すように、同じくガラス基板生産管理方法S3として、単一の検査工程A3と、試算工程B3と、良否判定工程C3とを備えるようにしてもよい。これらのガラス基板生産管理方法S2、S3によるにしても、全ての処理をコンピュータで行うか否かはともかくとして、上述のガラス基板生産管理システムSと実質的に同一の処理が行われる。
ここで、以上の実施形態では、上流側工程の処理者が受ける利益と、下流側工程の処理者が受ける損失との許算を、二項累積分布関数を用いたが、これは欠陥の確率分布が二項分布をするという前提で採用しているものであり、前提に見合った他の分布関数を用いてもよい。本発明は、このような計算手法に限定されるものではなく、上流側工程の処理者が受ける利益と、下流側工程の処理者が受ける損失との計算を行うことができる手法であれば、他の計算手法を使用してもよい。
1 多面採りガラス基桓(マザーガラス)
2 仮想単面
3 単面ガラス板
4 欠陥
A 第1検査手段
B 試算手段
C 第2検査手段
S ガラス基板生産管理システム
A1 検査手段
B1 試算手段
C1 良否判定手段
A2 第1検査工程
B2 試算工程
C2 第2検査工程
D2 良否判定工程
S2 ガラス基板生産管理方法
A3 検査工程
B3 試算工程
C3 良否判定工程
S3 ガラス基板生産管理方法

Claims (10)

  1. 上流側工程で作製された多面採りガラス基板を、下流側工程で製品関連処理を施して複数の単面ガラス板に分割する手順を含むガラス基板生産管理システムであって、
    上流側工程で10枚以上の一ロットの多面採りガラス基板から10枚以上が抜き取られた欠陥検査の欠陥データに基づいて、その抜き取られた多面採りガラス基板に存在している欠陥の総個数を検出し、その欠陥の総個数を検査対象とした総面積で除したロット平均欠陥密度を算出する第1検査手段と、
    上流側工程における前記一ロットの多面採りガラス基板について、欠陥が存在している多面採りガラス基板を予備的に良品とみなして下流側工程に送ることによる上流側工程の処理者が欠陥が一つでも存在する多面採りガラス基板を廃棄していた場合との比較において受ける利益と、それらの予備的に良品とみなされた多面採りガラス基板に製品関連処理を施して複数の単面ガラス板に分割した場合に前記欠陥の存在に起因して不良品が発生したことによる下流側工程の処理者が全ての単面ガラス板が良品であった場合との比較において受ける損失とを、前記ロット平均欠陥密度を使用して、1枚の前記多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の個数を異ならせて複数回に亘って試算し、それらの試算結果に基づいて、前記利益が前記損失を上回っている場合における1枚の前記多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の適切個数である欠陥許容個数を算出する試算手段と、
    上流側工程における前記一ロットの多面採りガラス基板の全数を欠陥検査して前記1枚の前記多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の実個数を計数する第2検査手段と、
    1枚の前記多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の実個数が前記試算手段で算出された前記欠陥許容個数の範囲内にある前記多面採りガラス基板を、欠陥が全く存在していない多面採りガラス基板に加えて下流側工程に送る良品とし、その他の多面採りガラス基板を、上流側工程で廃棄する不良品とする良否判定手段と、
    を備えたことを特徴とするガラス基板生産管理システム。
  2. 上流側工程で作製された多面採りガラス基板を、下流側工程で製品関連処理を施して複数の単面ガラス板に分割する手順を含むガラス基板生産管理システムであって、
    上流側工程で10枚以上の一ロットの多面採りガラス基板から10枚以上が抜き取られた欠陥検査の欠陥データに基づいて、その抜き取られた多面採りガラス基板に存在している欠陥の総個数を検出し、その欠陥の総個数を検査対象とした総面積で除したロット平均欠陥密度を算出すると共に、前記一ロットの多面採りガラス基板の全数を欠陥検査して1枚の前記多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の実個数を計数する検査手段と、
    上流側工程における前記一ロットの多面採りガラス基板について、欠陥が存在している多面採りガラス基板を予備的に良品とみなして下流側工程に送ることによる上流側工程の処理者が欠陥が一つでも存在する多面採りガラス基板を廃棄していた場合との比較において受ける利益と、それらの予備的に良品とみなされた多面採りガラス基板に製品関連処理を施して複数の単面ガラス板に分割した場合に前記欠陥の存在に起因して不良品が発生したことによる下流側工程の処理者が全ての単面ガラス板が良品であった場合との比較において受ける損失とを、前記ロット平均欠陥密度を使用して、1枚の前記多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の個数を異ならせて複数回に亘って試算し、それらの試算結果に基づいて、前記利益が前記損失を上回っている場合における1枚の前記多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の適切個数である欠陥許容個数を算出する試算手段と、
    1枚の多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の実個数が、前記試算手段で算出された欠陥許容個数の範囲内にある多面採りガラス基板を、欠陥が全く存在していない多面採りガラス基板に加えて下流側工程に送る良品とし、その他の多面採りガラス基板を、上流側工程で廃棄する不良品とする良否判定手段と、
    を備えたことを特徴とするガラス基板生産管理システム。
  3. 下流側工程で製品関連処理が施される多面採りガラス基板の面を、欠陥が製品関連処理に対して有害となる有害領域と、欠陥が製品関連処理に対して無害となる無害領域とに区分して、無害領域の面積を多面採りガラス基板の面積で除した値を無害領域救済率とし、この無害領域救済率を、前記試算手段で行われる計算に使用することを特徴とする請求項1または2に記載のガラス基板生産管理システム。
  4. 前記上流側工程の処理者が、フラットパネルディスプレイ用の多面採りガラス基板としてのマザーガラスの製造者であり、前記下流側工程の処理者が、フラットパネルディスプレイのパネルの中間または最終製造者であることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載のガラス基板生産管理システム。
  5. 前記上流側工程の処理者が、フラットパネルディスプレイ用の多面採りガラス基板としてのマザーガラスの製造者であり、前記下流側工程の処理者が、フラットパネルディスプレイのマザーガラスから切断して単面ガラス板に加工する製造者であることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載のガラス基板生産管理システム。
  6. 上流側工程で作製された多面採りガラス基板を、下流側工程で製品関連処理を施して複数の単面ガラス板に分割する手順を含むガラス基板生産管理方法であって、
    上流側工程で10枚以上の一ロットの多面採りガラス基板から10枚以上が抜き取られた欠陥検査の欠陥データに基づいて、その抜き取られた多面採りガラス基板に存在している欠陥の総個数を検出し、その欠陥の総個数を検査対象とした総面積で除したロット平均欠陥密度を算出する第1検査工程と、
    上流側工程における前記一ロットの多面採りガラス基板について、欠陥が存在している多面採りガラス基板を予備的に良品とみなして下流側工程に送ることによる上流側工程の処理者が欠陥が一つでも存在する多面採りガラス基板を廃棄していた場合との比較において受ける利益と、それらの予備的に良品とみなされた多面採りガラス基板に製品関連処理を施して複数の単面ガラス板に分割した場合に前記欠陥の存在に起因して不良品が発生したことによる下流側工程の処理者が全ての単面ガラス板が良品であった場合との比較において受ける損失とを、前記ロット平均欠陥密度を使用して、1枚の前記多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の個数を異ならせて複数回に亘って試算し、それらの試算結果に基づいて、前記利益が前記損失を上回っている場合における1枚の前記多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の適切個数である欠陥許容個数を算出する試算工程と、
    上流側工程における前記一ロットの多面採りガラス基板の全数を欠陥検査して前記欠陥が存在している1枚の前記多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の実個数を計数する第2検査工程と、
    1枚の前記多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の実個数が前記試算工程で算出された欠陥許容個数の範囲内にある多面採りガラス基板を、欠陥が全く存在していない多面採りガラス基板に加えて下流側工程に送る良品とし、その他の多面採りガラス基板を、上流側工程で廃棄する不良品とする良否判定工程と、
    を備えたことを特徴とするガラス基板生産管理方法。
  7. 上流側工程で作製された多面採りガラス基板を、下流側工程で製品関連処理を施して複数の単面ガラス板に分割する手順を含むガラス基板生産管理方法であって、
    上流側工程で10枚以上の一ロットの多面採りガラス基板から10枚以上が抜き取られた欠陥検査の欠陥データに基づいて、その抜き取られた多面採りガラス基板に存在している欠陥の総個数を検出し、その欠陥の総個数を検査対象とした総面積で除したロット平均欠陥密度を算出すると共に、前記一ロットの多面採りガラス基板の全数を欠陥検査して1枚の前記多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の実個数を計数する検査工程と、
    上流側工程における前記一ロットの多面採りガラス基板について、欠陥が存在している多面採りガラス基板を予備的に良品とみなして下流側工程に送ることによる上流側工程の処理者が欠陥が一つでも存在する多面採りガラス基板を廃棄していた場合との比較において受ける利益と、それらの予備的に良品とみなされた多面採りガラス基板に製品関連処理を施して複数の単面ガラス板に分割した場合に前記欠陥の存在に起因して不良品が発生したことによる下流側工程の処理者が全ての単面ガラス板が良品であった場合との比較において受ける損失とを、前記ロット平均欠陥密度を使用して、1枚の前記多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の個数を異ならせて複数回に亘って試算し、それらの試算結果に基づいて、前記利益が前記損失を上回っている場合における1枚の前記多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の適切個数である欠陥許容個数を算出する試算工程と、
    1枚の前記多面採りガラス基板に存在する前記欠陥の実個数が、前記試算工程で算出された欠陥許容個数の範囲内にある多面採りガラス基板を、欠陥が全く存在していない多面採りガラス基板に加えて下流側工程に送る良品とし、その他の多面採りガラス基板を、上流側工程で廃棄する不良品とする良否判定工程と、
    を備えたことを特徴とするガラス基板生産管理方法。
  8. 下流側工程で製品関連処理が施される多面採りガラス基板の面を、欠陥が製品関連処理に対して有害となる有害領域と、欠陥が製品関連処理に対して無害となる無害領域とに区分して、無害領域の面積を多面採りガラス基板の面積で除した値を無害領域救済率とし、この無害領域救済率を、前記試算工程で行われる計算に使用することを特徴とする請求項6または7に記載のガラス基板生産管理方法。
  9. 前記上流側工程の処理者が、フラットパネルディスプレイ用の多面採りガラス基板としてのマザーガラスの製造者であり、前記下流側工程の処理者が、フラットパネルディスプレイのパネルの中間または最終製造者であることを特徴とする請求項6〜8の何れかに記載のガラス基板生産管理方法。
  10. 前記上流側工程の処理者が、フラットパネルディスプレイ用の多面採りガラス基板としてのマザーガラスの製造者であり、前記下流側工程の処理者が、フラットパネルディスプレイのマザーガラスから切断して単面ガラス板に加工する製造者であることを特徴とする請求項6〜8の何れかに記載のガラス基板生産管理方法。
JP2013175391A 2013-08-27 2013-08-27 ガラス基板生産管理システム及びガラス基板生産管理方法 Expired - Fee Related JP6094891B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013175391A JP6094891B2 (ja) 2013-08-27 2013-08-27 ガラス基板生産管理システム及びガラス基板生産管理方法
TW103128629A TW201518227A (zh) 2013-08-27 2014-08-20 玻璃基板生產管理系統以及玻璃基板生產管理方法
US14/914,058 US20160207822A1 (en) 2013-08-27 2014-08-20 Glass substrate production management system and glass substrate production management method
CN201480038073.8A CN105358495B (zh) 2013-08-27 2014-08-20 玻璃基板生产管理系统及玻璃基板生产管理方法
KR1020157030959A KR20160048030A (ko) 2013-08-27 2014-08-20 유리 기판 생산 관리 시스템 및 유리 기판 생산 관리 방법
PCT/JP2014/071722 WO2015029847A1 (ja) 2013-08-27 2014-08-20 ガラス基板生産管理システム及びガラス基板生産管理方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013175391A JP6094891B2 (ja) 2013-08-27 2013-08-27 ガラス基板生産管理システム及びガラス基板生産管理方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015044697A JP2015044697A (ja) 2015-03-12
JP6094891B2 true JP6094891B2 (ja) 2017-03-15

Family

ID=52586409

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013175391A Expired - Fee Related JP6094891B2 (ja) 2013-08-27 2013-08-27 ガラス基板生産管理システム及びガラス基板生産管理方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20160207822A1 (ja)
JP (1) JP6094891B2 (ja)
KR (1) KR20160048030A (ja)
CN (1) CN105358495B (ja)
TW (1) TW201518227A (ja)
WO (1) WO2015029847A1 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR3024137B1 (fr) * 2014-07-24 2016-07-29 Saint Gobain Procede de fabrication de feuilles de verre de forme complexe
CN105080855B (zh) * 2015-06-03 2017-08-25 合肥京东方光电科技有限公司 基板标记检测装置和基板标记检测方法
CN106018437B (zh) * 2016-07-01 2020-09-11 沧州四星玻璃股份有限公司 一种玻璃管气线缺陷的检测方法
JP6919779B2 (ja) * 2016-12-20 2021-08-18 日本電気硝子株式会社 ガラス基板の製造方法
CN108447800B (zh) * 2018-01-31 2019-12-10 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 薄膜电池的制造方法
USD909334S1 (en) * 2019-08-14 2021-02-02 Minglong YANG Speaker

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000311924A (ja) * 1999-04-26 2000-11-07 Hitachi Ltd 外観検査方法および装置
JP2001264724A (ja) * 2000-03-22 2001-09-26 Nec Corp 生産管理方法、表示デバイス及びプラズマディスプレイパネル
JP4649051B2 (ja) * 2001-03-21 2011-03-09 オリンパス株式会社 検査画面の表示方法及び基板検査システム
JP4347067B2 (ja) * 2002-04-03 2009-10-21 AvanStrate株式会社 マザーガラスの欠陥検査方法及び装置並びに液晶表示装置用ガラス基板の製造方法
JP2005346510A (ja) * 2004-06-04 2005-12-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd 製造工程の管理方法及びそのデータ処理装置
JP5493104B2 (ja) * 2009-12-02 2014-05-14 株式会社神戸製鋼所 損失コスト計算方法及び損失コスト計算プログラム、並びに損失コスト計算装置
CN102446291A (zh) * 2010-09-30 2012-05-09 旭硝子株式会社 板状体的分类管理方法
JP6191599B2 (ja) * 2013-03-21 2017-09-06 日本電気硝子株式会社 ガラス基板生産管理システム及びガラス基板生産管理方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015044697A (ja) 2015-03-12
CN105358495B (zh) 2017-08-08
WO2015029847A1 (ja) 2015-03-05
KR20160048030A (ko) 2016-05-03
US20160207822A1 (en) 2016-07-21
TW201518227A (zh) 2015-05-16
CN105358495A (zh) 2016-02-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6191599B2 (ja) ガラス基板生産管理システム及びガラス基板生産管理方法
JP6094891B2 (ja) ガラス基板生産管理システム及びガラス基板生産管理方法
TWI743265B (zh) 玻璃板的製造方法
CN103311146B (zh) 缺陷检查方法
TW200305545A (en) Manufacturing methods of glass substrate for liquid crystal display device and mother glass thereof, and mother glass inspection apparatus
CN108445020B (zh) 一种玻璃基板缺陷聚集识别方法
CN108319052B (zh) 一种显示面板制作与检测方法
CN106168868B (zh) 触控基板消影检测方法及制造方法、触控基板及触控装置
JP6919779B2 (ja) ガラス基板の製造方法
CN105914172A (zh) 一种基板刻蚀监测方法
TWI657402B (zh) 晶圓製造管理方法以及晶圓製造管理系統
CN105979707B (zh) 一种线路层无铜区域识别方法及系统
CN102865841B (zh) 晶圆边缘度量与检测工具的厚度检测稳定性检测方法
JP2008034817A (ja) 警報装置
CN205050112U (zh) 触控显示面板及测试系统
CN104345023A (zh) 污染物测量基底、设备及使用该设备制造基底的方法
JP7171535B2 (ja) 表面形状測定装置
US20160299589A1 (en) Manufacturing process and structure of edge-chamfered one-glass-solution touch panel
TWI681357B (zh) 用於基板缺陷分析之裝置及方法
CN111091523B (zh) 用于基板缺陷分析的计算装置及方法
US11088039B2 (en) Data management and mining to correlate wafer alignment, design, defect, process, tool, and metrology data
CN105446033A (zh) 一种监控金属膜厚的方法
JP2009016758A (ja) 不良製品解析方法およびこれを用いた警告システム
JP2012073459A (ja) 共通形状欠陥の検査方法
JP2009115884A (ja) カラーフィルタパターン検査機における共通欠陥処理方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160704

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20161128

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161206

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170120

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170202

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6094891

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees