JP6092574B2 - 太陽電池素子の製造方法 - Google Patents
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Description
に反射率低減のための微細な凹凸形状を有するテクスチャ構造と、pn接合を形成するための第2半導体層とを有する太陽電池素子の製造方法において、半導体基板表面に付着した金属不純物を効果的に除去するとともに、反射率低減のための表面凹凸形状を損なわない基板洗浄方法を提供することを目的とする。
図1〜図3に示すように、太陽電池素子10は、光が入射する受光面である第1面9aと、第1面9aの裏面に相当する非受光面である第2面9bとを有する。
パント元素を有し、一導電型(例えば、p型)を呈する単結晶シリコン基板または多結晶シリコン基板等の結晶シリコン基板が好適に用いられる。
cm3程度となるように形成されるとよい。
次に、上述した太陽電池素子の製造方法について説明する。まず、半導体基板1の基本的な製造方法について説明する。
ペーストを用いて作製される。この銀ペーストを、半導体基板1の第1面9a側にスクリーン印刷法などを用いて塗布して、その後、最高温度600〜900℃で数十秒〜数十分程度焼成する。
試料No.4、試料No.2、試料No.5、試料No.1の順であった。
実施した場合(試料No.3)としなかった場合(試料No.1)の比較を行った。分析試料No.は半導体基板1の表層から1μmの領域で、表面自然酸化膜も含んでいる。なお、表中の「AE+N」は「A×10+N」を表すものとする。
の工程で実施するのであれば、特性改善効果の大きい、半導体基板準備工程(P1)とテクスチャ構造形成工程(P3)との間の第1期間、およびテクスチャ構造形成工程(P3)と第2導電型層形成工程(P4)との第2期間に実施することが望ましい。
あると光電変換効率が1.002であり、効果は小さいものであった。
2 :第1半導体層
3 :第2半導体層
4 :反射防止膜
5 :第1電極
5a:第1出力取出電極
5b:第1集電電極
5c:補助電極
6 :第2電極
6a:第2出力取出電極
6b:第2集電電極
7 :BSF領域
9a :第1面
9b :第2面
10 :太陽電池素子
Claims (7)
- 第1導電型の半導体基板を準備する半導体基板準備工程と、
前記半導体基板の表面に、反応性イオンエッチングによってテクスチャ構造を形成するテクスチャ構造形成工程と、
前記テクスチャ構造を形成した前記半導体基板の表面に、前記第1導電型とは逆の導電型の第2導電型層を形成する第2導電型層形成工程とを有する太陽電池素子の製造方法であって、
前記テクスチャ構造形成工程の前および前記テクスチャ構造形成工程と前記第2導電型層形成工程との間の少なくとも一方に、前記半導体基板の表面をフッ酸が添加されていない硝酸を用いて洗浄する硝酸洗浄工程と、該硝酸洗浄工程に続けて、前記半導体基板の表面をフッ酸を用いて洗浄して、前記硝酸洗浄工程の際に形成された酸化膜を除去するフッ酸洗浄工程とを有する太陽電池素子の製造方法。 - 前記半導体基板準備工程は、表面に切断加工によって生じたダメージ層を有する、第1導電型の半導体基板を準備する工程であり、
前記半導体基板準備工程と前記テクスチャ構造形成工程との間に、前記半導体基板の前記ダメージ層を除去するダメージ層除去工程をさらに有し、
該ダメージ層除去工程と前記テクスチャ構造形成工程との間および前記テクスチャ構造形成工程と前記第2導電型層形成工程との間の少なくとも一方に、前記硝酸洗浄工程を有する請求項1に記載の太陽電池素子の製造方法。 - 前記ダメージ層除去工程において、アルカリ性水溶液を用いたエッチングによって前記ダメージ層を除去する請求項2に記載の太陽電池素子の製造方法。
- 前記硝酸洗浄工程において、硝酸濃度が14質量%以上35質量%以下で且つ温度が35℃以上50℃以下の硝酸を用いる請求項2または3に記載の太陽電池素子の製造方法。
- 前記テクスチャ構造形成工程と前記第2導電型層形成工程との間に、前記硝酸洗浄工程を有する請求項1に記載の太陽電池素子の製造方法。
- 前記半導体基板としてシリコン基板を用いる請求項1乃至5のいずれかに記載の太陽電池素子の製造方法。
- 前記第2導電型層形成工程において、熱拡散法によって前記第2導電型層を形成する請求項1乃至6のいずれかに記載の太陽電池素子の製造方法。
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