JP6090018B2 - クロロシラン類製造装置及びクロロシラン類製造方法 - Google Patents
クロロシラン類製造装置及びクロロシラン類製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6090018B2 JP6090018B2 JP2013144931A JP2013144931A JP6090018B2 JP 6090018 B2 JP6090018 B2 JP 6090018B2 JP 2013144931 A JP2013144931 A JP 2013144931A JP 2013144931 A JP2013144931 A JP 2013144931A JP 6090018 B2 JP6090018 B2 JP 6090018B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat medium
- steam
- steam generator
- chlorosilanes
- heat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 title claims description 49
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 49
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 25
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 89
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 40
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 claims description 28
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 27
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims description 27
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 17
- 239000011863 silicon-based powder Substances 0.000 claims description 17
- 238000009795 derivation Methods 0.000 claims description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 239000008236 heating water Substances 0.000 claims description 3
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N trichlorosilicon Chemical compound Cl[Si](Cl)Cl PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 14
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 11
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 9
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 3
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPTXWRGISTZRIO-UHFFFAOYSA-N chlorquinaldol Chemical compound ClC1=CC(Cl)=C(O)C2=NC(C)=CC=C21 GPTXWRGISTZRIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 206010037660 Pyrexia Diseases 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/10—Process efficiency
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
Description
また、クロロシラン類生成反応炉では、炉の立ち上げから稼働・停止に至る過程で数百度の温度差が生じるため、熱媒体の系内での圧力上昇により、熱媒体のバルブ類からの漏れなどが発生した場合、危険が伴うばかりでなくその後処理にも手間がかかり、反応炉の操業も低下することになるため、連続して安定した熱を熱媒体から回収する場合、熱媒体の圧力変動を低減することが必要となる。
この場合、複数の反応炉が蒸気発生器に接続されており、これら反応炉の運転を切り替える場合でも、新たに運転を開始する反応炉から一定の温度を有する熱媒体を蒸気発生器に供給して蒸気を発生することができ、その切り替えの際に生じるおそれのある熱媒体の圧力変動を膨張タンクにより緩和することができる。したがって、反応炉からの熱回収を連続的に且つ効率的に行うことができる。
尚、以下の実施形態では、一例として反応炉で生成されるクロロシラン類中のトリクロロシランの製造について説明する。
一実施形態のクロロシラン類製造装置1は、図2に示すように、金属シリコン粉末Siと塩化水素ガスHClとを供給して、金属シリコン粉末Siを塩化水素ガスHClによって流動させながら反応させる複数の反応炉2A〜2Dと、この反応により生成されたクロロシラン類中のトリクロロシランを蒸留する蒸留塔3とが備えられている。なお、蒸留塔3で得られた高純度のトリクロロシランは、気化器4で気化された後、水素と混合され、水素との混合ガスとして多結晶シリコンの原料とされ、多結晶シリコン析出炉5に供給されることにより、赤熱したシリコン棒Sの表面に多結晶シリコンPを析出する。
また、ヒータ7にも、熱媒体の流通量を制御する弁14が設けられ、さらに冷却器9の下流側にも弁30が設けられている。そして、この弁30と弁13,14による熱媒体の流通量の制御により、反応炉2に送られる熱媒体の温度を制御することができる。
この様に制御することにより、冷却器9前圧力と、温度をそれぞれ別々に制御できるようになるため、圧力のボトルネックが解消できるため、蒸気量を有効に使用することができる。
なお、符号17は熱媒体を圧送するポンプである。
図2に記載の蒸留塔3は、図示例では塔底にリボイラ28が接続されており、蒸気輸送管26はこのリボイラ28内を経由するように設置され、リボイラ28内で塔底液を加熱するようになっている。
なお、図1中、符号61,62は弁である。
この実施形態では、各反応炉と蒸気発生器との間の熱媒体の流通を制御する流路制御手段は、反応炉2A〜2Dを蒸気発生器8に接続する弁31、各バイパス管10,11、弁12〜14,29,30及び温度計15,16,33,37、圧力センサ32、弁61,62によって構成される。
以下、これらの工程を詳細に説明する。
反応炉2の運転初期は、弁14及び弁61が開かれるとともに、弁62を閉じておき、熱媒流通管6はヒータ7への流路が接続される。そして、ヒータ7で加熱された高温の熱媒体が流通することにより、反応炉2内部を金属シリコン粉末Siと塩化水素ガスHClとの反応に必要な温度(例えば300℃)まで加熱する。これら金属シリコン粉末Siと塩化水素ガスHClとの反応が開始すると、徐々に発熱を伴うので、ヒータ7に通じる弁61が閉じられるとともに、弁62を開放し、他の弁12,13,29,30の開閉が段階的に制御される。
このとき、温度計15,16の温度を確認しながら、弁29を徐々に開放し、温度の急激な変化がないように、開度を調整する。この際、反応炉2に入る熱媒体の温度が所定の温度範囲内になっていることを確認しながら開度を調整する。この場合、弁29を開放した分だけ弁12は閉じられる。
ここで、温度計16は 反応器2(塩化炉)に入る手前に設置されているが、ヒータ7の前にも設置することも可能である。
温度計15,16での計測温度が安定してきたら(温度計16の計測温度が温度計15の計測温度に近づいてきたら)、温度計16での設定値を設け、両温度計15,16の計測温度の温度差が一定以下(例えば、5℃以下)になるように、弁30、弁13または弁29、弁12の開度を調整して安定した熱媒体の流通を行う。
また、冷却器9の温度調整やそれに伴う温度変動などで熱媒体の温度が設定温度より下がり過ぎるような場合は、バイパス管11の弁13の開度を大きくするなどの調整を断続的に行い、反応炉内温度を所定温度範囲内に維持するように熱媒体の流量を制御する。
そして、クロロシラン類は蒸留塔3において蒸留され(蒸留工程)、その際の熱源として蒸気発生器8で発生した蒸気が用いられ、蒸留されて純度が高められたトリクロロシランは、多結晶シリコン析出炉5に供給されて多結晶シリコンPの製造に供される。
反応炉2Aの運転を停止し、反応炉2Cの運転を開始する場合であると、反応炉2Aの弁31を閉じるとともに、反応炉2Aへの原料の供給を停止する。このとき、弁31を閉じた後は、熱媒は冷却器9により冷却される。この反応炉2Aの運転を停止する際に、冷却器9の入り口側で熱媒の圧力に変動が生じる場合があるが、その圧力変動は膨張タンク38により吸収される。この反応炉2Aの運転停止時に熱媒流通管6内の圧力変動が膨張タンク38によって抑制されるので、反応炉2Aは安定して停止させることができる。
一方、反応炉2Cについて、前述したように運転を開始して、弁31を開放する。そして、弁12と弁29との開度を制御しながら、蒸気発生器8に熱媒体を流通する。
また、蒸気発生器8からの蒸気導出に伴う蒸気流量については、反応炉2台を接続して熱回収を行った場合、数日間の連続した状態でおよそ1.5ton/h以上の蒸気流量の導出がほぼ安定して得られた。
また、これらの蒸気発生時の蒸気発生器内8の水位レベルは、0〜+25mmの範囲で管理が行われた。
なお、これらの蒸気を蒸留塔に導入し、蒸留塔でのトリクロロシランの蒸留を行った結果、安定した留出量が得られた(尚、蒸気の蒸留塔への送り圧力は、平均0.17〜0.18MPaで維持された)。
例えば、上記実施形態では、リボイラを備える蒸留塔を示したが、蒸気により蒸留塔の釜底を直接加熱するようにしてもよい。
また、蒸留塔、リボイラー、蒸気発生器でのドレンを蒸気の水源として用いてもよい。
また、蒸気発生器8においては、弁12,13,29,30にて熱媒体の流通量を制御することで蒸気発生器8内での蒸気発生量も変動するが、蒸気発生器8の水位レベルの単位時間当たりの変化量を液面計22で監視し、その結果を熱媒体の流通量の制御に反映させる方法を用いてもよい。
2A〜2D 反応炉
3 蒸留塔
4 気化器
5 多結晶シリコン析出炉
6 熱媒流通管
7 ヒータ
8 蒸気発生器
9 冷却器
10,11 バイパス管
12〜14 弁
15,16 温度計
17 ポンプ
21 水供給管
22 液面計
23 弁
24 ポンプ
25 排水管
26 蒸気輸送管
27 圧力調整弁
28 リボイラ
29,30,31 弁
32 圧力センサ
35 流入管
36 流出管
38 膨張タンク
39 弁
41 流入側接続管
42 流出側接続管
45 圧力センサ
46 弁
Claims (3)
- 金属シリコン粉末を塩化水素ガスによって流動させながら反応させる複数の反応炉と、この反応により生成されたトリクロロシランを含むクロロシラン類を蒸留する蒸留塔とを有し、前記反応炉に、該反応炉内を経由して熱媒体が循環流通する熱媒流通管がそれぞれ設けられ、これら熱媒流通管に、前記反応炉内の熱を吸収して高温になった熱媒体により水を加熱して蒸気を発生する蒸気発生器が接続され、該蒸気発生器に、前記蒸気を前記蒸留塔の熱源として利用する蒸気輸送管が接続され、前記熱媒流通管に、前記反応炉のうちのいずれか1台又は複数台を選択して前記蒸気発生器に接続状態とすることにより、各反応炉と前記蒸気発生器との間の熱媒体の流通を制御する流路制御手段が設けられ、前記反応炉のうちの少なくとも2台の反応炉における前記熱媒流通管の間に、いずれかの熱媒流通管内の圧力変動を緩和する膨張タンクが設けられていることを特徴とするクロロシラン類製造装置。
- 前記蒸気発生器に、内部の圧力を検出して該圧力に応じて前記蒸気輸送管への蒸気の導出を制御する蒸気制御手段が設けられていることを特徴とする請求項1記載のクロロシラン類製造装置。
- 金属シリコン粉末を塩化水素ガスによって流動させながら反応させる複数の反応炉と、この反応により生成されたトリクロロシランを主体とするクロロシラン類を蒸留する蒸留塔とによりクロロシラン類を製造する方法であって、
前記反応炉に、該反応炉内を経由して熱媒体が循環流通する熱媒流通管をそれぞれ設けるとともに、これら熱媒流通管に、前記反応炉内の熱を吸収して高温になった熱媒体により水を加熱して蒸気を発生する蒸気発生器を接続しておき、
前記反応炉のうちのいずれか1台又は複数台を選択して前記蒸気発生器に接続状態とすることにより、各反応炉と前記蒸気発生器との間の熱媒体の流通を制御するとともに、前記反応炉のうちの少なくとも2台の反応炉における前記熱媒流通管の間に設けた膨張タンクにより、いずれかの熱媒流通管内の圧力変動を吸収した状態とし、
前記蒸気発生器で発生した蒸気を前記蒸留塔の熱源として利用することを特徴とするクロロシラン類製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013144931A JP6090018B2 (ja) | 2013-07-10 | 2013-07-10 | クロロシラン類製造装置及びクロロシラン類製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013144931A JP6090018B2 (ja) | 2013-07-10 | 2013-07-10 | クロロシラン類製造装置及びクロロシラン類製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015017011A JP2015017011A (ja) | 2015-01-29 |
JP6090018B2 true JP6090018B2 (ja) | 2017-03-08 |
Family
ID=52438388
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013144931A Active JP6090018B2 (ja) | 2013-07-10 | 2013-07-10 | クロロシラン類製造装置及びクロロシラン類製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6090018B2 (ja) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002195663A (ja) * | 2000-12-27 | 2002-07-10 | Showa Denko Kk | 太陽熱利用蓄熱装置 |
MY176065A (en) * | 2009-01-20 | 2020-07-23 | Mitsubishi Materials Corp | Apparatus for producing trichlorosilane and method for producing trichlorosilane |
JP5552284B2 (ja) * | 2009-09-14 | 2014-07-16 | 信越化学工業株式会社 | 多結晶シリコン製造システム、多結晶シリコン製造装置および多結晶シリコンの製造方法 |
JP5423418B2 (ja) * | 2010-01-21 | 2014-02-19 | 三菱マテリアル株式会社 | トリクロロシラン製造装置 |
JP5708332B2 (ja) * | 2011-07-19 | 2015-04-30 | 三菱マテリアル株式会社 | トリクロロシラン製造装置 |
JP5900224B2 (ja) * | 2011-11-30 | 2016-04-06 | 三菱マテリアル株式会社 | トリクロロシラン製造装置及び製造方法 |
-
2013
- 2013-07-10 JP JP2013144931A patent/JP6090018B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015017011A (ja) | 2015-01-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6947914B2 (ja) | 高圧高温下のアニールチャンバ | |
JP5786449B2 (ja) | ヒートポンプ式蒸気生成装置 | |
CN102862987B (zh) | 用于生产多晶硅的方法 | |
CN107445138B (zh) | 多晶硅还原尾气回收方法及回收系统 | |
US20110318909A1 (en) | System and method of semiconductor manufacturing with energy recovery | |
EA027063B1 (ru) | Способ окисления soв so | |
JP6213855B2 (ja) | 熱回収装置 | |
CN102498063A (zh) | 多晶硅制造系统、多晶硅制造装置及多晶硅的制造方法 | |
JP6090018B2 (ja) | クロロシラン類製造装置及びクロロシラン類製造方法 | |
CN104395237A (zh) | 多晶硅的制造方法 | |
JP5900224B2 (ja) | トリクロロシラン製造装置及び製造方法 | |
EP2993398B1 (en) | Flue-gas treatment apparatus and its method of operation | |
EP3640204B1 (en) | Method for producing polysilicon | |
CN107074562B (zh) | 五氯乙硅烷的制造方法以及采用该方法制造的五氯乙硅烷 | |
KR101643045B1 (ko) | 열 회수 장치 | |
JP2000319095A (ja) | トリクロロシランガス気化供給装置及び方法 | |
KR101901402B1 (ko) | 염화수소화 가열기 및 그 관련 방법 | |
JP6283482B2 (ja) | トリクロロシラン製造方法 | |
JP2015001372A (ja) | 半導体プロセス用冷却装置 | |
CN106082235B (zh) | 一种用于stc汽化和氢气混合的装置和方法 | |
CN111704140B (zh) | 一种氯氢化流化床热能回收工艺 | |
CN207091012U (zh) | 提高还原炉三氯氢硅进料纯度的节能装置 | |
KR101435144B1 (ko) | Cog 가스에 함유된 btx 회수 장치 | |
JP6979914B2 (ja) | 気化装置 | |
KR20160020444A (ko) | 실란 및 히드로할로실란의 제조 방법 및 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160331 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20161219 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170110 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170123 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6090018 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |