JP6080797B2 - 不純物拡散装置 - Google Patents
不純物拡散装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6080797B2 JP6080797B2 JP2014093008A JP2014093008A JP6080797B2 JP 6080797 B2 JP6080797 B2 JP 6080797B2 JP 2014093008 A JP2014093008 A JP 2014093008A JP 2014093008 A JP2014093008 A JP 2014093008A JP 6080797 B2 JP6080797 B2 JP 6080797B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- exhaust
- impurity diffusion
- pipe
- moisture
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
4POCl3+3O2→2P2O5+6Cl2
2P2O5+5Si→4P+5SiO2
図1は、実施の形態1の不純物拡散装置を示す説明図、図2は要部断面図である。本実施の形態の不純物拡散装置100は、加熱源としてのヒータ2を備えた石英チューブ1と、石英チューブ1の一端に設けられ石英チューブ1内に、不純物を含有する拡散用ガスを供給する拡散用ガス供給口3と、石英チューブ1内のガスを排気するガス排出口4と、ガス排出口4に接続された排気管7と、排気管7の途中に接続され、石英チューブ1からの酸性成分を含む排気ガスを冷却・液化するトラップ8と、トラップ8で液化された廃液を溜めるドレイン9と、ガス排出口4とトラップ8との間に水分を含有する気体を供給する水分含有気体供給管11とを有することを特徴とする。なお、石英チューブ1の他端には被処理物としてのシリコンウエハ41の搬入搬出を行う開口部5aとこの開口部5aを塞ぐ石英扉5bとが配設されている。
4POCl3+3O2→2P2O5+6Cl2
2P2O5+5Si→4P+5SiO2
図5は、実施の形態2の不純物拡散装置100を示す説明図である。要部断面は、図2に示したものと同様である。本実施の形態の不純物拡散装置では、ガス排出口4に設けられた排気管7において、トラップ8よりも不純物拡散装置の上流側、かつ排気フード6の内部領域に三叉の分岐部10が設けられており、水分を含む気体が流れる水分含有気体供給管11が設置されている。なお排気フード6には酸性ガス処理系に接続された排気配管6sが接続されており、排気フード6内は常時排気が行われている。
図6は、実施の形態3の不純物拡散装置100を示す説明図である。要部断面は、図2に示したものと同様である。本実施の形態の不純物拡散装置では、水分を含む気体が流れる水分含有気体供給管11の上流側にバルブ12を設けた点が実施の形態2の不純物拡散装置と異なる点である。他部については前記実施の形態2と同様であり、ここでは説明を省略する。同一部位には同一符号を付した。石英チューブ1の端部に設けられた、ガス排出口4に設けられた排気管7において、トラップ8よりも不純物拡散装置の上流側、かつ排気フード6の内部領域に三叉の分岐部10が設けられており、水分を含む気体が流れる水分含有気体供給管11が設置されている。なお排気フード6には酸性ガス処理系に接続された排気配管6sが接続されており、排気フード6内は常時排気が行われている。
図7は、実施の形態4の不純物拡散装置100を示す説明図である。要部断面は、図2に示したものと同様である。本実施の形態の不純物拡散装置では、水分を含む気体が流れる水分含有気体供給管11の上流側にバルブ12を設けた点が実施の形態1の不純物拡散装置と異なる点である。他部については前記実施の形態1と同様であり、ここでは説明を省略する。同一部位には同一符号を付した。石英チューブ1の端部に設けられた、ガス排出口4に設けられた排気管7において、トラップ8よりも不純物拡散装置の上流側、かつ排気フード6の外部領域に三叉の分岐部10が設けられており、水分を含む気体が流れる水分含有気体供給管11が設置されている。なおこの分岐部10は実施の形態1と同様排気フード6の外側に設けられている。排気フード6には酸性ガス処理系に接続された排気配管6sが接続されており、排気フード6内は常時排気が行われている。
図8は、実施の形態5の不純物拡散装置100を示す説明図である。要部断面は、図2に示したものと同様である。本実施の形態の不純物拡散装置では、水分含有気体供給管11を、排気管7に設けた分岐トラップ8sを介して接続した点が実施の形態1の不純物拡散装置と異なる点である。そしてこの水分含有気体供給管11にはバルブ13を介して分岐トラップ8sに接続され、水分含有気体の供給と供給停止が制御できるようになっている。なおここではガス排出口4に接続された第1配管7aが、そのまま分岐トラップ8sに接続されている。そしてこの分岐トラップ8sでは、内径が排気管7(第1配管7a)よりも十分に大きく形成されている。他部については前記実施の形態1と同様であり、ここでは説明を省略する。同一部位には同一符号を付した。石英チューブ1の端部に設けられた、ガス排出口4に排気管7が接続されている。そして石英チューブ1の周りには排気フード6が設けられ、排気フード6には酸性ガス処理系に接続された排気配管6sが接続されており、排気フード6内は常時排気が行われている。
Claims (6)
- 加熱源を備えた石英チューブと、
前記石英チューブ内に、不純物を含有する拡散用ガスを供給するガス供給部と、
前記石英チューブ内のガスを排気する排気口と、
前記排気口に接続された排気管と、
前記排気管の途中に接続され、前記排気管内の酸性成分を含む排気ガスを冷却・液化するトラップと、
前記トラップで液化された廃液を溜めるドレインと、
前記排気口と前記トラップとの間に水分を含有する気体を供給する水分含有気体供給管とを有する不純物拡散装置。 - 前記石英チューブの周りを囲む排気フードを有し、
前記水分含有気体供給管と、前記排気管との合流部は、前記排気フードの外部に設置された請求項1に記載の不純物拡散装置。 - 前記石英チューブの周りを囲む排気フードを有し、
前記水分含有気体供給管と、前記排気管との合流部は、前記排気フードの内部に設置された請求項1に記載の不純物拡散装置。 - 前記水分含有気体供給管は、前記不純物拡散装置の駆動と連動して開閉可能なバルブを有し、前記水分含有気体の供給を停止できるように構成された請求項1から3のいずれか1項に記載の不純物拡散装置。
- 前記排気ガスは、P2O5を含む請求項1から4のいずれか1項に記載の不純物拡散装置。
- 前記ガス供給部は、POCl3を含む気相拡散用のガスを供給するものである請求項5に記載の不純物拡散装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014093008A JP6080797B2 (ja) | 2014-04-28 | 2014-04-28 | 不純物拡散装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014093008A JP6080797B2 (ja) | 2014-04-28 | 2014-04-28 | 不純物拡散装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015211169A JP2015211169A (ja) | 2015-11-24 |
JP6080797B2 true JP6080797B2 (ja) | 2017-02-15 |
Family
ID=54613139
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014093008A Expired - Fee Related JP6080797B2 (ja) | 2014-04-28 | 2014-04-28 | 不純物拡散装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6080797B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109003913B (zh) * | 2017-06-06 | 2021-02-26 | 长鑫存储技术有限公司 | 真空系统及具有真空系统的半导体设备 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11128717A (ja) * | 1997-10-28 | 1999-05-18 | Kokusai Electric Co Ltd | 固体デバイス製造装置 |
JP2001126999A (ja) * | 1999-10-29 | 2001-05-11 | Tokyo Electron Ltd | 熱処理装置 |
JP4599701B2 (ja) * | 1999-11-24 | 2010-12-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜装置の排気系構造及び不純物ガスの除去方法 |
JP2001297988A (ja) * | 2000-04-13 | 2001-10-26 | Seiko Epson Corp | 半導体製造装置の排気トラップ機構 |
JP2004305950A (ja) * | 2003-04-09 | 2004-11-04 | Tokyo Electron Ltd | 排気トラップ、排気トラップのクリーニング方法、及び、反応処理装置 |
JP2005340283A (ja) * | 2004-05-24 | 2005-12-08 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
JP5510991B2 (ja) * | 2007-09-06 | 2014-06-04 | 株式会社日立国際電気 | 半導体製造装置及び基板処理方法 |
-
2014
- 2014-04-28 JP JP2014093008A patent/JP6080797B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015211169A (ja) | 2015-11-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI766019B (zh) | 用於將液體和固體流出物收集並隨後反應成氣體流出物的設備 | |
CN101234389B (zh) | 半导体处理用收集单元 | |
KR102413271B1 (ko) | 기판 이송 장치 | |
CN103038865B (zh) | 热处理炉 | |
CN103372559A (zh) | 炉管清洗方法 | |
CN109244010A (zh) | 一种高温热氧化机台结构 | |
JP6080797B2 (ja) | 不純物拡散装置 | |
Li et al. | Silicon chemical vapor deposition process using a half-inch silicon wafer for Minimal Manufacturing System | |
TWI674641B (zh) | 用於晶圓釋氣控制的方法與設備 | |
CN116895715B (zh) | 一种太阳能电池硼扩散控制方法、设备及系统 | |
US20170040166A1 (en) | Manufacturing method and apparatus for manufacturing silicon carbide epitaxial wafer | |
US10124272B2 (en) | Vapor circulation regeneration system | |
US20120149210A1 (en) | Systems, apparatuses, and methods for chemically processing substrates using the coanda effect | |
JP2007305730A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP5459115B2 (ja) | カーボン膜成膜装置 | |
JP2011058033A (ja) | 排ガス処理系配管内における珪フッ化アンモニウムの堆積抑制方法 | |
US20090130832A1 (en) | Silicon surface structuring method | |
KR20150022747A (ko) | 플로트 유리의 성형 장치 및 플로트 유리의 제조 방법 | |
KR20120041687A (ko) | 가열로 내의 표면 처리를 위한 장치 및 방법 | |
JP2012174838A (ja) | 成膜方法及び成膜装置 | |
TWI589010B (zh) | 反應性熱處理設備 | |
JP2001126999A (ja) | 熱処理装置 | |
TWI606603B (zh) | 橫型擴散爐及太陽電池單元的製造方法 | |
JP2001185501A (ja) | 半導体素子の製造プロセス用横型拡散炉 | |
KR200462868Y1 (ko) | 기판 처리 장치의 냉각장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160414 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20161212 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161220 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170117 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6080797 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |