JP6077830B2 - 可変形状ミラーの製造方法 - Google Patents
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Description
(実施形態1)
本発明の第1の実施形態である可変形状ミラーの作製方法について、図1−1と図1−2を用いて説明する。図1−1(a)は、可変形状ミラー101をアクチュエータ部102の裏面から見た平面図であり、図1−1(b)〜(e)と図1−2(f)〜(j)は、図1−1(a)に示すA−B線に沿った断面図である。
初めに、図1−1(b)に示すように、第一の基板109を用意する(S101)。第一の基板109は、SOI(Silicon on Insulator)基板である。SOI基板のハンドル層(Si)110の厚みは525μmであり、ボックス層(SiO2)111の厚みは1μm、活性層(Si)112の厚みは1μmである。
本発明の第2の実施形態である可変形状ミラーの作製方法について、図2−1と図2−2を用いて説明する。図2−1(a)は、可変形状ミラー201をアクチュエータ部202の裏面から見た平面図であり、図2−1(b)〜(e)と図2−2(f)〜(k)は、図2−1(a)に示すA−B線に沿った断面図である。
初めに、図2−1(b)に示すように、第一の基板209を用意する(S201)。第一の基板209は、SOI基板である。SOI基板のハンドル層(Si)210の厚みは525μmであり、ボックス層(SiO2)211の厚みは1μm、活性層(Si)212の厚みは1μmである。次に、図2(c)に示すように、第一の基板209の両面に絶縁層213のパターンを形成する(S202)。熱酸化による酸化シリコン(SiO2)を絶縁層213として形成した後に、レジストパターン(不図示)を形成する。該レジストパターン(不図示)をマスクにして、絶縁層213をエッチングする工程である。例えば、エッチングには、フロン系ガスである四フッ化メタン(CF4)、二フッ化メタン(CH2F2),三フッ化メタン(CHF3)、などによるプラズマエッチングを利用する。これらのフロン系ガスは、単独または他のフロンガスと混合して、さらには、アルゴン(Ar)やヘリウム(He)などの不活性ガスと混合して使用され得る。
本発明の第3の実施形態である可変形状ミラーの作製方法について、図3−1と図3−2を用いて説明する。図3−1(a)は、可変形状ミラー301をアクチュエータ部302の裏面から見た平面図であり、図3−1(b)〜(e)と図3−2(f)〜(k)は、図3−1(a)に示すA−B線に沿った断面図である。図3−1(b)〜図3−2(i)(S301〜S308)までは、実施形態2の図2−1(b)〜図2−2(i)(S201〜S208)までと同じであるため、説明は省略し、図3−2(j)で示すS309から説明する。ただし、図3−1と図3−2では、三百番台の数字で示す。
Claims (10)
- 反射面を有する反射部と、
前記反射面の側と反対の側の前記反射部の裏面に接続する可動部と、
前記反射部と距離を隔てて位置し、前記可動部によって支持されて前記反射面に対して平行な方向に延出する可動櫛歯電極と、
前記可動櫛歯電極及び前記可動部が前記反射面の法線方向以外の方向に変位するのを抑制する抑制手段と、
支持部と、
前記支持部によって支持されて前記反射面に対して平行な方向に延出し、且つ前記可動櫛歯電極とギャップを隔てて交互に配置される固定櫛歯電極と、を有し、
前記可動部の前記可動櫛歯電極を支持する部位と、前記支持部の前記固定櫛歯電極を支持する部位とは、前記可動櫛歯電極の前記反射面の法線方向への変位の際に前記可動櫛歯電極と前記固定櫛歯電極とがギャップを維持してすれ違えるように配置されている可変形状ミラーの製造方法であって、
第一の基板に、前記可動部、前記可動櫛歯電極、前記抑制手段、前記支持部、及び前記固定櫛歯電極を形成する工程と、
第二の基板を用意する工程と、
前記第一の基板の可動部と前記第二の基板とを接合する工程と、
前記接合した第二の基板を加工し、前記反射部を形成する工程と、
を有することを特徴とする可変形状ミラーの製造方法。 - 前記第一の基板と前記第二の基板を前記可動部で接合する工程で使用する前記第二の基板は、SOIウエハーであり、
前記反射部を形成する工程は、前記SOIウエハーのハンドル層及びボックス層を除去する工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の可変形状ミラーの製造方法。 - 前記第一の基板と前記第二の基板を前記可動部で接合する工程は、フュージョン接合であることを特徴とする請求項1または2に記載の可変形状ミラーの製造方法。
- 前記第一の基板と前記第二の基板を前記可動部で接合する工程は、バンプによる接合であることを特徴とする請求項1または2に記載の可変形状ミラーの製造方法。
- 前記第一の基板と前記第二の基板を前記可動部で接合する工程は、接着剤による接合であることを特徴とする請求項1または2に記載の可変形状ミラーの製造方法。
- 前記第一の基板をエッチングすることにより前記固定櫛歯電極及び前記可動櫛歯電極を同時に形成することを特徴とする請求項1から5の何れか1項に記載の可変形状ミラーの製造方法。
- 前記固定櫛歯電極と前記可動櫛歯電極との間に、前記反射面の法線方向の段差を形成することを特徴とする請求項1から6の何れか1項に記載の可変形状ミラーの製造方法。
- 前記第一の基板の可動部に、前記第二の基板と接合するポストを形成する工程を含む請求項1から7の何れか1項に記載の可変形状ミラーの製造方法。
- 前記第二の基板に、前記第一の基板の可動部と接合するポストを形成する工程を含む請求項1から7の何れか1項に記載の可変形状ミラーの製造方法。
- メンブレンと、
前記メンブレンに接続する可動部と、
前記メンブレンと距離を隔てて位置し、前記可動部によって支持されて前記メンブレンの面に対して平行な方向に延出する可動櫛歯電極と、
前記可動櫛歯電極及び前記可動部が前記メンブレンの面の法線方向以外の方向に変位するのを抑制する抑制手段と、
支持部と、
前記支持部によって支持されて前記メンブレンの面に対して平行な方向に延出し、且つ前記可動櫛歯電極とギャップを隔てて交互に配置される固定櫛歯電極と、を有し、
前記可動部の前記可動櫛歯電極を支持する部位と、前記支持部の前記固定櫛歯電極を支持する部位とは、前記可動櫛歯電極の前記メンブレンの面の法線方向への変位の際に前記可動櫛歯電極と前記固定櫛歯電極とがギャップを維持してすれ違えるように配置されているマイクロ構造体の製造方法であって、
第一の基板に、前記可動部、前記可動櫛歯電極、前記抑制手段、前記支持部、及び前記固定櫛歯電極を形成する工程と、
第二の基板を用意する工程と、
前記第一の基板の可動部と前記第二の基板とを接合する工程と、
前記接合した第二の基板を加工し、前記メンブレンを形成する工程と、
を有することを特徴とするマイクロ構造体の製造方法。
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