JP6068338B2 - フレキシブルデバイスの製造方法及びフレキシブルデバイス - Google Patents
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Description
本発明の一態様に係るフレキシブルデバイスの製造方法は、表面に水酸基を有する支持体の上に所定の溶液を塗布して薄膜を形成する第1工程と、前記薄膜を焼成して剥離層を形成する第2工程と、前記剥離層の上にフレキシブル基板を形成する第3工程と、前記フレキシブル基板の上にデバイスを形成する第4工程と、前記支持体と前記剥離層との間を境に、前記支持体から、前記剥離層、前記フレキシブル基板及び前記デバイスを剥離する第5工程と、を含み、前記所定の溶液はアルキルシランアルコキシド誘導体とチタンアルコキシド誘導体とを含み、前記第2工程において、前記所定の溶液を塗布して形成される薄膜の焼成温度は、200℃以上350℃以下であり、前記焼成温度が200℃以上270℃未満の場合、前記アルキルシランアルコキシド誘導体に含まれるシリコン原子数と、前記チタンアルコキシド誘導体に含まれるチタン原子数との比は、3.3〜4.1:1であり、前記焼成温度が270℃以上330℃以下の場合、前記比は、3.3〜23:1であり、前記焼成温度が330℃を超え〜350℃以下の場合、前記比は、19〜23:1である。
支持体の上に剥離層を形成し、その剥離層の上にフレキシブル基板を形成し、そのフレキシブル基板の上にデバイス(例えば、駆動回路用TFT及び有機ELを含む)を形成した後、前記支持体と前記剥離層との界面で、前記支持体から剥離層、フレキシブル基板及びデバイスを一体として剥離する工程を含むフレキシブルデバイスの製造方法について、前記剥離層の求められる性質を以下のように検討した。
先ず、フレキシブル基板の上にデバイスを形成する際には、高温工程又は薬品を使う工程がある。例えば、デバイスが駆動回路用TFTを含む場合、TFTの半導体層にレーザーを照射する工程や、金属配線を形成するためにエッチングを行う工程などである。これら工程において剥離層が変質、変形しないように、剥離層には高温耐性及び薬品耐性を有することが求められる。
次に、フレキシブル基板の上にデバイスを形成する際には、フレキシブル基板を固定するために、剥離層と支持体との密着性が求められる。一方で、支持体から剥離層、フレキシブル基板及びデバイスを一体として剥離する際には、フレキシブル基板を破損させないために、支持体と剥離層との剥離性が求められる。すなわち、密着性と剥離性とは相反する性質であるが、これら性質の両方をバランス良く有することが剥離層に求められる。
さらに、フレキシブルデバイスの製造において、プロセスを簡素化しプロセス負荷を減らすために、塗布プロセスにより剥離層を形成することが求められる。
発明者は、上記(1)から(3)の性質を有する剥離層の材料を鋭意検討した。その一例として、各種の材料について、(1)高温耐性、薬品耐性、(2)密着性、剥離性、(3)塗布性等を評価する実験を行なった。
SiO系SOGは、中心金属であるシリコン(Si)が4つの結合手を有しており、その内の2つは隣接するSOG系分子との結合に用いられ、残りの2つは有機基(OR)、水酸基(OH)、炭化水素基(R)のうちのいずれかと結合していると考えられる。
SiO系SOGの一例であるアルキルシランアルコキシド誘導体を支持体であるガラス基板の上に塗布し、焼成することでSOG層を形成することができる。
TiO系SOGであるチタンアルコキシド誘導体を支持体であるガラスの上に塗布し、焼成することでSOG層を形成することができる。
上記のように、アルキルシランアルコキシド誘導体は、支持体であるガラスに対して剥離性を有しており、焼成温度の制御により、ガラスに対する剥離性の強弱を制御できる。すなわち、高温で焼成すれば剥離性は弱まり、密着性が発現し始める。一方、チタンアルコキシド誘導体は、焼成温度に因らず、支持体であるガラスに対して高い剥離性を有する。
適度な密着性を有し剥離可能な剥離層を得るために、(1)アルキルシランアルコキシド誘導体とチタンアルコキシド誘導体との混合比、及び、(2)焼成温度範囲について、鋭意検討を行なった。
以上により、図5に示すように、剥離層の表面の水酸基(OH)とガラス基板の表面の水酸基(OH)とを適度な確率で共有結合させ、ガラスに対する密着性と剥離性とのバランスを良くすることで、適度な密着性を有し剥離可能な剥離層を得ることができた。
以下、本発明の一態様に係るフレキシブルデバイスの製造方法及びフレキシブルデバイスについて、図面を参照しながら説明する。
先ず、図7に示すように、支持体1上に剥離層2を形成する(ステップS101)。
R1 mSi(OR2)4−m
で示されるものである。上式中のR1は炭素数1〜6の炭化水素基であり、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基などが挙げられる。また、R2は炭素数1〜10の炭化水素基であり、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-へキシル基、シクロへキシル基、n-オクチル基、n-デシル基、フェニル基、ビニル基、アリル基などが挙げられる。mは0〜2の整数が好ましい。
次に、図7に示すように、剥離層2の上にフレキシブル基板3を形成する(ステップS102)。フレキシブル基板3は、例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂等の絶縁性材料をベースとして形成されている。例えば、ポリイミド前駆体をスピンコーターにより塗布し、焼成することによってポリイミドを形成する。なお、この焼成は、徐々にまたは多段階で温度を上げる工程で行ってもよい。ボトムエミッション型のフレキシブルデバイスにおいて、フレキシブル基板3が紫外線をほとんど吸収しない材料(例えば、シリコーン系樹脂やポリオレフィン系樹脂等)で形成されている場合は、有機発光層が紫外線に晒されるのを防止するために、フレキシブル基板3の下面に紫外線吸収効果を有する酸化チタンを含む剥離層2が形成された本態様の構成がより有効である。
次に、図7に示すように、半導体装置の一例としてのTFTを形成する(ステップS103)。図8に示すように、TFTは、フレキシブル基板3の上面に形成されたゲート、ソース及びドレイン6の各電極で構成されており(図8では、ドレイン6のみを図示)、その上をパッシベーション膜7で被覆してなる構成を有する。なお、半導体装置としては、TFT以外に、MOSFET、CMOS等が挙げられる。
次に、図7に示すように、TFT上に絶縁層8を形成する(ステップS104)。図8に示すように、絶縁層8は、ドレイン6上の一部が露出するコンタクト孔8aが開けられ、その他の部分の上面が略平坦化されている。絶縁層8は、例えば、ポリイミド、ポリアミド、アクリル系樹脂材料などの有機化合物を用い形成されている。
次に、図7に示すように、絶縁層8上にアノード9を形成する(ステップS105)。図8に示すように、アノード9は、発光単位(サブピクセル)で区画され形成されており、コンタクト孔8aの側壁に沿って一部がドレイン6に接続されている。なお、アノード9は、例えば、スパッタリング法や真空蒸着法などにより金属膜を成膜した後、サブピクセル単位にエッチングすることで形成できる。アノード9は、例えば、AgまたはAlを含む金属材料から構成されている。本態様のようなトップエミッション型のフレキシブルデバイス5の場合には、その表面部が高い反射性を有することが好ましい。
次に、図7に示すように、アノード9の上面を覆うように透明導電膜10が形成されている(ステップS106)。図8に示すように、透明導電膜10は、アノード9の上面のみならず側端面も覆っており、また、コンタクト孔8a内においてもアノード9の上面を覆っている。なお、透明導電膜10は、上記同様に、スパッタリング法や真空蒸着法などを用い成膜した後、エッチングによりサブピクセル単位に区画することにより形成される。透明導電膜10は、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)若しくはIZO(Indium Zinc Oxide)などを用い形成される。
次に、図7に示すように、透明導電膜10上の一部にホール注入層11を形成する(ステップS107)。図8に示すように、ホール注入層11は、透明導電膜10上の全体ではなく、その一部に形成されているが、全体に形成することもできる。
図7に示すように、各サブピクセルを規定するバンク12を形成する(ステップS108)。図8に示すように、バンク12は、ホール注入層11の外縁部の一部を覆い、ホール注入層11で覆われていない透明導電膜10および絶縁層8の上に形成されている。
次に、図7および図8に示すように、ホール注入層11上におけるバンク12で規定された各凹部内には、ホール輸送層13が形成される(図7におけるステップS109)。ホール輸送層13は、その構成材料である有機化合物からなる膜を印刷法で成膜した後、焼成することで形成される。ホール輸送層13は、親水基を備えない高分子化合物を用い形成されている。例えば、ポリフルオレンやその誘導体、あるいはポリアリールアミンやその誘導体などの高分子化合物であって、親水基を備えないものなどを用いることができる。
次に、図7および図8に示すように、バンク12で規定された各凹部内におけるホール輸送層13上には、発光層14が形成される(図7におけるステップS110)。発光層14は、例えば、その構成材料である有機化合物からなる膜を印刷法で成膜した後、焼成することで形成される。発光層14は、上述のように、ホールと電子とが注入され再結合されることにより励起状態が生成され発光する機能を有する。発光層14の形成に用いる材料は、例えば、湿式印刷法を用い製膜できる発光性の有機材料を用いることが必要である。
次に、図7および図8に示すように、バンク12で規定された各凹部内における発光層14上には、電子輸送層15が形成される(図7におけるステップS111)。電子輸送層15は、カソード16から注入された電子を発光層14へ輸送する機能を有し、例えば、オキサジアゾール誘導体(OXD)、トリアゾール誘導体(TAZ)、フェナンスロリン誘導体(BCP、Bphen)などを用い形成されている。
次に、図7に示すように、電子輸送層15上にカソード16を積層する(ステップS112)。図8に示すように、カソード16は、バンク12の頂面も被覆するように、フレキシブル基板3の上方全体に亘って形成されている。カソード16は、例えば、ITO若しくはIZOなどを用い形成される。本態様のようなトップエミッション型のフレキシブルデバイス5の場合は、光透過性の材料で形成されることが好ましい。光透過性については、透過率が80%以上とすることが好ましい。
次に、図7に示すように、カソード16上に封止層17を積層する(ステップS113)。図8に示すように、封止層17は、バンク12の頂面も被覆するように形成されており、全面に形成されている。封止層17は、発光層14などの有機層が水分に晒されたり、空気に晒されたりすることを抑制する機能を有し、例えば、窒化シリコン(SiN)、酸窒化シリコン(SiON)などの材料を用い形成される。また、SiN、SiONなどの材料を用い形成された層の上に、アクリル樹脂、シリコーン樹脂などの樹脂材料からなる封止樹脂層を設けてもよい。
次に、図7に示すように、封止層17上に接着樹脂材を塗布し、予め準備しておいたCF(カラーフィルタ)パネル19を接合する(ステップS114,S115)。図8に示すように、接着樹脂層18により接合されるCFパネル19は、基板19aの下面にカラーフィルタ19bおよびブラックマトリクス19cが形成されてなる。
最後に、図7に示すように、支持体1から剥離層2より上を剥がして、フレキシブルデバイス5が完成する(ステップS116)。以上のようにして得られたフレキシブルデバイス5は、フレキシブル基板2のデバイスが形成されている側とは反対側の面に剥離層2を有する。
2A 薄膜
2 剥離層
3 フレキシブル基板
4 デバイス
5 フレキシブルデバイス
Claims (7)
- 表面に水酸基を有する支持体の上に所定の溶液を塗布して薄膜を形成する第1工程と、
前記薄膜を焼成して剥離層を形成する第2工程と、
前記剥離層の上にフレキシブル基板を形成する第3工程と、
前記フレキシブル基板の上にデバイスを形成する第4工程と、
前記支持体と前記剥離層との間を境に、前記支持体から、前記剥離層、前記フレキシブル基板及び前記デバイスを剥離する第5工程と、を含み、
前記所定の溶液はアルキルシランアルコキシド誘導体とチタンアルコキシド誘導体とを含み、
前記第2工程において、前記所定の溶液を塗布して形成される薄膜の焼成温度は、200℃以上350℃以下であり、
前記焼成温度が200℃以上270℃未満の場合、前記アルキルシランアルコキシド誘導体に含まれるシリコン原子数と、前記チタンアルコキシド誘導体に含まれるチタン原子数との比は、3.3〜4.1:1であり、
前記焼成温度が270℃以上330℃以下の場合、前記比は、3.3〜23:1であり、
前記焼成温度が330℃を超え〜350℃以下の場合、前記比は、19〜23:1である
フレキシブルデバイスの製造方法。 - 前記第3工程において、前記フレキシブル基板は、前記剥離層の上に塗布法により形成される
請求項1記載のフレキシブルデバイスの製造方法。 - 前記第3工程において、前記フレキシブル基板は、ポリイミドにより形成される
請求項1又は請求項2に記載のフレキシブルデバイスの製造方法。 - 前記第3工程において、前記フレキシブル基板の膜厚は、5〜60μmの厚さで形成される
請求項1乃至請求項3のいずれか一に記載のフレキシブルデバイスの製造方法。 - 前記デバイスは、半導体装置を含む
請求項1乃至請求項4のいずれか一に記載のフレキシブルデバイスの製造方法。 - 前記デバイスは、表示装置を含む
請求項1乃至請求項5のいずれか一に記載のフレキシブルデバイスの製造方法。 - 前記表示装置は、有機ELである
請求項6に記載のフレキシブルデバイスの製造方法。
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