JP6067404B2 - 保護皮膜の被覆方法及び被覆形成装置 - Google Patents
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 110
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 92
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 41
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 title claims description 34
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 213
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 213
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 92
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 46
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 27
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 25
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 11
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 claims description 5
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 92
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 2
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Dicing (AREA)
Description
2、12、16 樹脂塗布手段
3、13 樹脂吸収手段
4、14 保持テーブル
5 第1の移動手段
6 第2の移動手段
7 ウエーハの加工面
8 液体樹脂
20、121 塗布部材
23 塗布基台
24 吐出口
25、125 貯留タンク(液体樹脂供給源)
26 供給路
30、131 吸収部材
33 回転軸
34 吸引口
35 吸引源
36 吸引路
37、132 吸引バルブ
80 樹脂層
124 樹脂供給源(液体樹脂供給源)
W ウエーハ
Claims (5)
- ウエーハの加工面を樹脂による保護被膜で被覆する保護被膜の被覆方法であって、
ウエーハの該加工面の反対面を保持面を有する保持テーブルで保持する保持工程と、該保持工程に保持されたウエーハの加工面の全面に樹脂塗布手段で液体樹脂を塗布する塗布工程と、該塗布工程で加工面上に塗布された液体樹脂の表面を樹脂吸収手段で所定厚みの樹脂層を残して余分な樹脂を吸収して整える吸収工程とによってウエーハの加工面に保護被膜を被覆し、
該吸収工程で吸収した液体樹脂を貯留タンクに回収して再利用する保護被膜の被覆方法。 - 該塗布工程における該樹脂塗布手段は、液体樹脂を吐出させる吐出口と、該吐出口を液体樹脂供給源に連通させる供給路を備える塗布基台と、該塗布基台の該吐出口を覆って装着される多孔質の塗布部材とを備え、
該吸引工程における該樹脂吸収手段は、多孔質で円筒状の側面を該加工面に接触させる吸収部材と、該吸収部材の中心を貫通する回転軸とを備えることを特徴とする請求項1記載の保護被膜の被覆方法に使用する被覆形成装置。 - 該樹脂塗布手段を該保持面に対して平行に移動させる第1の移動手段と、該樹脂吸収手段を該保持面に対して平行に移動させる第2の移動手段とを備える請求項2記載の被覆形成装置。
- 該樹脂吸収手段において、該回転軸の側面に配設される吸引口と、該回転軸の内部を通過し該吸引口を吸引源に連通させる吸引路と、該吸引路を開通および遮断する吸引バルブとを含んで構成され、
該吸収部材が吸収した液体樹脂を該吸引バルブを開き吸引させる請求項2又は請求項3記載の被覆形成装置。 - 該第1の移動手段と該第2の移動手段に代わって、該保持テーブルを該樹脂塗布手段及び該樹脂吸収手段に対して平行に移動させるテーブル移動手段を備え、該テーブル移動手段による該保持テーブルの進行方向に該樹脂塗布手段、次いで該樹脂吸収手段の順で配設させ、該保持テーブルの移動で該塗布工程と該吸収工程とを遂行させる請求項3記載の被覆形成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013026632A JP6067404B2 (ja) | 2013-02-14 | 2013-02-14 | 保護皮膜の被覆方法及び被覆形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013026632A JP6067404B2 (ja) | 2013-02-14 | 2013-02-14 | 保護皮膜の被覆方法及び被覆形成装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014155883A JP2014155883A (ja) | 2014-08-28 |
JP6067404B2 true JP6067404B2 (ja) | 2017-01-25 |
Family
ID=51577149
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013026632A Active JP6067404B2 (ja) | 2013-02-14 | 2013-02-14 | 保護皮膜の被覆方法及び被覆形成装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6067404B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6677664B2 (ja) * | 2017-02-24 | 2020-04-08 | 株式会社エナテック | 塗布装置及び塗布方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5102491A (en) * | 1988-12-09 | 1992-04-07 | Morton International, Inc. | Wet lamination process and apparatus |
JPH08294663A (ja) * | 1995-04-27 | 1996-11-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布方法 |
JPH1085641A (ja) * | 1996-09-10 | 1998-04-07 | Toshiba Microelectron Corp | 液体塗布方法および液体塗布装置 |
JP2001269610A (ja) * | 2000-01-17 | 2001-10-02 | Canon Inc | 塗布方法、塗布装置および被膜の作製方法 |
JP5133855B2 (ja) * | 2008-11-25 | 2013-01-30 | 株式会社ディスコ | 保護膜の被覆方法 |
-
2013
- 2013-02-14 JP JP2013026632A patent/JP6067404B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014155883A (ja) | 2014-08-28 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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R250 | Receipt of annual fees |
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