JP6051566B2 - 飽和環構造を有する重合性化合物 - Google Patents

Description

本発明は重合性基を有する化合物、当該化合物を含有する重合性組成物及び当該重合性組成物を用いた光学異方体に関する。

重合性基を有する化合物（重合性化合物）は種々のフィルムの原料として使用される。例えば、重合性化合物を含む重合性組成物を液晶状態で配列させた後、重合させることにより、均一な配向を有するフィルム状の重合体を作製することが可能である。このようにして作製したフィルムは、ディスプレイに必要な偏光板、位相差板等に使用することができる。多くの場合、要求される光学特性、重合速度、溶解性、融点、ガラス転移温度、フィルムの透明性、機械的強度、表面硬度、耐熱性及び耐光性を満たすために、２種類以上の重合性化合物を含む重合性組成物が使用される。その際、使用する重合性化合物には、他の特性に悪影響を及ぼすことなく、重合性組成物に良好な物性をもたらすことが求められる。ディスプレイ等の光学補償用に使用される位相差板においては、重合前の重合性組成物を調製した際に、長時間保管しても重合性組成物から、その成分中の重合性化合物が析出することが無いこと、そして、重合性組成物を重合させフィルム状の重合物を作製した際に、温度によって重合物の位相差が変化しにくいことが特に重要である。

光学補償用の位相差板は、１／２波長板や１／４波長板等があり、ディスプレイ等の視野角拡大及び偏光変換にも使用されている。一般的な位相差板には位相差の波長依存性があることが知られている。そのような位相差板を視野角補償や偏光変換のために使用すると、偏光軸のズレによって、見る角度によって光漏れが生じたり、色ズレが生じてしまう問題がある。波長依存特性は、波長λにおける位相差Ｒｅ（λ）を５５０ｎｍにおける位相差Ｒｅ（５５０）で割った値Ｒｅ（λ）／Ｒｅ（５５０）で表されるが、この値が１に近いほど波長依存性が小さく位相差板として好ましい。これまで、位相差の波長依存性を小さくする目的で種々の重合性化合物が開発されてきた。例えば、シクロヘキサン骨格を有する重合性化合物が報告されている。しかしながらこれらの重合性化合物を重合性組成物に多く添加した場合、当該重合性組成物を用いて作製したフィルムの位相差の温度変化が大きくなってしまう問題があった（特許文献１〜特許文献３参照）。また、当該分野において種々の重合性化合物が報告されてきたが（特許文献４〜特許文献８参照）、それらの重合性化合物は、重合性組成物に添加した場合に結晶の析出が起こり、保存安定性が不十分であった。

特開２０１０−００１２８４号公報 特開２０１１−２４６３６５号公報 特開２００８−１１０９４８号公報 特開２０１０−０２４４３８号公報 特開平１０−０８７５６５号公報 特開２００３−３１５５５３号公報 特開２００７−２４１０１１号公報 特表２００５−５３４９９３号公報

本発明が解決しようとする課題は、重合性組成物に添加した際に結晶の析出等が起こらず高い保存安定性を有するような重合性化合物を提供し、当該重合性化合物を含有する重合性組成物を重合して得られる重合物を作製した際に当該重合物の位相差の波長依存性及び位相差の温度変化が小さい重合性組成物を提供することである。更に、当該重合性組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供することである。

本願発明の化合物は、２つの重合性基、飽和環式骨格及び、メトキシ基を少なくとも１つ有する不飽和環式骨格を有する化合物及び当該化合物を用いた重合性組成物を提供する。

本願発明の化合物を含有する重合性組成物は、保存安定性が高いことから、本願発明の化合物は重合性組成物の構成部材として有用である。また、本願発明の化合物を含有する重合性組成物を重合して得られる光学異方体は、位相差の波長依存性及び位相差の温度変化が小さいことから光学補償用の用途に有用である。

本願発明は一般式（Ｉ）

（式中、Ｐ^１及びＰ^２は各々独立して下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−１７）

から選ばれる基を表し、Ｓ^１及びＳ^２は各々独立して１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基又は単結合を表し、Ｘ^１及びＸ^２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＹ^１＝ＣＹ^２−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し（式中、Ｙ^１及びＹ^２は各々独立して水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表す。）、Ａ^１及びＡ^２は各々独立して１，４−フェニレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニレン基、１，４−ビシクロ［２．２．２］オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，６−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換又は、各々独立してシアノ基、ニトロ基、炭素原子数１から７のアルキル基、炭素原子数１から７のアルコキシ基又は炭素原子数１から７のアルカノイル基によって置換されていても良く、これらのアルキル基、アルコキシ基又はアルカノイル基は各々独立して１個以上の水素原子がフッ素原子又は塩素原子により置き換えられても良く、Ｚ^１及びＺ^２は各々独立して単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＹ^３＝ＣＹ^４−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し（式中、Ｙ^３及びＹ^４は各々独立して水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表す。）、Ｂは下記の式（Ｂ−１）から式（Ｂ−１０）

から選ばれる基を表し、ｍ１及びｍ２は各々独立して０から３の整数を表すがｍ１及びｍ２が同時に０であることは無く、ｍ１が１、２又は３の場合の−Ｘ^１−（Ａ^１−Ｚ^１）_ｍ１−及びｍ２が１、２又は３の場合の−（Ｚ^２−Ａ^２）_ｍ２−Ｘ^２−の構造内に、少なくとも１つの一般式（ｉ）又は／及び（ｉｉ）

（式中、Ｙ^１１〜Ｙ^２４は各々独立して炭素原子数１から７のアルコキシ基又は水素原子表すが、存在するＹ^１１〜Ｙ^１４のうち少なくとも１つは炭素原子数１から７のアルコキシ基を表し、存在するＹ^２１〜Ｙ^２４のうち少なくとも１つは炭素原子数１から７のアルコキシ基を表す。）で表される構造単位を含む。）で表される化合物を提供し、併せて当該化合物を含有する重合性組成物、当該重合性組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。

一般式（Ｉ）において、Ｐ^１及びＰ^２は式（Ｐ−１）から式（Ｐ−１７）で表される重合性基を表し、これらの重合性基はラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合及びアニオン重合により硬化する。特に重合方法として紫外線重合を行う場合には、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−３）、式（Ｐ−４）、式（Ｐ−５）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−１１）、式（Ｐ−１３）又は式（Ｐ−１５）が好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−１１）又は式（Ｐ−１３）がより好ましく、式（Ｐ−１）又は式（Ｐ−２）が特に好ましい。

Ｓ^１及びＳ^２は各々独立して１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基又は単結合を表すが、液晶性及び他の成分との相溶性の観点から炭素原子数１から８のアルキレン基又は単結合が好ましく、炭素原子数１から８のアルキレン基が特に好ましい。

Ｘ^１及びＸ^２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＹ^１＝ＣＹ^２−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが（式中、Ｙ^１及びＹ^２は各々独立して水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表す。）、合成上の容易さから−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−又は単結合が好ましく、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合が特に好ましい。

Ａ^１及びＡ^２は各々独立して１，４−フェニレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニレン基、１，４−ビシクロ［２．２．２］オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，６−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換又は、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１から７のアルキル基、炭素原子数１から７のアルコキシ基又は炭素原子数１から７のアルカノイル基によって置換されていても良く、これらのアルキル基、アルコキシ基又はアルカノイル基は１個以上の水素原子がフッ素原子又は塩素原子により置き換えられても良いが、Ａ^１及びＡ^２のうち少なくとも一つは１個以上の水素原子がフッ素原子又は塩素原子により置き換えられても良い炭素原子数２から７のアルキル基、１個以上の水素原子がフッ素原子又は塩素原子により置き換えられても良い炭素原子数１から７のアルコキシ基又は１個以上の水素原子がフッ素原子又は塩素原子により置き換えられても良い炭素原子数２から７のアルカノイル基によって置換されている１，４−フェニレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニレン基、１，４−ビシクロ［２．２．２］オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，６−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、合成上の容易さ及び保存安定性への影響から、Ａ^１及びＡ^２のうち少なくとも一つが炭素原子数２から７のアルキル基、炭素原子数１から７のアルコキシ基によって置換されている１，４−フェニレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基、１，４−シクロヘキシレン基であり、その他のＡ^１及びＡ^２が各々独立して無置換又は、炭素原子数１から７のアルキル基、炭素原子数１から７のアルコキシ基又は炭素原子数１から７のアルカノイル基によって置換された１，４−フェニレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基又は１，４−シクロヘキシレン基である場合が好ましく、Ａ^１及びＡ^２のうち少なくとも一つが炭素原子数２から７のアルキル基、炭素原子数１から７のアルコキシ基によって置換されている１，４−フェニレン基であり、その他のＡ^１及びＡ^２が各々独立して無置換又は、炭素原子数２から７のアルキル基又は炭素原子数１から７のアルコキシ基によって置換された１，４−フェニレン基又は無置換の１，４−シクロヘキシレン基である場合がより好ましく、少なくとも一つのＡ^１及び少なくとも一つのＡ^２が炭素原子数１から５のアルコキシ基によって置換されている１，４−フェニレン基である場合がさらに好ましく、少なくとも一つのＡ^１及び少なくとも一つのＡ^２が炭素原子数１から５のアルコキシ基によって置換されている同一の１，４−フェニレン基である場合が特に好ましい。

Ｚ^１及びＺ^２は各々独立して単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＹ^１＝ＣＹ^２−又は−Ｃ≡Ｃ−を表すが（式中、Ｙ^１及びＹ^２は各々独立して水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表す。）、合成上の容易さ及び液晶性の観点から単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−が好ましく、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−又は−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−がより好ましく、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−又は−ＣＨ_２ＣＨ_２−がさらに好ましく、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＨ_２−又は−ＣＨ_２Ｏ−が特に好ましい。

Ｂは式（Ｂ−１）から式（Ｂ−１０）から選ばれる基を表すが、合成上の容易さから式（Ｂ−１）、式（Ｂ−８）、式（Ｂ−９）又は式（Ｂ−１０）で表される基が好ましく、式（Ｂ−１）又は式（Ｂ−９）で表される基が特に好ましい。

さらに一般式（Ｉ）は、一般式（ｉ）及び／又は一般式（ｉｉ）で表される構造単位を少なくとも一つ含むが、存在するＹ^１１〜Ｙ^１４のうち少なくとも１つは炭素原子数１から３のアルコキシ基であることが好ましく、存在するＹ^２１〜Ｙ^２４のうち少なくとも１つは炭素原子数１から３のアルコキシ基であることが好ましく、炭素原子数が１であるメトキシ基が好ましい。一般式（ｉ）で表される構造単位はＹ^１２がメトキシ基であることが好ましく、下記の式（ｉ−１）及び（ｉ−２）

で表される構造が好ましい。一般式（ｉｉ）で表される構造単位はＹ^２１がメトキシ基であることが好ましく、下記の式（ｉｉ−１）及び（ｉｉ−２）

で表される構造が好ましい。ここで、ｍ１が１、２又は３の場合の−Ｘ^１−（Ａ^１−Ｚ^１）_ｍ１−及びｍ２が１、２又は３の場合の−（Ｚ^２−Ａ^２）_ｍ２−Ｘ^２−の構造内に、少なくとも１つの一般式（ｉ）又は／及び（ｉｉ）で表される構造単位を含むとは、ｍ１が２又は３である場合において、−Ｚ^１−Ａ^１−Ｚ^１−の構造内に、少なくとも１つの一般式（ｉ）又は／及び（ｉｉ）で表される構造単位を含むこと、ｍ１が１、２又は３である場合において、−Ｘ^１−Ａ^１−Ｚ^１−の構造内に、少なくとも１つの一般式（ｉ）又は／及び（ｉｉ）で表される構造単位を含むこと、ｍ２が２又は３である場合において、−Ｚ^２−Ａ^２−Ｚ^２−の構造内に、少なくとも１つの一般式（ｉ）又は／及び（ｉｉ）で表される構造単位を含むこと、ｍ２が１、２又は３である場合において、−Ｘ^２−Ａ^２−Ｚ^２−の構造内に、少なくとも１つの一般式（ｉ）又は／及び（ｉｉ）で表される構造単位を含むことを意味し、例えば、ｍ１が１である場合において、Ｓ^１−Ｘ^１−Ａ^１−Ｚ^１−Ｂの部分構造が下記の式（α）及び（β）

である場合には、一般式（１）で表される化合物中に当該構造が含まれることを意味する。また、一般式（１）で表される化合物中に１個又は複数個の一般式（ｉ）又は／及び（ｉｉ）で表される構造単位が含まれていればよく、Ｂと直接連結する−Ｚ^１−Ａ^１−Ｚ^１−、−Ｘ^１−Ａ^１−Ｚ^１−、−Ｚ^２−Ａ^２−Ｚ^２−及び／又は−Ｘ^２−Ａ^２−Ｚ^２−に一般式（ｉ）又は／及び（ｉｉ）で表される構造単位を含むことが好ましい。合成上の容易さ及び原料の入手の容易さの観点からこのうち式（ｉ−１）及び／又は式（ｉ−２）で表される構造単位を有する場合が好ましく、少なくとも一つの式（ｉ−１）で表される構造単位及び少なくとも一つの式（ｉ−２）で表される構造単位を有する場合がさらに好ましい。

ｍ１及びｍ２は同時に０であることは無く各々独立して０から３の整数を表すが、保存安定性の観点からｍ１及びｍ２が同時に０であることは無く各々独立して０から２の整数を表す場合が好ましく、ｍ１＋ｍ２が１、２、３又は４であることが好ましく、２又は３が好ましく、２が特に好ましい、合成上の容易さからｍ１及びｍ２が同時に１を表すか又はｍ１及びｍ２が同時に２を表す場合がより好ましく、ｍ１及びｍ２が同時に１を表す場合が特に好ましい。

さらに合成上の容易さから一般式（Ｉ）において、Ｐ^１及びＰ^２が同一の基を表し、Ｓ^１及びＳ^２が同一の基を表し、Ｘ^１及びＸ^２が同一の基を表し、Ａ^１及びＡ^２が同一の基を表し、Ｚ^１及びＺ^２が同一の基を表し、ｍ１及びｍ２が同一の整数を表す場合が特に好ましい。この場合、一般式（１）で表される化合物はＢを中心として対称な構造となる。

一般式（Ｉ）で表される化合物としては、下記の式（Ｉ−ａ）から式（Ｉ−ｈ）で表される化合物が好ましい。

一般式（Ｉ）で表される化合物としてさらに具体的には、下記の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−６６）で表される化合物が好ましい。

本願発明の化合物は以下の製法で製造することができる。
（製法１）下記式（Ｓ−１３）で表される化合物の製造

式（Ｓ−１）で表される化合物の一方のカルボキシ基を保護基（ＰＧ１）により保護する。保護基（ＰＧ１）の種類としては、反応過程において式（Ｓ−２）で表される化合物を与えるものであり、以降の工程において安定に当該カルボキシ基を保護しうるものであれば特に制限は無いが、例えば、ＧＲＥＥＮＥ’Ｓ ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ ＧＲＯＵＰＳ ＩＮ ＯＲＧＡＮＩＧ ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ（（Ｆｏｕｒｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ）、ＰＥＴＥＲ Ｇ．Ｍ．ＷＵＴＳ、ＴＨＥＯＤＯＲＡ Ｗ．ＧＲＥＥＮＥ共著、Ａ Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）に挙げられている保護基が特に好ましい。

式（Ｓ−２）で表される化合物を例えば縮合剤及び塩基存在下、式（Ｓ−３）で表される化合物と反応させることにより式（Ｓ−４）で表される中間体を得ることができる。縮合剤としては、反応過程において式（Ｓ−４）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩、Ｎ−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］−Ｎ’−エチルカルボジイミド、Ｎ−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］−Ｎ’−エチルカルボジイミドメチオジド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルーＮ’−エチルカルボジイミド、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−（２−モルホリノエチル）カルボジイミド メト−ｐ−トルエンスルホナート、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルカルボジイミド、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｐ−トリルカルボジイミド並びにその他のカルボジイミドが挙げられる。また、カルボジイミドの他、トリアジン系縮合剤、酸塩化物、酸無水物並びにその他の縮合剤が挙げられる。塩基としては、反応過程において式（Ｓ−４）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、例えば、第一級アミン、第二級アミン、第三級アミン又は芳香族アミン並びに当該アミン塩が利用可能であり、収率の観点から第三級アミン又は芳香族アミン並びに当該アミン塩がより好ましい。具体的には、トリメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルペンチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルペンチルアミン、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルペンチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルプロピルアミン、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルエチルアミン、トリプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、Ｎ−メチルジイソプロピルアミン、Ｎ−エチルジイソプロピルアミン、Ｎ−プロピルジイソプロピルアミン、Ｎ−ブチルジイソプロピルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルピリジン、２−クロロピリジン、２−ブロモピリジン、ピペリジン、ピリミジン、キノリン、アクリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン、ピコリン、ビピリジン、２，６−ルチジン、クロロクロム酸ピリジニウム、ピリジニウムパラトルエンスルホナート並びにその他の第三級アミン又は芳香族アミン並びに当該アミン塩が挙げられる。また、必要に応じて反応溶媒を使用することができる。反応溶媒としては、反応過程において式（Ｓ−４）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、好ましい反応溶媒として例えば、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，２−ジクロロエチレン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、１−クロロブタン、二硫化炭素、アセトン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ｏ−ジクロロベンゼン、キシレン、ｏ−キシレン、ｐ−キシレン、ｍ−キシレン、クロロベンゼン、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソアミル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸２−メトキシエチル、ヘキサメチルリン酸トリアミド、トリス（ジメチルアミノ）ホスフィン、シクロヘキサノン、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、スチレン、テトラクロロエチレン、テトラヒドロフラン、ピリジン、１−メチル−２−ピロリジノン、１，１，１−トリクロロエタン、トルエン、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン、シクロペンタン、ヘプタン、ベンゼン、メチルイソブチルケトン、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、メチルエチルケトン、メチルシクロヘキサノン、メチルブチルケトン、ジエチルケトン、ガソリン、コールタールナフサ、石油エーテル、石油ナフサ、石油ベンジン、テレビン油、ミネラルスピリットが挙げられる。反応条件として、例えば、実験化学講座（日本化学会編、丸善株式会社発行）、Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ（Ａ Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）、Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ−Ｉｎｓｔｉｔｕｔ ｆｕｅｒ Ｌｉｔｅｒａｔｕｒ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ Ｂｅｒｌｉｎ ａｎｄ Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ．Ｋ）、Ｆｉｅｓｅｒｓ’ Ｒｅａｇｅｎｔｓ ｆｏｒ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．）等の文献若しくはＳｃｉＦｉｎｄｅｒ又はＲｅａｘｙｓ等のデータベースに挙げられている条件が特に好ましい。

式（Ｓ−４）で表される化合物の保護基（ＰＧ２）を脱保護する。脱保護の反応条件としては、反応過程において式（Ｓ−５）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、例えば、ＧＲＥＥＮＥ’Ｓ ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ ＧＲＯＵＰＳ ＩＮ ＯＲＧＡＮＩＧ ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ（（Ｆｏｕｒｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ）、ＰＥＴＥＲ Ｇ．Ｍ．ＷＵＴＳ、ＴＨＥＯＤＯＲＡ Ｗ．ＧＲＥＥＮＥ共著、Ａ Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）に挙げられている反応条件が特に好ましい。

式（Ｓ−５）で表される化合物を例えば縮合剤及び塩基存在下、式（Ｓ−６）で表される化合物と反応させることにより式（Ｓ−７）で表される中間体を得ることができる。縮合剤、塩基及び反応溶媒としては、反応過程において式（Ｓ−７）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、例えば前記条件が利用可能である。

式（Ｓ−７）で表される化合物の保護基（ＰＧ１）を脱保護する。脱保護の反応条件としては、反応過程において式（Ｓ−８）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、例えば、ＧＲＥＥＮＥ’Ｓ ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ ＧＲＯＵＰＳ ＩＮ ＯＲＧＡＮＩＧ ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ（（Ｆｏｕｒｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ）、ＰＥＴＥＲ Ｇ．Ｍ．ＷＵＴＳ、ＴＨＥＯＤＯＲＡ Ｗ．ＧＲＥＥＮＥ共著、Ａ Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）に挙げられている反応条件が特に好ましい。

式（Ｓ−８）で表される化合物を例えば縮合剤及び塩基存在下、式（Ｓ−９）で表される化合物と反応させることにより式（Ｓ−１０）で表される中間体を得ることができる。縮合剤、塩基及び反応溶媒としては、反応過程において式（Ｓ−１０）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、例えば前記条件が利用可能である。

式（Ｓ−１０）で表される化合物の保護基（ＰＧ３）を脱保護する。脱保護の反応条件としては、反応過程において式（Ｓ−１１）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、例えば、ＧＲＥＥＮＥ’Ｓ ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ ＧＲＯＵＰＳ ＩＮ ＯＲＧＡＮＩＧ ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ（（Ｆｏｕｒｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ）、ＰＥＴＥＲ Ｇ．Ｍ．ＷＵＴＳ、ＴＨＥＯＤＯＲＡ Ｗ．ＧＲＥＥＮＥ共著、Ａ Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）に挙げられている反応条件が特に好ましい。

式（Ｓ−１１）で表される化合物を例えば縮合剤及び塩基存在下、式（Ｓ−１２）で表される化合物と反応させることにより目的の式（Ｓ−１３）で表される化合物を得ることができる。縮合剤、塩基及び反応溶媒としては、反応過程において式（Ｓ−１３）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、例えば前記条件が利用可能である。
（製法２）下記式（Ｓ−２４）で表される化合物の製造

式（Ｓ−１４）で表される化合物の一方のヒドロキシ基を保護基（ＰＧ１）により保護する。保護基（ＰＧ１）の種類としては、反応過程において式（Ｓ−１５）で表される化合物を与えるものであり、以降の工程において安定に当該ヒドロキシ基を保護しうるものであれば特に制限は無いが、例えば、ＧＲＥＥＮＥ’Ｓ ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ ＧＲＯＵＰＳ ＩＮ ＯＲＧＡＮＩＧ ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ（（Ｆｏｕｒｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ）、ＰＥＴＥＲ Ｇ．Ｍ．ＷＵＴＳ、ＴＨＥＯＤＯＲＡ Ｗ．ＧＲＥＥＮＥ共著、Ａ Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）に挙げられている保護基が特に好ましい。

式（Ｓ−１５）で表される化合物を式（Ｓ−１６）で表される化合物と脱水縮合させることにより、式（Ｓ−１７）で表される中間体を得ることができる。式（Ｓ−１６）で表される化合物がフェノール性ヒドロキシ基を有する場合、例えば光延反応が可能である。アゾジカルボン酸エステルとしては、アゾジカルボン酸ジエチル、アゾジカルボン酸ジメチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルアゾジカルボキサミド、１，１’−（アゾジカルボニル）ジピペリジン、アゾジカルボン酸ビス（２，２，２−トリクロロエチル）、アゾジカルボン酸ジベンジル、アゾジカルボン酸ジｔｅｒｔ−ブチル等が利用可能である。ホスフィンとしては、ジシクロヘキシルフェニルホスフィン、ジエチルフェニルホスフィン、４−（ジメチルアミノ）フェニルジフェニルホスフィン、ベンジルジフェニルホスフィン樹脂、ジフェニル−２−ピリジルホスフィン、イソプロピルジフェニルホスフィン、フェノキシジフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリヘキシルホスフィン、トリｎ−オクチルホスフィン、トリフェニルホスフィン等が利用可能である。または、シアノメチレントリブチルホスホランが利用可能である。光延反応以外にも、例えば式（Ｓ−１５）で表される化合物の水酸基をメシラート又はトシラート等の脱離基へと変換した後、ウィリアムソン反応により式（Ｓ−１６）で表される化合物と反応させることも可能である。式（Ｓ−１６）で表される化合物がアルコール性ヒドロキシ基を有する場合、例えば式（Ｓ−１５）で表される化合物又は式（Ｓ−１６）で表される化合物のいずれか一方の水酸基をメシラート又はトシラート等の脱離基へと変換し、他方の水酸基をアルコキシドへと変換し、両化合物をウィリアムソン反応により反応させることにより、式（Ｓ−１７）で表される中間体を得ることができる。その他の方法として、例えば、実験化学講座（日本化学会編、丸善株式会社発行）、Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ（Ａ Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）、Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ−Ｉｎｓｔｉｔｕｔ ｆｕｅｒ Ｌｉｔｅｒａｔｕｒ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ Ｂｅｒｌｉｎ ａｎｄ Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ．Ｋ）、Ｆｉｅｓｅｒｓ’ Ｒｅａｇｅｎｔｓ ｆｏｒ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．）等の文献若しくはＳｃｉＦｉｎｄｅｒ又はＲｅａｘｙｓ等のデータベースに挙げられている類似の反応が利用可能である。

式（Ｓ−１７）で表される化合物の保護基（ＰＧ２）を脱保護する。脱保護の反応条件としては、反応過程において式（Ｓ−１８）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、例えば、ＧＲＥＥＮＥ’Ｓ ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ ＧＲＯＵＰＳ ＩＮ ＯＲＧＡＮＩＧ ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ（（Ｆｏｕｒｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ）、ＰＥＴＥＲ Ｇ．Ｍ．ＷＵＴＳ、ＴＨＥＯＤＯＲＡ Ｗ．ＧＲＥＥＮＥ共著、Ａ Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）に挙げられている反応条件が特に好ましい。

式（Ｓ−１８）で表される化合物を式（Ｓ−６）で表される化合物と脱水縮合させることにより、式（Ｓ−１９）で表される中間体を得ることができる。反応方法としては例えば前記記載の条件が利用可能である。

式（Ｓ−１９）で表される化合物の保護基（ＰＧ１）を脱保護する。脱保護の反応条件としては、反応過程において式（Ｓ−２０）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、例えば、ＧＲＥＥＮＥ’Ｓ ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ ＧＲＯＵＰＳ ＩＮ ＯＲＧＡＮＩＧ ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ（（Ｆｏｕｒｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ）、ＰＥＴＥＲ Ｇ．Ｍ．ＷＵＴＳ、ＴＨＥＯＤＯＲＡ Ｗ．ＧＲＥＥＮＥ共著、Ａ Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）に挙げられている反応条件が特に好ましい。

式（Ｓ−２０）で表される化合物を式（Ｓ−２１）で表される化合物と脱水縮合させることにより、式（Ｓ−２２）で表される中間体を得ることができる。反応方法としては例えば前記記載の条件が利用可能である。

式（Ｓ−２２）で表される化合物の保護基（ＰＧ３）を脱保護する。脱保護の反応条件としては、反応過程において式（Ｓ−２３）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、例えば、ＧＲＥＥＮＥ’Ｓ ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ ＧＲＯＵＰＳ ＩＮ ＯＲＧＡＮＩＧ ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ（（Ｆｏｕｒｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ）、ＰＥＴＥＲ Ｇ．Ｍ．ＷＵＴＳ、ＴＨＥＯＤＯＲＡ Ｗ．ＧＲＥＥＮＥ共著、Ａ Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）に挙げられている反応条件が特に好ましい。

式（Ｓ−２３）で表される化合物を式（Ｓ−１２）で表される化合物と脱水縮合させることにより、目的の式（Ｓ−２４）で表される化合物を得ることができる。反応方法としては例えば前記記載の条件が利用可能である。
（製法３）下記式（Ｓ−２８）で表される化合物の製造

式（Ｓ−２５）で表される化合物を、塩基存在下、塩化メタクリロイルと反応させることにより、式（Ｓ−２６）で表される中間体を得ることができる。塩基としては、反応過程において式（Ｓ−２６）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、例えば、第一級アミン、第二級アミン、第三級アミン又は芳香族アミン並びに当該アミン塩が利用可能であり、収率の観点から第三級アミン又は芳香族アミン並びに当該アミン塩がより好ましい。具体的には、トリメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルペンチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルペンチルアミン、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルペンチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルプロピルアミン、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルエチルアミン、トリプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、Ｎ−メチルジイソプロピルアミン、Ｎ−エチルジイソプロピルアミン、Ｎ−プロピルジイソプロピルアミン、Ｎ−ブチルジイソプロピルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルピリジン、２−クロロピリジン、２−ブロモピリジン、ピペリジン、ピリミジン、キノリン、アクリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン、ピコリン、ビピリジン、２，６−ルチジン、クロロクロム酸ピリジニウム、ピリジニウムパラトルエンスルホナート並びにその他の第三級アミン又は芳香族アミン並びに当該アミン塩が挙げられる。また、必要に応じて反応溶媒を使用することができる。反応溶媒としては、反応過程において式（Ｓ−２６）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、好ましい反応溶媒として例えば、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，２−ジクロロエチレン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、１−クロロブタン、二硫化炭素、アセトン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ｏ−ジクロロベンゼン、キシレン、ｏ−キシレン、ｐ−キシレン、ｍ−キシレン、クロロベンゼン、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソアミル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸２−メトキシエチル、ヘキサメチルリン酸トリアミド、トリス（ジメチルアミノ）ホスフィン、シクロヘキサノン、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、スチレン、テトラクロロエチレン、テトラヒドロフラン、ピリジン、１−メチル−２−ピロリジノン、１，１，１−トリクロロエタン、トルエン、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン、シクロペンタン、ヘプタン、ベンゼン、メチルイソブチルケトン、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、メチルエチルケトン、メチルシクロヘキサノン、メチルブチルケトン、ジエチルケトン、ガソリン、コールタールナフサ、石油エーテル、石油ナフサ、石油ベンジン、テレビン油、ミネラルスピリットが挙げられる。また、上記反応溶媒と水との二相系での反応も可能である。その場合、反応過程において式（Ｓ−２６）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、無機アルカリ化合物として例えば、水酸化アルミニウム、アンモニア水、バリウム水和物、苛性バライト、水酸化バリウム、水酸化ビスマス、水酸化カドミウム、水酸化セシウム、水酸化カルシウム、石灰、水酸化セリウム、水酸化クロム、水酸化コバルト、水酸化銅、第二鉄水和物、水酸化鉄、水酸化リチウム、水酸化マグネシウム、水酸化マンガン、水酸化ニッケル、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、次亜塩素酸ナトリウム、セスキ炭酸ナトリウム、水酸化ストロンチウム、水酸化タリウム、水酸化トリウム、酢酸ナトリウム、硫酸アルミニウムナトリウム、リン酸アンモニウムナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、酢酸カルシウム、炭酸カルシウム、ギ酸カルシウム、リン酸カルシウム、酢酸タリウム、酢酸カリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、ギ酸カリウム、シュウ酸カリウム、重炭酸アンモニウム、炭酸アンモニウム、ギ酸アンモニウム、硫酸アンモニウム並びにその他の無機アルカリ化合物又は無機塩類が挙げられる。二相系で反応を行う場合、必要に応じて相間移動触媒を添加することが可能である。相間移動触媒としては、例えば、テトラブチルアンモニウムフルオリド、テトラエチルアンモニウムフルオリド、アセチルコリンクロリド、（３−アクリルアミドプロピル）トリメチルアンモニウムクロリド、塩化ベンザルコニウム、ベンゾイルコリンクロリド、ベンジルセチルジメチルアンモニウムクロリド、Ｎ−ベンジルシンコニジウムクロリド、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルステアリルアンモニウムクロリド、ベンジルジメチルテトラデシルアンモニウムクロリド、Ｎ−ベンジルキニジウムクロリド、Ｎ−ベンジルキニニウムクロリド、ベンジルトリブチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、１−ブチル−１−メチルピロリジウムクロリド、カルバミルコリンクロリド、カルニチン塩酸塩、クロロコリンクロリド、（３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル）トリメチルアンモニウムクロリド、コリンクロリド、デシルトリメチルアンモニウムクロリド、ジアリルジメチルアンモニウムクロリド、ジメチルジステアリルアンモニウムクロリド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド、（ヒドラジノカルボニルメチル）トリメチルアンモニウムクロリド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド、ヘキサメチレンビス（トリメチルアンモニウムクロリド）、ラウロイルコリンクロリド、メタコリンクロリド、メタクリロイルコリンクロリド、（２−メトキシエトキシメチル）トリエチルアンモニウムクロリド、β−メチルコリンクロリド、メチルトリオクチルアンモニウムクロリド、オクチルトリメチルアンモニウムクロリド、フェニルトリエチルアンモニウムクロリド、ホスホコリンクロリドカルシウム、スタキドリン塩酸塩、スクシニルコリンクロリド、テトラアミルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラプロピルアンモニウムクロリド、トリエチルメチルアンモニウムクロリド、トリメチル［２，３−（ジオレイルオキシ）プロピル］アンモニウムクロリド、トリメチルフェニルアンモニウムクロリド、トリメチルステアリルアンモニウムクロリド、トリメチルテトラデシルアンモニウムクロリド、トリメチル［３−（トリエトキシシリル）プロピル］アンモニウムクロリド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド、アセチルコリンブロミド、ベンゾイルコリンブロミド、ベンジルトリブチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリエチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、ブロモコリンブロミド、１，１’−（ブタン−１，４−ジイル）ビス［４−アザ−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタン］ジブロミド、１−ブチル−１−メチルピペリジニウムブロミド、クロリンブロミド、デカメトニウムブロミド、１，１’−（デカン−１，１０−ジイル）ビス［４−アザ−１−アゾニアビシクロ［２．２．２］オクタン］ジブロミド、デシルトリメチルアンモニウムブロミド、ジデシルジメチルアンモニウムブロミド、ジラウリルジメチルアンモニウムブロミド、ジメチルジミリスチルアンモニウムブロミド、ジメチルジオクタデシルアンモニウムブロミド、ジメチルジオクチルアンモニウムブロミド、ジメチルジパルミチルアンモニウムブロミド、ドデシルトリメチルアンモニウムブロミド、エチルヘキサデシルジメチルアンモニウムブロミド、（フェロセニルメチル）ドデシルジメチルアンモニウムブロミド、（フェロセニルメチル）トリメチルアンモニウムブロミド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド、ヘキサメトニウムブロミド、ヘキシルジメチルオクチルアンモニウムブロミド、ヘキシルトリメチルアンモニウムブロミド、臭化メチルホマトロピン、メタコリンブロミド、ネオスチグミンブロミド、オクチルトリメチルアンモニウムブロミド、フェニルトリメチルアンモニウムブロミド、スコポラミンメチルブロミド、テトラアミルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラ（デシル）アンモニウムブロミド、テトラデシルトリメチルアンモニウムブロミド、テトラエチルアンモニウムブロミド、テトラヘプチルアンモニウムブロミド、テトラメチルアンモニウムブロミド、テトラオクチルアンモニウムブロミド、テトラプロピルアンモニウムブロミド、３−（トリフルオロメチル）フェニルトリメチルアンモニウムブロミド、トリメチルプロピルアンモニウムブロミド、トリメチルステアリルアンモニウムブロミド、トリメチルビニルアンモニウムブロミド、バレタマートブロミド、アセチルコリンヨージド、アセチルチオコリンヨージド、ベンゾイルコリンヨージド、ベンゾイルチオコリンヨージド、ベンジルトリエチルアンモニウムヨージド、ブチリルコリンヨージド、ブチリルチオコリンヨージド、デカメトニウムヨージド、１，１−ジメチル−４−フェニルピペラジニウムヨージド、エチルトリメチルアンモニウムヨージド、エチルトリプロピルアンモニウムヨージド、（フェロセニルメチル）トリメチルアンモニウムヨージド、（２−ヒドロキシエチル）トリエチルアンモニウムヨージド、β−メチルコリンヨージド、Ｏ−β−ナフチルオキシカルボニルコリンヨージド、テトラアミルアンモニウムヨージド、テトラブチルアンモニウムヨージド、テトラエチルアンモニウムヨージド、テトラヘプチルアンモニウムヨージド、テトラヘキシルアンモニウムヨージド、テトラメチルアンモニウムヨージド、テトラオクチルアンモニウムヨージド、テトラプロピルアンモニウムヨージド、トリエチルフェニルアンモニウムヨージド、３−（トリフルオロメチル）フェニルトリメチルアンモニウムヨージド、トリメチルフェニルアンモニウムヨージド、トリメチル［２−［（トリメチルシリル）メチル］ベンジル］アンモニウムヨージド、ベンジルトリエチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、スフィンゴミエリン、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘキシルアンモニウムヒドロキシド、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、３−（トリフルオロメチル）フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルフェニルアンモニウムヒドロキシド、トリス（２−ヒドロキシエチル）メチルアンモニウムヒドロキシド、過塩素酸アセチルコリン、アミルトリエチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、ベンジルトリエチルアンモニウムボロヒドリド、ジクロロヨウ素酸ベンジルトリメチルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウムテトラクロロヨウ素酸塩、ベンジルトリメチルアンモニウムトリブロミド、無水ベタイン、ベタイン塩酸塩、重クロム酸ビス（テトラブチルアンモニウム）、ビス（テトラブチルアンモニウム）テトラシアノジフェノキノジメタニド、１−ブチル−１−メチルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｌ−カルニチン、３−［（３−コラミドプロピル）ジメチルアンモニオ］−１−プロパンスルホナート、重酒石酸コリン、１−シクロヘキシル−３−（２−モルホリノエチル）カルボジイミドメト−
ｐ−トルエンスルホナート、シクロヘキシルトリメチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、安息香酸デナトニウム［ビトレックス］、ドデシルジメチル（３−スルホプロピル）アンモニウムヒドロキシド分子内塩、Ｎ−フルオロ−Ｎ’−（クロロメチル）トリエチレンジアミンビス（テトラフルオロボラート）、パルミチルスルホベタイン、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムヘキサフルオロホスフェート、過塩素酸ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムテトラフルオロボラート、リン酸２−（メタクリロイルオキシ）エチル２−（トリメチルアンモニオ）エチル、Ｎ−（トリエチルアンモニオスルホニル）カルバミン酸メチル、１−メチル−１−プロピルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、メチルトリオクチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、メチルトリオクチルアンモニウム硫酸水素塩、メチル硫酸ネオスチグミン、オクタデシルジメチル（３−スルホプロピル）アンモニウムヒドロキシド分子内塩、プロピオニルコリンｐ−トルエンスルホナート、硝酸メチルスコポラミン、テトラブチルアンモニウムアセタート、テトラブチルアンモニウムアジド、テトラブチルアンモニウムビフルオリド、テトラブチルアンモニウムボロヒドリド、テトラブチルアンモニウムブロモジヨージド、テトラブチルアンモニウムジブロモアウラート、テトラブチルアンモニウムジブロモクロリド、テトラブチルアンモニウムジブロモヨージド、テトラブチルアンモニウムジクロロアウラート、テトラブチルアンモニウムジクロロブロミド、テトラブチルアンモニウムジフルオロトリフェニルシリカート、テトラブチルアンモニウムジフルオロトリフェニルスズ、テトラブチルアンモニウム三フッ化二水素、テトラブチルアンモニウムジヨードアウラート、テトラブチルアンモニウムヘキサフルオロホスファート、テトラブチルアンモニウム硫酸水素塩、過塩素酸テトラブチルアンモニウム、過レニウム酸テトラブチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウムホスファート、テトラブチルアンモニウムｐ−ニトロフェノキシド、テトラブチルアンモニウムサリチラート、テトラブチルアンモニウムテトラフルオロボラート、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボラート、テトラブチルアンモニウムチオシアナート、テトラブチルアンモニウムトリブロミド、テトラブチルアンモニウムトリフルオロメタンスルホナート、テトラブチルアンモニウムトリヨージド、３−（テトラデシルジメチルアンモニオ）プロパンスルホナート、テトラエチルアンモニウムボロヒドリド、過塩素酸テトラエチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウムｐ−トルエンスルホナート、テトラエチルアンモニウムテトラフルオロボラート、テトラエチルアンモニウムトリフルオロメタンスルホナート、テトラメチルアンモニウムアセタート、テトラメチルアンモニウムボロヒドリド、テトラメチルアンモニウムヘキサフルオロホスファート、テトラメチルアンモニウム硫酸水素塩、過塩素酸テトラメチルアンモニウム、テトラメチルアンモニウムｐ−トルエンスルホナート、テトラメチルアンモニウムスルファート、テトラメチルアンモニウムテトラフルオロボラート、テトラメチルアンモニウムトリアセトキシボロヒドリド、テトラプロピルアンモニウムペルルテナート、トリエチルメチルアンモニウムテトラフルオロボラート、トリメチルフェニルアンモニウムトリブロミド、Ｎ，Ｎ−ビス（３−Ｄ−グルコンアミドプロピル）コルアミド［ＢＩＧＣＨＡＰ］、Ｎ，Ｎ−ビス（３−Ｄ−グルコンアミドプロピル）デオキシコルアミド［Ｄｅｏｘｙ−ＢＩＧＣＨＡＰ］、ＮＩＫＫＯＬ ＢＬ−９ＥＸ［ポリオキシエチレン（９）ラウリルエーテル］、オクタノイル−Ｎ−メチルグルカミド［ＭＥＧＡ−８］、ノナノイル−Ｎ−メチルグルカミド［ＭＥＧＡ−９］、デカノイル−Ｎ−メチルグルカミド［ＭＥＧＡ−１０］、ポリオキシエチレン（８）オクチルフェニルエーテル［Ｔｒｉｔｏｎ Ｘ−１１４］、ポリオキシエチレン（９）オクチルフェニルエーテル［ＮＰ−４０］、ポリオキシエチレン（１０）オクチルフェニルエーテル［Ｔｒｉｔｏｎ Ｘ−１００］、ポリオキシエチレン（２０）ソルビタンモノラウラート［Ｔｗｅｅｎ ２０］、ポリオキシエチレン（２０）ソルビタンモノパルミタート［Ｔｗｅｅｎ ４０］、ポリオキシエチレン（２０）ソルビタンモノステアラート［Ｔｗｅｅｎ ６０］、ポリオキシエチレン（２０）ソルビタンモノオレアート［Ｔｗｅｅｎ ８０］、ポリオキシエチレンソルビタントリオレアート［Ｔｗｅｅｎ ８５］、ポリオキシエチレン（２０）ソルビタントリオレアート、ポリオキシエチレン（２３）ラウリルエーテル［Ｂｒｉｊ３５］、ポリオキシエチレン（２０）セチルエーテル［Ｂｒｉｊ５８］、ドデシル−β−Ｄ−マルトピラノシド、ヘプチル−β−Ｄ−チオグルコピラニシド、オクチル−β−Ｄ−チオグルコピラニシド、ノニル−β−Ｄ−チオマルトシド、ＩＧＥＬＰＡＬ ＣＡ−６３０、Ｄｉｇｉｔｏｎｉｎ、Ｓａｐｏｎｉｎ，ｆｒｏｍ Ｓｏｙｂｅａｎｓ、３−［（３−コラミドプロピル）ジメチルアンモニオ］−２−ヒドロキシ−１−プロパンスルホナート［ＣＨＡＰＳＯ］、３−［（３−コラミドプロピル）ジメチルアンモニオ］−１−プロパンスルホナート［ＣＨＡＰＳ］、ヘプタデカフルオロ−１−オクタンスルホン酸アンモニウム、ペンタデカフルオロオクタン酸アンモニウム、ヘプタデカフルオロオクタンスルホン酸、ヘプタデカフルオロ−１−オクタンスルホン酸リチウム、ペンタデカフルオロオクタン酸、ヘプタデカフルオロ−１−オクタンスルホン酸カリウム、３−（ヘキサデシルジメチルアンモニオ）プロパンスルホナート、コール酸ナトリウム、ラウリン酸ナトリウム、ミリスチン酸ナトリウム、Ｎ−ラウロイルサルコシンナトリウム、オレイン酸ナトリウム、パルミチン酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、スルホコハク酸ビス（２−エチルヘキシル）ナトリウム、ドデセン−１ＬＡＳ、５−スルホイソフタル酸ジメチルナトリウム、１−ドデカンスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、１−ヘキサデカンスルホン酸ナトリウム、１−オクタデカンスルホン酸ナトリウム、１−ペンタデカンスルホン酸ナトリウム、１−テトラデカンスルホン酸ナトリウム、１−トリデカンスルホン酸ナトリウム、リン酸モノドデシルナトリウム、リン酸モノドデシルナトリウム（モノ、ジナトリウム混合物）、ドデシル硫酸ナトリウム、ヘキサデシル硫酸ナトリウム、ベンゼトニウムクロリド、ヘキサデシルピリジニウムクロリド、１−ドデシルピリジニウムクロリド、ヘキサデシルピリジニウムブロミド、ヘキサデシルピリジニウムクロリド、モノミリスチン、モノパルミチン、モノステアリン、ポリエチレングリコールモノステアラート、ポリエチレングリコールモノステアラート（パルミタート、ステアラート混合物）、ソルビタンモノラウラート［Ｓｐａｎ ２０］、ソルビタンモノパルミタート［Ｓｐａｎ ４０］、ソルビタンモノステアラート［Ｓｐａｎ ６０］、ソルビタンモノオレアート［Ｓｐａｎ ８０］、ソルビタンセスキオレアート［Ｓｐａｎ ８３］、ソルビタントリオレアート［Ｓｐａｎ ８５］、ジエチレングリコールモノドデシルエーテル、エチレングリコールモノドデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノセチルエーテル、ポリエチレングリコールモノドデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ−４−オクチルフェニルエーテル、テトラエチルグリコールモノドデシルエーテル、トリエチレングリコールモノドデシルエーテル並びにその他の界面活性剤が利用可能である。その他の反応条件として、例えば、実験化学講座（日本化学会編、丸善株式会社発行）、Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ（Ａ Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）、Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ−Ｉｎｓｔｉｔｕｔ ｆｕｅｒ Ｌｉｔｅｒａｔｕｒ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ Ｂｅｒｌｉｎ ａｎｄ Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ．Ｋ）、Ｆｉｅｓｅｒｓ’ Ｒｅａｇｅｎｔｓ ｆｏｒ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．）等の文献若しくはＳｃｉＦｉｎｄｅｒ又はＲｅａｘｙｓ等のデータベースに挙げられている条件が利用可能である。

式（Ｓ−２６）で表される化合物の保護基（ＰＧ１）を脱保護する。脱保護の反応条件としては、反応過程において式（Ｓ−２７）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、例えば、ＧＲＥＥＮＥ’Ｓ ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ ＧＲＯＵＰＳ ＩＮ ＯＲＧＡＮＩＧ ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ（（Ｆｏｕｒｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ）、ＰＥＴＥＲ Ｇ．Ｍ．ＷＵＴＳ、ＴＨＥＯＤＯＲＡ Ｗ．ＧＲＥＥＮＥ共著、Ａ Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）に挙げられている反応条件が特に好ましい。

式（Ｓ−２７）で表される化合物を、塩基存在下、塩化アクリロイルと反応させることにより、目的の式（Ｓ−２８）で表される化合物を得ることができる。反応条件としては、反応過程において式（Ｓ−２８）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、例えば、前記記載の条件が利用可能である。

本製法は、反応性基としてメタクリル基及びアクリル基を有する化合物以外にも、２−（トリフルオロメチル）アクリル基及びプロピオール基を有する化合物にも利用可能である。

本願発明の化合物は、ネマチック液晶組成物、スメクチック液晶組成物、キラルスメクチック液晶組成物及びコレステリック液晶組成物に使用することが好ましい。本願発明の反応性化合物を用いる液晶組成物において本願発明以外の化合物を添加しても構わない。

本願発明の反応性化合物と混合して使用される他の反応性化合物としては、具体的には一般式（ＩＩ）

（式中、Ｐ^３及びＰ^４は各々独立して一般式（Ｉ）におけるＰ^１及びＰ^２と同じ意味を表し、Ｓ^３及びＳ^４は各々独立して単結合又は炭素原子数１〜１８個のアルキレン基を表すが、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は酸素原子、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、Ｘ^３及びＸ^４は各々独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＯＣＯＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＹ^５＝ＣＹ^６−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し（式中、Ｙ^５及びＹ^６は各々独立して水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表す。）、Ｚ^３は各々独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＯＣＯＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＹ^７＝ＣＹ^８−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し（式中、Ｙ^７及びＹ^８は各々独立して水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表す。）、Ａ^３及びＡ^４は各々独立して、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、Ａ^３及びＡ^４は各々独立して無置換であるか又はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲノ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていても良く、ｍ３は０、１、２又は３を表し、ｍ３が２又は３を表す場合、２個あるいは３個存在するＡ^３及び／又はＺ^３は同一であっても異なっていても良い。）で表される化合物が好ましく、一般式（ＩＩ）のＰ^３及びＰ^４がアクリル基又はメタクリル基である場合が特に好ましい。具体的には、一般式（ＩＩＩ）

（式中、Ｓ^５及びＳ^６は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基、Ｘ^５及びＸ^６は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、Ｚ^４及びＺ^５は各々独立して−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ａ^５、Ａ^６及びＡ^７は各々独立して無置換或いはフッ素原子、塩素原子又は炭素原子数１から４のアルキル基又はアルコキシ基によって置換された１，４−フェニレン基を表す。）で表される化合物が好ましく、下記式（ＩＩＩ−１）から式（ＩＩＩ−８）で表される化合物が特に好ましい。

（式中、Ｓ^５は一般式（ＩＩＩ）におけるＳ^５と同じ意味を表し、Ｓ^６は一般式（ＩＩＩ）におけるＳ^６と同じ意味を表す。）上記式（ＩＩＩ−１）から式（ＩＩＩ−８）において、Ｓ^５及びＳ^６が各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基である化合物がさらに好ましい。

また、一般式（ＩＶ）

（式中、Ｓ^７及びＳ^８は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基、Ｘ^７及びＸ^８は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、Ｚ^６は−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ａ^８、Ａ^９及びＡ^１０は各々独立して無置換或いはフッ素原子、塩素原子又は炭素原子数１から４のアルキル基又はアルコキシ基によって置換された１，４−フェニレン基を表す。）で表される化合物が好ましく、下記式（ＩＶ−１）から式（ＩＶ−８）で表される化合物が特に好ましい。

（式中、Ｓ^７は一般式（ＩＶ）におけるＳ^７と同じ意味を表し、Ｓ^８は一般式（ＩＶ）におけるＳ^８と同じ意味を表す。）上記式（ＩＶ−１）から式（ＩＶ−８）において、耐熱性及び耐久性の観点から、式（ＩＶ−２）、式（ＩＶ−５）、式（ＩＶ−６）、式（ＩＶ−７）及び式（ＩＶ−８）で表される化合物が好ましく、式（ＩＶ−２）で表される化合物がさらに好ましく、Ｓ^７及びＳ^８が各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基である化合物が特に好ましい。

この他、好ましい２官能重合性化合物としては下記一般式（Ｖ−１）から式（Ｖ−５）で表される化合物が挙げられる。

（式中、Ｓ^９及びＳ^１０は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基を表す。）上記式（Ｖ−１）から式（Ｖ−５）において、式（Ｖ−２）、式（Ｖ−３）及び式（Ｖ−５）で表される化合物が好ましく、Ｓ^９及びＳ^１０が各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基である化合物が特に好ましい。

本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物には、当該組成物の液晶性を大きく損なわない程度に、液晶性を示さない重合性化合物を添加することも可能である。具体的には、この技術分野で高分子形成性モノマーあるいは高分子形成性オリゴマーとして認識される化合物であれば特に制限なく使用可能である。

また、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物に添加する光重合開始剤の濃度は、０．１〜１０質量％であることが好ましく、０．２〜５質量％であることがさらに好ましい。光重合開始剤としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、アシルフォスフィンオキサイド等が使用可能である。

また、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物には、その保存安定性を向上させるために、安定剤を添加することもできる。安定剤としては、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、β−ナフチルアミン類、β−ナフトール類、ニトロソ化合物等が挙げられる。安定剤を使用する場合の添加量は、液晶組成物に対して０．００５〜１質量％であることが好ましく、０．０２〜０．５質量％であることがさらに好ましい。

また、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物をフィルム類、光学素子類、機能性顔料類、医薬品類、化粧品類、コーティング剤類、合成樹脂類等の用途に利用する場合には、その目的に応じて金属、金属錯体、染料、顔料、色素、蛍光材料、燐光材料、界面活性剤、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物等を添加することもできる。

本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を重合することにより得られるポリマーは種々の用途に利用できる。例えば、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を、配向させずに重合することにより得られるポリマーは、光散乱板、偏光解消板、モアレ縞防止板として利用可能である。また、配向させた後に重合することにより得られるポリマーは、光学異方性を有しており有用である。このような光学異方体は、例えば、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を、布等でラビング処理した基板、有機薄膜を形成した基板又はＳｉＯ_２を斜方蒸着した配向膜を有する基板に担持させるか、基板間に挟持させた後、当該重合性液晶組成物を重合することによって製造することができる。

重合性液晶組成物を基板上に担持させる際の方法としては、スピンコーティング、ダイコーティング、エクストルージョンコーティング、ロールコーティング、ワイヤーバーコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、ディッピング、プリント法等を挙げることができる。またコーティングの際、重合性液晶組成物に有機溶媒を添加しても良い。有機溶媒としては、炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、非プロトン性溶媒等を使用することができるが、例えば炭化水素系溶媒としてはトルエン又はヘキサンを、ハロゲン化炭化水素系溶媒としては塩化メチレンを、エーテル系溶媒としてはテトラヒドロフラン、アセトキシ−２−エトキシエタン又はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを、アルコール系溶媒としてはメタノール、エタノール又はイソプロパノールを、ケトン系溶媒としてはアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、γ−ブチルラクトン又はＮ−メチルピロリジノン類を、エステル系溶媒としては酢酸エチル又はセロソルブを、非プロトン性溶媒としてはジメチルホルムアミド又はアセトニトリルを挙げることができる。これらは単独でも、組み合わせて用いても良く、その蒸気圧と重合性液晶組成物の溶解性を考慮し、適宜選択すれば良い。添加した有機溶媒を揮発させる方法としては、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥を用いることができる。重合性液晶材料の塗布性をさらに向上させるためには、基板上にポリイミド薄膜等の中間層を設けることや、重合性液晶材料にレベリング剤を添加する事も有効である。基板上にポリイミド薄膜等の中間層を設ける方法は、重合性液晶材料を重合することにより得られるポリマーと基板との密着性を向上させるために有効である。

上記以外の配向処理としては、液晶材料の流動配向の利用、電場又は磁場の利用を挙げることができる。これらの配向手段は単独で用いても、また組み合わせて用いても良い。さらに、ラビングに代わる配向処理方法として、光配向法を用いることもできる。基板の形状としては、平板の他に、曲面を構成部分として有していても良い。基板を構成する材料は、有機材料、無機材料を問わずに用いることができる。基板の材料となる有機材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリアリレート、ポリスルホン、トリアセチルセルロース、セルロース、ポリエーテルエーテルケトン等が挙げられ、また、無機材料としては、例えば、シリコン、ガラス、方解石等が挙げられる。

本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を重合させる際、迅速に重合が進行することが望ましいため、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を照射することにより重合させる方法が好ましい。紫外線を使用する場合、偏光光源を用いても良く、非偏光光源を用いても良い。また、液晶組成物を２枚の基板間に挟持させて状態で重合を行う場合、少なくとも照射面側の基板は活性エネルギー線に対して適当な透明性を有していなければならない。また、光照射時にマスクを用いて特定の部分のみを重合させた後、電場や磁場又は温度等の条件を変化させることにより、未重合部分の配向状態を変化させて、さらに活性エネルギー線を照射して重合させるという手段を用いても良い。また、照射時の温度は、本発明の重合性液晶組成物の液晶状態が保持される温度範囲内であることが好ましい。特に、光重合によって光学異方体を製造しようとする場合には、意図しない熱重合の誘起を避ける意味からも可能な限り室温に近い温度、即ち、典型的には２５℃での温度で重合させることが好ましい。活性エネルギー線の強度は、０．１ｍＷ／ｃｍ^２〜２Ｗ／ｃｍ^２が好ましい。強度が０．１ｍＷ／ｃｍ^２以下の場合、光重合を完了させるのに多大な時間が必要になり生産性が悪化してしまい、２Ｗ／ｃｍ^２以上の場合、重合性液晶化合物又は重合性液晶組成物が劣化してしまう危険がある。

重合によって得られた当該光学異方体は、初期の特性変化を軽減し、安定的な特性発現を図ることを目的として熱処理を施すこともできる。熱処理の温度は５０〜２５０℃の範囲であることが好ましく、熱処理時間は３０秒〜１２時間の範囲であることが好ましい。

このような方法によって製造される当該光学異方体は、基板から剥離して単体で用いても、剥離せずに用いても良い。また、得られた光学異方体を積層しても、他の基板に貼り合わせて用いてもよい。

以下、実施例を挙げて本発明を更に記述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例の組成物における「％」は『質量％』を意味する。
（実施例１） 式（Ｉ−１）で表される化合物の製造

温度計、撹拌装置及び滴下ロートを備えた４つ口フラスコに、式（Ｉ−１ａ）で表される化合物２０．０ｇ（０．１２モル）、式（Ｉ−１ｂ）で表される化合物３５．３ｇ（０．２３モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン １．４２ｇ（１２ミリモル）をとり、ジクロロメタン １００ｍＬに懸濁させた。氷冷しながらＮ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド ３２．２ｇ（０．２６モル）を反応温度が１５度を超えないよう滴下した。滴下終了後、室温で５時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、溶媒を留去した。ジクロロメタン／ヘキサン混合溶媒を用いてカラムクロマトグラフィーにより精製した。ジクロロメタン／ヘキサンにより再結晶を行い式（Ｉ−１ｃ）で表される化合物 ３０．７ｇ（０．０７０モル）を得た。

温度計、撹拌装置及び滴下ロートを備えた４つ口フラスコに、式（Ｉ−１ｃ）で表される化合物３０．７ｇ（０．０７０モル）、メタノール １５０ｍＬ、リン酸二水素ナトリウム二水和物 ５．４０ｇ（０．０３５モル）を水 ３０ｍＬに溶解させた水溶液、３０％過酸化水素水 ２５ｍＬを加えた。撹拌しながら亜塩素酸ナトリウム ２１．４ｇ（０．２４モル）を水 ５０ｍＬに溶解させた水溶液を滴下した。４０℃で８時間撹拌した後、水 ５００ｍＬを加えた。沈殿物を濾過した後、水洗し乾燥させることにより、式（Ｉ−１ｄ）で表される化合物 １９．７ｇ（０．０４２モル）を得た。

温度計、撹拌装置及び滴下ロートを備えた４つ口フラスコに、式（Ｉ−１ｄ）で表される化合物 １９．７ｇ（０．０４２モル）、４−ヒドロキシブチルアクリレート １３．２ｇ（０．０９２モル）、トリフェニルホスフィン ２４．１ｇ（０．０９２モル）を加えテトラヒドロフラン １００ｍＬに溶解させた。氷冷しながらアゾジカルボン酸ジイソプロピル １７．７ｇ（０．０８８モル）を反応温度が１５度を超えないよう滴下した。滴下終了後、室温で５時間撹拌した。溶媒を留去し、ジクロロメタン／ヘキサン混合溶媒を用いてカラムクロマトグラフィーにより精製した。ジクロロメタン／ヘキサンにより再結晶を行うことにより目的の式（Ｉ−１）で表される化合物 ２２．７ｇを得た。
式（Ｉ−１）で表される化合物の物性値
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．７０（ｍ，４Ｈ），１．８７（ｍ，８Ｈ），２．３２（ｄ，７．２Ｈｚ，４Ｈ），２．６６（ｍ，２Ｈ），３．８９（ｓ，６Ｈ），４．２４（ｔ，６．１Ｈｚ，４Ｈ），４．３７（ｔ，６．１Ｈｚ，４Ｈ），５．８４（ｄｄ，１０．３，０．９Ｈｚ，２Ｈ），６．１３（ｄｄ，１７．４，１０．３Ｈｚ，２Ｈ），６．４２（ｄｄ，１７．４，１．３Ｈｚ，２Ｈ），７．０９（ｄ，８．３Ｈｚ，２Ｈ），７．６６（ｍ，４Ｈ）ｐｐｍ．
^１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ２５．３，２５．４，２７．８，４２．２，５６．１，６４．０，６４．６，１１３．３，１２２．５，１２２．６，１２８．３，１２８．８，１３０．８，１４３．７，１５１．０，１６５．８，１６６．２，１７２．９ｐｐｍ．
ＬＲＭＳ（ＥＩ）ｍ／ｚ ７２４
転移温度：Ｃ １４３（Ｓ １３５）Ｉ
（実施例２） 式（Ｉ−２）で表される化合物の製造

実施例１に記載の式（Ｉ−１ａ）で表される化合物を式（Ｉ−２ａ）で表される化合物に置き換え、実施例１と同様の方法によって式（Ｉ−２）で表される化合物を製造した。
式（Ｉ−２）で表される化合物の物性値
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．２７〜１．７９（ｍ，２６Ｈ），２．２７（ｑｕｉｎ，７．０Ｈｚ，２Ｈ），３．８３（ｓ，６Ｈ），３．９７（ｔ，７．１Ｈｚ，４Ｈ），４．３０（ｔ，７．１Ｈｚ，４Ｈ），５．５９（ｄｄ，１０．０，２．１Ｈｚ，２Ｈ），６．０５（ｄｄ，１６．８，１０．０，２Ｈ），６．２７（ｄｄ，１６．８，２．１Ｈｚ，２Ｈ），７．２９（ｄ，７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．５７（ｍ，４Ｈ）ｐｐｍ．
^１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ２５．１，２５．２，２８．６，２８．６，２８．８，２８．８，４１．３，４２．９，５５．８，６４．５，６５．０，１１３．３，１２２．６，１２４．４，１２７．９，１２８．２，１３１．３，１４６．２，１５１．５，１６５．９，１６６．５，１７６．９ｐｐｍ．
ＬＲＭＳ（ＥＩ）ｍ／ｚ ８０６
（実施例３） 式（Ｉ−３）で表される化合物の製造

温度計、撹拌装置及び滴下ロートを備えた４つ口フラスコに、式（Ｉ−３ａ）で表される化合物 ７．０ｇ（０．０４９モル）、式（Ｉ−１ｂ）で表される化合物 １４．８ｇ（０．０９７モル）、トリフェニルホスフィン ２９．３ｇ（０．１１モル）を加えテトラヒドロフラン ５０ｍＬに溶解させた。氷冷しながらアゾジカルボン酸ジイソプロピル ２１．６ｇ（０．１１モル）を反応温度が１５度を超えないよう滴下した。滴下終了後、室温で５時間撹拌した。溶媒を留去し、ジクロロメタン／ヘキサン混合溶媒を用いてカラムクロマトグラフィーにより精製した。ジクロロメタン／ヘキサンにより再結晶を行うことにより式（Ｉ−３ｂ）で表される化合物 １４．０ｇ（０．０３４モル）を得た。

温度計、撹拌装置及び滴下ロートを備えた４つ口フラスコに、式（Ｉ−３ｂ）で表される化合物 １４．０ｇ（０．０３４モル）、メタノール １００ｍＬ、リン酸二水素ナトリウム二水和物 ２．０４ｇ（０．０１１モル）を水 ２０ｍＬに溶解させた水溶液、３０％過酸化水素水 １５ｍＬを加えた。撹拌しながら亜塩素酸ナトリウム ９．２２ｇ（０．１０モル）を水 ３０ｍＬに溶解させた水溶液を滴下した。４０℃で８時間撹拌した後、水 ３００ｍＬを加えた。沈殿物を濾過した後、水洗し乾燥させることにより、式（Ｉ−３ｃ）で表される化合物 １２．８ｇ（０．０２９モル）を得た。

温度計、撹拌装置及び滴下ロートを備えた４つ口フラスコに、式（Ｉ−３ｃ）で表される化合物 １２．８ｇ（０．０２９モル）、４−ヒドロキシブチルアクリレート ９．１７ｇ（０．０６４モル）、トリフェニルホスフィン １７．４ｇ（０．０６６モル）を加えテトラヒドロフラン ７０ｍＬに溶解させた。氷冷しながらアゾジカルボン酸ジイソプロピル １２．９ｇ（０．０６４モル）を反応温度が１５度を超えないよう滴下した。滴下終了後、室温で５時間撹拌した。溶媒を留去し、ジクロロメタン／ヘキサン混合溶媒を用いてカラムクロマトグラフィーにより精製した。ジクロロメタン／ヘキサンにより再結晶を行うことにより目的の式（Ｉ−３）で表される化合物 １６．１ｇを得た。
式（Ｉ−３）で表される化合物の物性値
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．２７〜１．９４（ｍ，１８Ｈ），３．８３（ｓ，６Ｈ），３．９０（ｄ，７．０Ｈｚ，４Ｈ），３．９７（ｔ，７．１Ｈｚ，４Ｈ），４．３０（ｔ，７．１Ｈｚ，４Ｈ），５．５９（ｄｄ，１０．０，２．１Ｈｚ，２Ｈ），６．０５（ｄｄ，１６．８，１０．０，２Ｈ），６．２７（ｄｄ，１６．８，２．１Ｈｚ，２Ｈ），７．１０（ｄ，７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．５０（ｍ，４Ｈ）ｐｐｍ．
^１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ２５．１，２５．２，２７．７，２７．７，３８．７，５６．１，６４．５，６５．０，７５．２，１１１．８，１１３．５，１２２．７，１２２．８，１２８．２，１３１．３，１４９．８，１５４．９，１６５．９，１６６．５ｐｐｍ．
ＬＲＭＳ（ＥＩ）ｍ／ｚ ６９６
（実施例４） 式（Ｉ−１２）で表される化合物の製造

温度計、撹拌装置及び冷却装置を備えた４つ口フラスコに、式（Ｉ−１２ａ）で表される化合物２０．０ｇ（０．１２モル）、無水酢酸 １８．２ｇ（０．１８モル）、酢酸 １００ｍＬ、濃硫酸 ５ｇを加え、７０℃で３時間加熱撹拌した。放冷した後撹拌しながら水 ３００ｍＬを加え、析出した固体を濾過した。水洗した後、乾燥させることにより式（Ｉ−１２ｂ）で表される化合物２４．２ｇ（０．１２モル）を得た。

温度計、撹拌装置及び滴下ロートを備えた４つ口フラスコに、式（Ｉ−１２ｂ）で表される化合物２４．２ｇ（０．１２モル）、式（Ｉ−１２ｃ）で表される化合物１１．８ｇ（０．０５９モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン １．４２ｇ（１２ミリモル）をとり、ジクロロメタン １００ｍＬに懸濁させた。氷冷しながらＮ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド １８．０ｇ（０．１４モル）を反応温度が１５度を超えないよう滴下した。滴下終了後、室温で５時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、溶媒を留去した。ジクロロメタン／ヘキサン混合溶媒を用いてカラムクロマトグラフィーにより精製した。ジクロロメタン／ヘキサンにより再結晶を行い式（Ｉ−１２ｄ）で表される化合物２９．５ｇ（０．０５１モル）を得た。

温度計、撹拌装置及び滴下ロートを備えた４つ口フラスコに、式（Ｉ−１２ｄ）で表される化合物２９．５ｇ（０．０５１モル）を加え、トルエン６０ｍＬ及びテトラヒドロフラン６０ｍＬに溶解させた。ブチルアミン ５．５５ｇ（０．０７６モル）を滴下し室温で１７時間撹拌した。５％塩酸を加え分液処理した後食塩水で３回洗浄した。溶媒を留去しカラムクロマトグラフィーにより精製し、再結晶することにより式（Ｉ−１２ｅ）で表される化合物 ２４．７ｇ（０．０５０モル）を得た。

温度計、撹拌装置及び滴下ロートを備えた４つ口フラスコに、式（Ｉ−１２ｅ）で表される化合物 ２４．７ｇ（０．０５０モル）、２−ヒドロキシエチルアクリレート １２．７ｇ（０．１１モル）、トリフェニルホスフィン ２９．９ｇ（０．１１モル）を加えテトラヒドロフラン １００ｍＬに溶解させた。氷冷しながらアゾジカルボン酸ジイソプロピル ２２．０ｇ（０．０１１モル）を反応温度が１５度を超えないよう滴下した。滴下終了後、室温で５時間撹拌した。溶媒を留去し、ジクロロメタン／ヘキサン混合溶媒を用いてカラムクロマトグラフィーにより精製した。ジクロロメタン／ヘキサンにより再結晶を行うことにより目的の式（Ｉ−１２）で表される化合物 ２４．１ｇを得た。
式（Ｉ−１２）で表される化合物の物性値
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．２７〜１．５２（ｍ，１０Ｈ），１．７４〜１．９９（ｍ，８Ｈ），３．８３（ｓ，６Ｈ），３．９１（ｑｕｉｎ，７．０Ｈｚ，２Ｈ），４．４２（ｔ，７．１Ｈｚ，４Ｈ），４．５２（ｔ，７．１Ｈｚ，４Ｈ），５．５９（ｄｄ，１０．０，２．１Ｈｚ，２Ｈ），６．０５（ｄｄ，１６．８，１０．０，２Ｈ），６．２７（ｄｄ，１６．８，２．１Ｈｚ，２Ｈ），７．１０（ｄ，７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．５１（ｍ，４Ｈ）ｐｐｍ．
^１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ２８．５，３１．３，４１．３，５６．１，６４．４，６６．８，７０．９，１１１．８，１１３．５，１２２．７，１２２．８，１２８．２，１３１．３，１４９．８，１５４．９，１６５．９，１６６．５ｐｐｍ．
ＬＲＭＳ（ＥＩ）ｍ／ｚ ６９４
（実施例５） 式（Ｉ−１３）で表される化合物の製造

実施例４に記載の式（Ｉ−１２ｅ）で表される中間体の製造において、実施例４に記載の式（Ｉ−１２ｃ）で表される化合物を式（Ｉ−１３ａ）で表される化合物に置き換える以外は同様の方法によって、式（Ｉ−１３ｃ）で表される中間体を製造した。

温度計、撹拌装置及び滴下ロートを備えた４つ口フラスコに、式（Ｉ−１３ｃ）で表される化合物 ２５．０ｇ（０．０６０モル）、ジイソプロピルエチルアミン １７．１ｇ（０．１３モル）を加えジクロロメタン １００ｍＬに懸濁させた。氷冷しながら塩化アクリロイル １１．４ｇ（０．１３モル）を反応温度が１５度を超えないよう滴下した。滴下終了後、室温で５時間撹拌した。５％塩酸で分液処理し食塩水で洗浄した後溶媒を留去した。ジクロロメタン／ヘキサン混合溶媒を用いてカラムクロマトグラフィーにより精製した。ジクロロメタン／ヘキサンにより再結晶を行うことにより目的の式（Ｉ−１３）で表される化合物 ２７．３ｇを得た。
式（Ｉ−１３）で表される化合物の物性値
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．７４（ｍ，４Ｈ），１．９９（ｍ，４Ｈ），３．８３（ｓ，６Ｈ），３．９１（ｑｕｉｎ，７．０Ｈｚ，２Ｈ），５．５０（ｄｄ，１０．０，２．１Ｈｚ，２Ｈ），６．０３（ｄｄ，１６．８，１０．０，２Ｈ），６．１０（ｄｄ，１６．８，２．１Ｈｚ，２Ｈ），７．２９（ｄ，７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．５９（ｍ，４Ｈ）ｐｐｍ．
^１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ２７．２，５５．８，７０．６，１１３．３，１２２．６，１２４．４，１２７．５，１２７．９，１３４．１，１４２．７，１５１．５，１６４．３，１６５．９ｐｐｍ．
ＬＲＭＳ（ＥＩ）ｍ／ｚ ５２４
（実施例６） 式（Ｉ−２１）で表される化合物の製造

温度計、撹拌装置及び滴下ロートを備えた４つ口フラスコに、式（Ｉ−１３ｃ）で表される化合物２５．０ｇ（０．０６０モル）、式（Ｉ−２１ａ）で表される化合物２７．３ｇ（０．１３モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン ０．７３ｇ（６．０ミリモル）をとり、ジクロロメタン １００ｍＬに懸濁させた。氷冷しながらＮ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド １６．７ｇ（０．１３モル）を反応温度が１５度を超えないよう滴下した。滴下終了後、室温で５時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、溶媒を留去した。ジクロロメタン／ヘキサン混合溶媒を用いてカラムクロマトグラフィーにより精製した。ジクロロメタン／ヘキサンにより再結晶を行い式（Ｉ−２１）で表される化合物３４．１ｇを得た。
式（Ｉ−１３）で表される化合物の物性値
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．７４（ｍ，４Ｈ），１．９９（ｍ，４Ｈ），２．７３（ｔ，７．１Ｈｚ，４Ｈ），２．８３（ｔ，７．１Ｈｚ，４Ｈ），３．８３（ｓ，６Ｈ），３．９１（ｑｕｉｎ，７．０Ｈｚ，２Ｈ），４．３１（ｔ，７．１Ｈｚ，４Ｈ），４．３８（ｔ，７．１Ｈｚ，４Ｈ），５．５９（ｄｄ，１０．０，２．１Ｈｚ，２Ｈ），６．０５（ｄｄ，１６．８，１０．０，２Ｈ），６．２７（ｄｄ，１６．８，２．１Ｈｚ，２Ｈ），７．２９（ｄ，７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．６０（ｍ，４Ｈ）ｐｐｍ．
^１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ２７．２，２９．１，２９．５，５５．８，６１．８，６２．２，７０．６，１１３．３，１２２．６，１２４．４，１２７．９，１２８．２，１３１．３，１４６．２，１５１．５，１６５．９，１６６．５，１７１．１，１７３．１ｐｐｍ．
ＬＲＭＳ（ＥＩ）ｍ／ｚ ８１２
（実施例７） 式（Ｉ−２３）で表される化合物の製造

温度計、撹拌装置及び冷却装置を備えた４つ口フラスコに式（Ｉ−１ｄ）で表される化合物２０．０ｇ（０．０４２モル）、６−クロロヘキシルアクリレート １７．８ｇ（０．０９３モル）、炭酸カリウム １７．６ｇ（０．１３モル）を加えアセトン１５０ｍＬに懸濁させた。５６℃で５時間加熱還流させた後、水 ３００ｍＬ及びジクロロメタン ３００ｍＬを加えた。分液処理した後、ジクロロメタン／ヘキサン混合溶媒を用いてカラムクロマトグラフィーにより精製した。ジクロロメタン／ヘキサンにより再結晶を行い式（Ｉ−２３）で表される化合物２３．１ｇを得た。
式（Ｉ−２３）で表される化合物の物性値
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．４３〜１．８０（ｍ，１４Ｈ），２．２７（ｑｕｉｎ，２Ｈ），３．８３（ｓ，６Ｈ），３．９７（ｔ，７．１Ｈｚ，４Ｈ），４．３０（ｔ，７．１Ｈｚ，４Ｈ），５．５９（ｄｄ，１０．０，２．１Ｈｚ，２Ｈ），６．０５（ｄｄ，１６．８，１０．０，２Ｈ），６．２７（ｄｄ，１６．８，２．１Ｈｚ，２Ｈ），７．２９（ｄ，７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．６０（ｍ，４Ｈ）ｐｐｍ．
^１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ２５．５，２５．６，２７．１，２９．０，３１．７，４２．６，５５．８，６４．８，６５．３，１１３．３，１２２．６，１２４．４，１２７．９，１２８．２，１３１．３，１４６．２，１５１．５，１６５．９，１６６．５，１７６．９ｐｐｍ．
ＬＲＭＳ（ＥＩ）ｍ／ｚ ７８０
（実施例８） 式（Ｉ−２７）で表される化合物の製造

実施例７において式（Ｉ−１ｄ）で表される化合物を式（Ｉ−１３ｃ）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって、式（Ｉ−２７）で表される化合物を製造した。
式（Ｉ−２７）で表される化合物の物性値
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．４３〜１．９９（ｍ，２４Ｈ），３．８３（ｓ，６Ｈ），３．９１（ｑｕｉｎ，２Ｈ），３．９７（ｔ，７．１Ｈｚ，４Ｈ），４．０６（ｔ，７．１Ｈｚ，４Ｈ），５．５９（ｄｄ，１０．０，２．１Ｈｚ，２Ｈ），６．０５（ｄｄ，１６．８，１０．０，２Ｈ），６．２７（ｄｄ，１６．８，２．１Ｈｚ，２Ｈ），７．１０（ｄ，７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．５２（ｍ，４Ｈ）ｐｐｍ．
^１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ２５．６，２５．８，２７．２，２９．０，２９．６，５６．１，６５．３，６９．０，７０．６，１１１．８，１１３．５，１２２．７，１２２．８，１２８．２，１３１．３，１４９．８，１５４．９，１６５．９，１６６．５ｐｐｍ．
ＬＲＭＳ（ＥＩ）ｍ／ｚ ７２４
（参考例９） 式（Ｉ−３５）で表される化合物の製造

温度計、撹拌装置及びディーンスターク装置を備えた４つ口フラスコに式（Ｉ−３５ａ）で表される化合物２０．０ｇ（０．１４モル）、４−ヒドロキシブチルアクリレート １００．０ｇ（０．６９モル）、トルエンスルホン酸一水和物１．３２ｇ（６．９ミリモル）を加えヘキサン １００ｍＬ及びジイソプロピルエーテル １００ｍＬに溶解させた。８０℃で８時間加熱還流させた。溶媒を留去した後、カラムクロマトグラフィーにより精製を行い式（Ｉ−３５ｂ）で表される化合物２２．５ｇ（０．０８３モル）を得た。

温度計、撹拌装置及び滴下ロートを備えた４つ口フラスコに式（Ｉ−１ａ）で表される化合物１０．０ｇ（０．０５８モル）、式（Ｉ−１ｂ）で表される化合物８．８４ｇ（０．０５８モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン ０．７１ｇ（５．８ミリモル）をとり、ジクロロメタン ６０ｍＬに懸濁させた。氷冷しながらＮ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド １７．５ｇ（０．１４モル）を反応温度が１５度を超えないよう滴下した。滴下終了後、室温で４時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、溶媒を留去した。ジクロロメタン／酢酸エチル混合溶媒を用いてカラムクロマトグラフィーにより精製することにより式（Ｉ−３５ｃ）で表される化合物１０．７ｇ（０．０３５モル）を得た。

温度計、撹拌装置及び滴下ロートを備えた４つ口フラスコに式（Ｉ−３５ｃ）で表される化合物１０．７ｇ（０．０３５モル）、式（Ｉ−３５ｂ）で表される化合物９．４６ｇ（０．０３５モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン ０．４３ｇ（３．５ミリモル）をとり、ジクロロメタン ５０ｍＬに懸濁させた。氷冷しながらＮ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド ５．３０ｇ（０．０４２モル）を反応温度が１５度を超えないよう滴下した。滴下終了後、室温で５時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、溶媒を留去した。ジクロロメタン／ヘキサン混合溶媒を用いてカラムクロマトグラフィーにより精製することにより式（Ｉ−３５ｄ）で表される化合物１５．６ｇ（０．０２８モル）を得た。

温度計、撹拌装置及び滴下ロートを備えた４つ口フラスコに、式（Ｉ−３５ｄ）で表される化合物１５．６ｇ（０．０２８モル）、メタノール １００ｍＬ、リン酸二水素ナトリウム二水和物 ２．５３ｇ（０．０１４モル）を水 ２０ｍＬに溶解させた水溶液、３０％過酸化水素水 １５ｍＬを加えた。撹拌しながら亜塩素酸ナトリウム ７．５６ｇ（０．０８４モル）を水 ５０ｍＬに溶解させた水溶液を滴下した。４０℃で８時間撹拌した後、水 ３００ｍＬを加えた。沈殿物を濾過した後、水洗し乾燥させることにより、式（Ｉ−３５ｅ）で表される化合物 １１．０ｇ（０．０２０モル）を得た。

温度計、撹拌装置及び滴下ロートを備えた４つ口フラスコに式（Ｉ−３５ｅ）で表される化合物 １１．０ｇ（０．０２０モル）、２−ヒドロキシエチルメタクリレート ３．１２ｇ（０．０２４モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン ０．２４ｇ（２．０ミリモル）をとり、ジクロロメタン ５５ｍＬに懸濁させた。氷冷しながらＮ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド ３．０３ｇ（０．０２４モル）を反応温度が１５度を超えないよう滴下した。滴下終了後、室温で５時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、溶媒を留去した。ジクロロメタン／ヘキサン混合溶媒を用いてカラムクロマトグラフィーにより精製することにより目的の式（Ｉ−３５）で表される化合物１１．０ｇを得た。
式（Ｉ−３５）で表される化合物の物性値
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．５４〜２．０１（ｍ，２３Ｈ），２．２７（ｍ，３Ｈ），３．８３（ｓ，３Ｈ），３．９１（ｍ，３Ｈ），４．１３（ｔ，７．１Ｈｚ，２Ｈ），４．４８（ｔ，７．１Ｈｚ，２Ｈ），４．５６（ｔ，７．１Ｈｚ，２Ｈ），５．５９（ｄｄ，１０．０，２．１Ｈｚ，１Ｈ），６．０５（ｄｄ，１６．８，１０．０，１Ｈ），６．２７（ｄｄ，１６．８，２．１Ｈｚ，１Ｈ），６．４０（ｄ，２．１Ｈｚ，１Ｈ），６．４８（ｄ，２．１Ｈｚ，１Ｈ），７．２９（ｄ，７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５８（ｍ，２Ｈ）ｐｐｍ．
^１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １７．９，２５．１，２５．２，２５．８，２７．１，２７．１，２９．１，４２．６，４３．０，４３．３，５５．８，６２．１，６３．３，６５．０，６５．２，７１．５，１１３．３，１２２．６，１２４．４，１２５．２，１２７．９，１２８．２，１３１．３，１３６．０，１４６．２，１５１．５，１６５．９，１６６．５，１６７．２，１７５．５，１７５．８，１７６．９ｐｐｍ．
ＬＲＭＳ（ＥＩ）ｍ／ｚ ６８６
（参考例１０） 式（Ｉ−３９）で表される化合物の製造

温度計及び撹拌装置を備えた反応容器に式（Ｉ−３９ａ）で表される化合物２０．０ｇ（０．１７モル）、パラトルエンスルホン酸ピリジニウム ２．１６ｇ（８．６ミリモル）を加え、ジクロロメタン １００ｍＬに懸濁させた。氷冷しながら３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン １４．５ｇ（０．１７モル）を滴下した。室温で８時間撹拌した後、カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、式（Ｉ−３９ｂ）で表される化合物２７．６ｇ（０．１４モル）を得た。

温度計、撹拌装置及び滴下ロートを備えた４つ口フラスコに式（Ｉ−３９ｂ）で表される化合物２７．６ｇ（０．１４モル）、４−アセトキシ安息香酸２５．２ｇ（０．１４モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン １．７１ｇ（０．０１４モル）をとり、ジクロロメタン １５０ｍＬに懸濁させた。氷冷しながらＮ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド ２１．２ｇ（０．１７モル）を反応温度が１５度を超えないよう滴下した。滴下終了後、室温で５時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィーにより精製することにより式（Ｉ−３９ｃ）で表される化合物４０．６ｇ（０．１１モル）を得た。

撹拌装置を備えたフラスコに式（Ｉ−３９ｃ）で表される化合物４０．６ｇ（０．１１モル）を加え、テトラヒドロフラン８０ｍＬ及びメタノール８０ｍＬに溶解させた。濃塩酸０．１ｍＬを加え室温で８時間撹拌した。酢酸エチル４００ｍＬを加え、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、式（Ｉ−３９ｄ）で表される化合物２７．６ｇ（０．０９９モル）を得た。

温度計、撹拌装置及び滴下ロートを備えた４つ口フラスコに式（Ｉ−３９ｄ）で表される化合物２７．６ｇ（０．０９９モル）、式（Ｉ−１２ｂ）で表される化合物２０．８ｇ（０．０９９モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン １．２１ｇ（９．９ミリモル）をとり、ジクロロメタン １５０ｍＬに懸濁させた。氷冷しながらＮ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド １５．０ｇ（０．１２モル）を反応温度が１５度を超えないよう滴下した。滴下終了後、室温で５時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィーにより精製した後、再結晶することにより式（Ｉ−３９ｅ）で表される化合物３７．３ｇ（０．０７９モル）を得た。

温度計、撹拌装置及び滴下ロートを備えた４つ口フラスコに、式（Ｉ−３９ｅ）で表される化合物３７．３ｇ（０．０７９モル）を加え、トルエン８０ｍＬ及びテトラヒドロフラン８０ｍＬに溶解させた。ブチルアミン １７．３ｇ（０．２４モル）を滴下し室温で１７時間撹拌した。５％塩酸を加え分液処理した後食塩水で３回洗浄した。溶媒を留去しカラムクロマトグラフィーにより精製し、再結晶することにより式（Ｉ−３９ｆ）で表される化合物 ２８．１ｇ（０．０７３モル）を得た。

温度計、撹拌装置及び滴下ロートを備えた４つ口フラスコに、式（Ｉ−３９ｆ）で表される化合物 ２８．１ｇ（０．０７３モル）、４−ヒドロキシブチルアクリレート ２３．２ｇ（０．１６モル）、トリフェニルホスフィン ４４．０ｇ（０．１７モル）を加えテトラヒドロフラン １５０ｍＬに溶解させた。氷冷しながらアゾジカルボン酸ジイソプロピル ３２．５ｇ（０．１６モル）を反応温度が１５度を超えないよう滴下した。滴下終了後、室温で５時間撹拌した。溶媒を留去し、ジクロロメタン／ヘキサン混合溶媒を用いてカラムクロマトグラフィーにより精製した。ジクロロメタン／ヘキサンにより再結晶を行うことにより目的の式（Ｉ−３９）で表される化合物 ３２．６ｇを得た。
式（Ｉ−３９）で表される化合物の物性値
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．６２〜１．９９（ｍ，１６Ｈ），３．８３（ｓ，３Ｈ），３．９１〜４．０６（ｍ，１０Ｈ），５．５９（ｄｄ，１０．０，２．１Ｈｚ，２Ｈ），６．０５（ｄｄ，１６．８，１０．０，２Ｈ），６．２７（ｄｄ，１６．８，２．１Ｈｚ，２Ｈ），６．８２（ｄｄ，７．５，１．５Ｈｚ，２Ｈ），７．１０（ｍ，３Ｈ），７．５１（ｍ，２Ｈ）ｐｐｍ．
^１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ２５．３，２７．２，２７．２，２７．７，５６．１，６５．３，６８．４，６８．７，７０．６，７０．６，１１１．８，１１３．５，１１４．３，１２１．７，１２２．７，１２２．８，１２８．２，１３０．５，１３１．３，１６３．７，１６５．９，１６５．９，１６６．５ｐｐｍ．
ＬＲＭＳ（ＥＩ）ｍ／ｚ ６３８
（実施例１１〜２０及び比較例１〜５）保存安定性試験
実施例１〜実施例９に記載の本願発明の式（Ｉ−１）、式（Ｉ−２）、式（Ｉ−３）、式（Ｉ−１２）、式（Ｉ−１３）、式（Ｉ−２１）、式（Ｉ−２３）、式（Ｉ−２７）、式（Ｉ−３５）及び式（Ｉ−３９）で表される化合物並びに、特開２０１１−２４６３６５号公報記載の式（Ｃ−１）で表される化合物、特開２０１０−０２４４３８号公報記載の式（Ｃ−２）で表される化合物、特開２００３−３１５５５３号公報記載の式（Ｃ−３）で表される化合物、特開２００７−２４１０１１号公報記載の式（Ｃ−４）で表される化合物及び特表２００５−５３４９９３号公報記載の式（Ｃ−５）で表される化合物の安定保存濃度を測定しその結果を下記表１に記載する。

ここで、安定保存濃度は、母体液晶に評価対象となる化合物を３０％から７０％まで１０％刻みで添加した組成物を各々調製し、調製した組成物を２５℃で１００時間放置した後に、結晶の析出が起こらない当該化合物の最大添加濃度と定義する。最大添加濃度が大きい化合物は安定保存濃度が大きく、長期間の保存によっても結晶の析出が発生しないことを意味する。

安定保存濃度を測定するために、下記化合物（ＶＩ）：３０％、化合物（ＶＩＩ）：３０％及び化合物（ＶＩＩＩ）：４０％からなる液晶組成物を母体液晶（Ｘ）とした。

結果を下記表にまとめた。

表１より、本願発明の実施例１１から実施例２０の本願発明の式（Ｉ−１）、式（Ｉ−２）、式（Ｉ−３）、式（Ｉ−１２）、式（Ｉ−１３）、式（Ｉ−２１）、式（Ｉ−２３）、式（Ｉ−２７）、式（Ｉ−３５）及び式（Ｉ−３９）で表される化合物はいずれも比較例２から比較例５の式（Ｃ−２）から式（Ｃ−５）で表される比較化合物と比較して結晶の析出の起こらない最大添加濃度が高く、高い保存安定性を示すことがわかる。
（実施例２１〜実施例３０及び比較例６〜比較例１０）フィルムの作製
本願発明の式（Ｉ−１）、式（Ｉ−２）、式（Ｉ−３）、式（Ｉ−１２）、式（Ｉ−１３）、式（Ｉ−２１）、式（Ｉ−２３）、式（Ｉ−２７）、式（Ｉ−３５）及び式（Ｉ−３９）で表される化合物を下記表２の組成に従い前述の母体液晶（Ｘ）に添加して、実施例２１から実施例３０の重合性液晶組成物を調製した。同様に比較化合物（Ｃ−１）から比較化合物（Ｃ−５）を含む比較例６から比較例１０の重合性液晶組成物を調製した。

本願実施例２１から本願実施例３０の重合性液晶組成物並びに比較例６から比較例１０の重合性液晶組成物のそれぞれ９７％に、光重合開始剤イルガキュア９０７（チバスペシャリティーケミカル社製）を３％添加した後シクロペンタノンに溶解させ２５％の溶液とした。この溶液を、ラビング処理したポリイミド付きガラスにスピンコート法で塗布し、６５℃で３分乾燥した。得られた塗膜を６０℃のホットプレート上に置き、紫外線を２０ｍＷ／ｃｍ^２の強度で６０秒間照射した。得られた重合体を２００℃で６０分ポストベークした。ポストベーク後のフィルムの５５０ｎｍにおける位相差Ｒｅ（５５０）及び４００ｎｍにおける位相差Ｒｅ（４００）を各々測定し、得られたフィルムの波長依存性（波長依存性＝Ｒｅ（４００）／Ｒｅ（５５０）と定義する。）を算出した。また、フィルムの、温度による位相差変化の大きさを比較するために、ポストベーク前とポストベーク後の５５０ｎｍにおける位相差Ｒｅ（５５０）を各々測定し、ポストベーク前後の位相差Ｒｅ（５５０）の保持率（位相差保持率（％）＝（Ｒｅ（５５０）（ポストベーク後））／（Ｒｅ（５５０）（ポストベーク前））×１００と定義する。）を算出した。位相差の測定には、大塚電子株式会社製ＲＥＴＳ−１００を使用した。評価結果を表３に示す。

表３より、本願発明の実施例２１から実施例３０の本願発明の式（Ｉ−１）、式（Ｉ−２）、式（Ｉ−３）、式（Ｉ−１２）、式（Ｉ−１３）、式（Ｉ−２１）、式（Ｉ−２３）、式（Ｉ−２７）、式（Ｉ−３５）及び式（Ｉ−３９）で表される化合物を添加して作製したフィルムはいずれもポストベーク後における位相差保持率が高く、ポストベーク工程で加熱されても配向状態は保たれており、加熱がフィルムの位相差へ与える影響が小さいことがわかる。一方、比較例６の式（Ｃ−１）で表される比較化合物を添加して作製したフィルムは、ポストベーク後に位相差が大きく低下した。このことから本願発明の重合性化合物と比較して温度による位相差の変化が大きく本願発明の重合性化合物が優れていることがわかる。また比較例７、比較例８及び比較例１０の式（Ｃ−２）、式（Ｃ−３）及び式（Ｃ−５）を添加して作製したフィルムは、ポストベーク後に位相差の低下がわずかに見られた。

また本願発明の実施例２１から実施例３０の本願発明の式（Ｉ−１）、式（Ｉ−２）、式（Ｉ−３）、式（Ｉ−１２）、式（Ｉ−１３）、式（Ｉ−２１）、式（Ｉ−２３）、式（Ｉ−２７）、式（Ｉ−３５）及び式（Ｉ−３９）で表される化合物を添加して作製したフィルムはいずれも十分な波長依存特性を有することがわかった。

以上のことから、本願発明の化合物は、位相差の波長依存性が低く、高い保存安定性と、フィルムを作製した際の高い位相差保持率とを同時に満足することがわかった。従って、本願発明の化合物は反応性組成物の構成部材として有用である。また、本願発明の化合物を含有する組成物を用いた光学異方体は、光学フィルム等の用途に有用である。

Claims (11)

1. 一般式（Ｉ）
   

   

   （式中、Ｐ^１及びＰ^２は下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−１７）
   

   

   から選ばれる基を表し、Ｓ^１及びＳ^２は１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基又は単結合を表し、Ｘ^１及びＸ^２は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＹ^１＝ＣＹ^２−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し（式中、Ｙ^１及びＹ^２は各々独立して水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表す。）、Ａ^１及びＡ^２は１，４−フェニレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基、１，４−シクロヘキセニレン基、１，４−ビシクロ［２．２．２］オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，６−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換又は、各々独立してシアノ基、ニトロ基、炭素原子数１から７のアルキル基、炭素原子数１から７のアルコキシ基又は炭素原子数１から７のアルカノイル基によって置換されていても良く、これらのアルキル基、アルコキシ基又はアルカノイル基は各々独立して１個以上の水素原子がフッ素原子又は塩素原子により置き換えられても良く、Ｚ^１及びＺ^２は単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＹ^３＝ＣＹ^４−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し（式中、Ｙ^３及びＹ^４は各々独立して水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表す。）、Ｂは下記の式（Ｂ−１）から式（Ｂ−１０）
   

   

   から選ばれる基を表し、ｍ１及びｍ２は１、２又は３の整数を表すが、−Ｘ^１−（Ａ^１−Ｚ^１）_ｍ１−及び−（Ｚ^２−Ａ^２）_ｍ２−Ｘ^２−の構造内に、少なくとも１つの一般式（ｉ）又は／及び（ｉｉ）
   

   

   （式中、Ｙ^１１ 、Ｙ ^１３ 、Ｙ ^１４ 、Ｙ ^２２ 〜Ｙ^２４は各々独立して炭素原子数１から７のアルコキシ基又は水素原子を表すが、存在するＹ^１２がメトキシ基を表し、存在するＹ^２１がメトキシ基を表す。）で表される構造単位を含み、Ｐ^１及びＰ^２が同一の基であり、Ｓ^１及びＳ^２が同一の基であり、Ｘ^１及びＸ^２が同一の基であり、Ａ^１及びＡ^２が同一の基であり、Ｚ^１及びＺ^２が同一の基であり、ｍ１及びｍ２が同一の整数である。）で表される化合物。
2. ｍ１が２又は３であり、−Ｚ^１−Ａ^１−Ｚ^１−の構造内に、少なくとも１つの一般式（ｉ）又は／及び（ｉｉ）で表される構造単位を含む請求項１に記載の化合物。
3. ｍ１が１、２又は３であり、−Ｘ^１−Ａ^１−Ｚ^１−の構造内に、少なくとも１つの一般式（ｉ）又は／及び（ｉｉ）で表される構造単位を含む請求項１又は請求項２に記載の化合物。
4. ｍ２が２又は３であり、−Ｚ^２−Ａ^２−Ｚ^２−の構造内に、少なくとも１つの一般式（ｉ）又は／及び（ｉｉ）で表される構造単位を含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の化合物。
5. ｍ２が１、２又は３であり、−Ｘ^２−Ａ^２−Ｚ^２−の構造内に、少なくとも１つの一般式（ｉ）又は／及び（ｉｉ）で表される構造単位を含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の化合物。
6. ｍ１及びｍ２がともに１である請求項１、３又は５のいずれか１項に記載の化合物。
7. Ｂが式（Ｂ−１）、（Ｂ−８）、（Ｂ−９）又は（Ｂ−１０）である請求項１〜６のいずれか１項に記載の化合物。
8. 請求項１〜７のいずれか一項に記載の化合物を含有する重合性組成物。
9. ２５℃〜１２０℃のうちいずれかの温度で液晶相を呈する請求項８記載の重合性組成物。
10. 請求項８又は９記載の重合性組成物を重合させることにより得られる重合体。
11. 請求項１０記載の重合体を用いた光学異方体。