JP6036007B2 - Multilayer coil parts - Google Patents

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本発明は、積層型コイル部品に関する。   The present invention relates to a laminated coil component.

特許文献1は、導電性粒子と、熱分解性を有する樹脂粒子とを含み、セラミック素体を構成するセラミック材料よりも熱収縮する導電性ペースト用意する工程と、当該導電性ペーストを用いてセラミックグリーンシートに導体パターンをスクリーン印刷する工程と、導体パターンが印刷されたセラミックグリーンシートを複数積層して圧着することで積層体を形成する工程と、当該積層体を焼成する工程とを有する積層型コイル部品の製造方法を開示している。   Patent Document 1 includes a step of preparing a conductive paste containing conductive particles and thermally decomposable resin particles, and thermally contracting more than a ceramic material constituting the ceramic body, and using the conductive paste to produce a ceramic. A laminate type having a step of screen-printing a conductor pattern on a green sheet, a step of forming a laminate by laminating a plurality of ceramic green sheets printed with a conductor pattern, and a step of firing the laminate. A method for manufacturing a coil component is disclosed.

脱バインダ過程で導電性ペースト内に残留炭素が残ると、続く焼成処理において残留炭素が気化膨張し、セラミックグリーンシートが焼結して形成されたセラミック素体と導電性粒子が焼結して形成された内部導体との界面が圧着状態となることがある。しかしながら、上記の熱分解性を有する導電性ペーストを用いると、導電性粒子が焼結する以前に樹脂粒子が焼失または完全に消失する。そのため、セラミック素体と内部導体との界面が圧着状態となることが抑制される。従って、セラミック素体と内部導体との界面に空隙が形成され、当該界面に微少な応力が残り難くなるので、電気特性や信頼性の向上が図られる。   If residual carbon remains in the conductive paste during the binder removal process, the residual carbon vaporizes and expands in the subsequent firing process, and the ceramic body and conductive particles formed by sintering the ceramic green sheet are formed by sintering. The interface with the formed inner conductor may be in a crimped state. However, when the conductive paste having the thermal decomposability is used, the resin particles are burned out or completely disappeared before the conductive particles are sintered. Therefore, the interface between the ceramic body and the internal conductor is suppressed from being brought into a crimped state. Accordingly, a gap is formed at the interface between the ceramic body and the internal conductor, and it is difficult for a minute stress to remain at the interface, so that electrical characteristics and reliability can be improved.

特開2005−167108号公報JP 2005-167108 A

ところで、積層型コイル部品は、その構造や製造方法などの理由などにより、ワイヤを巻回した巻線型コイル部品に比してQ値(quality factor)が低かった。しかしながら、近年、特に高周波に対応できる部品が要求されることに伴い、積層型コイル部品に対しても、高いQ値が要求されている。従来の積層型コイル部品では、このような要求を満たす高いQ値を実現することができなかった。   By the way, the multilayer coil component has a lower Q factor (quality factor) than a wire wound coil component wound with a wire due to reasons such as its structure and manufacturing method. However, in recent years, with the demand for components capable of handling particularly high frequencies, a high Q value is also required for multilayer coil components. Conventional multilayer coil components have not been able to achieve a high Q value that satisfies these requirements.

本発明は、このような課題を解決するためになされたものであり、高いQ値を得ることができる積層型コイル部品を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve such problems, and an object of the present invention is to provide a laminated coil component capable of obtaining a high Q value.

本発明者らは、コイル導体内にその長手方向に沿って複数の空孔が並んで存在している場合、長手方向に直交する平面でのコイル導体の断面積に対する空孔の面積の割合を示す空孔率に応じて高いQ値が得られることを見出だし、本発明を完成させるに至った。   In the case where a plurality of holes are present along the longitudinal direction in the coil conductor, the present inventors calculate the ratio of the area of the hole to the cross-sectional area of the coil conductor in a plane orthogonal to the longitudinal direction. It has been found that a high Q value can be obtained according to the porosity shown, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明の一側面に係る積層型コイル部品は、複数の絶縁体層を積層することによって形成される素体と、複数のコイル導体が電気的に接続されることによって素体の内部に形成されるコイル部とを備え、コイル導体内には、その長手方向に沿って複数の空孔が並んで存在しており、長手方向に直交する平面でのコイル導体の断面積に対する空孔の面積の割合を示す空孔率の、コイル導体の一端から他端までの平均値である平均空孔率が、15%以上である。   That is, the multilayer coil component according to one aspect of the present invention includes an element body formed by laminating a plurality of insulator layers and a plurality of coil conductors electrically connected to the inside of the element body. A plurality of holes are arranged in the coil conductor along the longitudinal direction of the coil conductor, and the holes of the coil conductor with respect to the cross-sectional area of the coil conductor in a plane orthogonal to the longitudinal direction are present in the coil conductor. The average porosity, which is an average value from one end of the coil conductor to the other end, of the porosity indicating the area ratio is 15% or more.

空孔率に応じて高いQ値が得られる理由は、次のように考察される。空孔率が大きくなることに伴い、空孔及びコイル導体の合計の断面積も大きくなるので、コイル導体の外形の大きさが大きくなる。そのため、長手方向に直交する平面でのコイル導体の周囲長が長くなる。つまり、空孔の有無や空孔の大小に応じてコイル導体の輪郭が変化し、空孔が大きいほどコイル導体の外形が大きくなる。導体に高周波電流が流れる場合には、表皮効果によって導体の表面近傍にしか電流が流れないため、当該周囲長が長くなることは電流が流れる断面積の増加に繋がる。従って、コイル導体の抵抗が小さくなる。Q値はコイル導体の抵抗の大きさに反比例するため、コイル導体の低抵抗化に伴い高いQ値が得られる。特に、平均空孔率を15%以上とすることで、積層型コイル部品においても巻線型コイル部品と同等以上のQ値を得ることができる。   The reason why a high Q value is obtained according to the porosity is considered as follows. As the porosity increases, the total cross-sectional area of the holes and the coil conductor also increases, so that the size of the outer shape of the coil conductor increases. For this reason, the peripheral length of the coil conductor in a plane orthogonal to the longitudinal direction is increased. That is, the outline of the coil conductor changes depending on the presence or absence of holes and the size of the holes, and the outer shape of the coil conductor becomes larger as the holes are larger. When a high-frequency current flows through the conductor, the current flows only near the surface of the conductor due to the skin effect, so that the peripheral length increases, the cross-sectional area through which the current flows increases. Therefore, the resistance of the coil conductor is reduced. Since the Q value is inversely proportional to the magnitude of the resistance of the coil conductor, a high Q value is obtained as the resistance of the coil conductor is reduced. In particular, by setting the average porosity to 15% or more, it is possible to obtain a Q value equal to or higher than that of the wire-wound coil component even in the laminated coil component.

本発明によれば、積層型コイル部品において、高いQ値を得ることができる。   According to the present invention, a high Q value can be obtained in a laminated coil component.

図1は、本実施形態に係る積層型コイル部品を示す断面である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a laminated coil component according to this embodiment. 図2は、本実施形態の他の例に係る積層型コイル部品を示す断面である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing a laminated coil component according to another example of the present embodiment. 図3は、コイル部配置層の軟化点が低い場合であって、保形層を有する場合と有さない場合の焼成時の素体の状態を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic view showing the state of the element body during firing when the softening point of the coil portion arrangement layer is low and with or without the shape retaining layer. 図4は、素体の状態とコイル導体の表面の平滑性の関係を示す模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing the relationship between the state of the element body and the smoothness of the surface of the coil conductor. 図5は、積層型コイル部品のコイル導体の断面を示す写真である。FIG. 5 is a photograph showing a cross section of the coil conductor of the laminated coil component. 図6は、導体パターンの一部を拡大して示す断面図である。FIG. 6 is an enlarged sectional view showing a part of the conductor pattern. 図7は、空孔率に対し、巻線型コイル部品とのQ値の乖離の大きさの関係を示す図である。FIG. 7 is a diagram illustrating the relationship between the porosity and the magnitude of the deviation of the Q value from the wound coil component. 図8は、コイル導体の表面の平滑性と表面抵抗の関係を示す模式図である。FIG. 8 is a schematic diagram showing the relationship between the surface smoothness of the coil conductor and the surface resistance.

本発明の実施形態について図面を参照して説明するが、以下の本実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の内容に限定する趣旨ではない。説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。   Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the following embodiments are exemplifications for explaining the present invention and are not intended to limit the present invention to the following contents. In the description, the same reference numerals are used for the same elements or elements having the same function, and redundant description is omitted.

図1及び図2に示されるように、積層型コイル部品1は、複数の絶縁体層を積層することによって形成される素体2と、複数のコイル導体4,5によって素体2の内部に形成されるコイル部3と、素体2の両端面に形成される一対の外部電極6とを備える。   As shown in FIGS. 1 and 2, the laminated coil component 1 includes an element body 2 formed by laminating a plurality of insulator layers and a plurality of coil conductors 4 and 5 inside the element body 2. A coil portion 3 to be formed and a pair of external electrodes 6 formed on both end faces of the element body 2 are provided.

素体2は、セラミックグリーンシートを複数積層させた焼結体からなる直方体状または立方体状の積層体である。素体2は、図2に示されるように、内部にコイル部3が配置されるコイル部配置層2Aと、コイル部配置層2Aを挟むように一対設けられた保形層2Bとを備えていてもよいし、図1に示されるように、保形層2Bを備えずにコイル部配置層2Aを備えていてもよい。   The element body 2 is a rectangular parallelepiped or cubic laminate made of a sintered body in which a plurality of ceramic green sheets are laminated. As shown in FIG. 2, the element body 2 includes a coil part arrangement layer 2A in which the coil part 3 is arranged, and a shape-retaining layer 2B provided as a pair so as to sandwich the coil part arrangement layer 2A. Alternatively, as shown in FIG. 1, the coil portion arrangement layer 2A may be provided without the shape retaining layer 2B.

コイル部配置層2Aは、コイル導体4の粒径を所定の範囲内にすることができるものであれば特に限定されないが、例えば、ガラスセラミックスからなることが好ましい。素体2の誘電率が小さくなり、Q値を高くできるためである。コイル部配置層2Aは、非晶質のセラミックスからなることが好ましい。コイル導体4,5の平滑性を上げることができるためである。コイル部配置層2Aは、SiOを含有することが好ましい。コイル部配置層2Aの誘電率を小さくできるためである。コイル部配置層2Aは、Alを含有することが好ましい。コイル部配置層2Aでの結晶転移を防止できるためである。コイル部配置層2Aは、コイル導体4,5を覆う被覆層7を形成するために、KOを含有することが好ましい。 The coil portion arrangement layer 2A is not particularly limited as long as the particle diameter of the coil conductor 4 can be within a predetermined range, but is preferably made of glass ceramics, for example. This is because the dielectric constant of the element body 2 is reduced and the Q value can be increased. The coil portion arrangement layer 2A is preferably made of amorphous ceramics. This is because the smoothness of the coil conductors 4 and 5 can be increased. The coil portion arrangement layer 2A preferably contains SiO 2 . This is because the dielectric constant of the coil portion arrangement layer 2A can be reduced. The coil portion arrangement layer 2A preferably contains Al 2 O 3 . This is because the crystal transition in the coil portion arrangement layer 2A can be prevented. The coil portion arrangement layer 2A preferably contains K 2 O in order to form the covering layer 7 that covers the coil conductors 4 and 5.

コイル部配置層2Aは、主成分として、ホウケイ酸ガラス成分を35〜60重量%含有し、石英成分を15〜35重量%含有し、残部にアモルファスシリカ成分を含有し、副成分として、アルミナを含有し、アルミナの含有量が、前記主成分100重量%に対して、0.5〜2.5重量%含有してもよい。コイル部配置層2Aは、焼成後において、SiOが86.7〜92.5重量%、Bが6.2〜10.7重量%、KOが0.7〜1.2重量%、Alが0.5〜2.4重量%の組成を有してもよい。ガラスセラミックスが、86.7〜92.5重量%のSiOと、0.5〜2.4重量%のAlを含有することによって、コイル導体4,5の表面の平滑性を一層向上させることができる。コイル部配置層2Aは、MgO、CaOを1.0重量%以下含有してもよい。コイル部配置層2Aが、86.7〜92.5重量%のSiOを含有することによって、コイル部配置層2Aの誘電率を小さくすることができる。コイル部配置層2Aが、0.5〜2.4重量%のAlを含有することによって、コイル部配置層2Aでの結晶転移を防止することができる。コイル部配置層2Aは、MgO、CaOを1.0重量%以下含有してもよい。 The coil portion arrangement layer 2A contains 35-60% by weight of a borosilicate glass component as a main component, 15-35% by weight of a quartz component, an amorphous silica component in the balance, and alumina as a subcomponent. The alumina content may be 0.5 to 2.5% by weight with respect to 100% by weight of the main component. In the coil portion arrangement layer 2A, after firing, SiO 2 is 86.7 to 92.5 wt%, B 2 O 3 is 6.2 to 10.7 wt%, and K 2 O is 0.7 to 1.2. % By weight and Al 2 O 3 may have a composition of 0.5 to 2.4% by weight. When the glass ceramic contains 86.7 to 92.5% by weight of SiO 2 and 0.5 to 2.4% by weight of Al 2 O 3 , the surface smoothness of the coil conductors 4 and 5 is further increased. Can be improved. The coil portion arrangement layer 2A may contain 1.0 wt% or less of MgO and CaO. Coil unit arrangement layer 2A is, by containing SiO 2 of 86.7 to 92.5 wt%, it is possible to reduce the dielectric constant of the coil portion disposed layer 2A. When the coil part arrangement layer 2A contains 0.5 to 2.4% by weight of Al 2 O 3 , crystal transition in the coil part arrangement layer 2A can be prevented. The coil portion arrangement layer 2A may contain 1.0 wt% or less of MgO and CaO.

あるいは、コイル部配置層2Aは、主成分として、ホウケイ酸ガラス成分を35〜75重量%含有し、石英成分を5〜40重量%含有し、珪酸亜鉛成分を5〜60重量%含有してもよい。ホウケイ酸ガラスは主成分として、SiO=70〜90重量%、B=10〜30重量%、副成分として、KO、NaO、BaO、SrO、AlおよびCaOのうちの少なくとも1種以上を合計で5重量%以下含有してもよい。コイル部配置層2Aは、焼成後において、SiO=53.7〜89.5重量%、B=3.5〜22.5重量%、ZnO=3.0〜35.8重量%、KO、NaO、BaO、SrO、AlおよびCaOのうちの少なくとも1種以上を合計で3.8重量%以下の組成を有してもよい。 Or coil part arrangement | positioning layer 2A contains 35 to 75 weight% of borosilicate glass components as a main component, contains 5 to 40 weight% of quartz components, and contains 5 to 60 weight% of zinc silicate components. Good. Borosilicate glass has SiO 2 = 70 to 90% by weight, B 2 O 3 = 10 to 30% by weight as main components, and K 2 O, Na 2 O, BaO, SrO, Al 2 O 3 and CaO as subcomponents. You may contain 5 weight% or less of at least 1 sort (s) or more in total. The coil portion arrangement layer 2A has SiO 2 = 53.7 to 89.5% by weight, B 2 O 3 = 3.5 to 22.5% by weight, ZnO = 3.0 to 35.8% by weight after firing. , K 2 O, Na 2 O, BaO, SrO, Al 2 O 3 and CaO may have a total composition of 3.8% by weight or less.

図2に示されるように、素体2が保形層2Bを有する構成とする場合は、素体2を次のような構成とすることが好ましい。すなわち、保形層2Bは、コイル部配置層2Aの端面のうち、積層方向において対向する端面2a及び端面2bの全面を覆うように形成されている。保形層2Bは、コイル部配置層2Aの焼結時の形状を保つ機能を有している。積層方向におけるコイル部配置層2Aの厚みは、例えば、0.1mm以上であり、積層方向における保形層2Bの厚みは5μm以上である。   As shown in FIG. 2, when the element body 2 has a shape retaining layer 2B, the element body 2 preferably has the following structure. That is, the shape-retaining layer 2B is formed so as to cover the entire end face 2a and end face 2b facing each other in the stacking direction among the end faces of the coil portion arrangement layer 2A. The shape retaining layer 2B has a function of maintaining the shape of the coil portion arrangement layer 2A during sintering. The thickness of the coil portion arrangement layer 2A in the stacking direction is, for example, 0.1 mm or more, and the thickness of the shape retaining layer 2B in the stacking direction is 5 μm or more.

保形層2Bは、主成分として、ガラス成分を50〜70重量%含有し、アルミナ成分を30〜50重量%含有してもよい。保形層2Bは、焼成後において、SiOが23〜42重量%、Bが0.25〜3.5重量%、Alが34.2〜58.8重量%、アルカリ土類金属酸化物12.5〜31.5重量%の組成を有し、該アルカリ土類金属酸化物中の60重量%以上(すなわち保形層2B全体の7.5〜31.5重量%)がSrOであってもよい。 The shape retention layer 2B may contain 50 to 70% by weight of a glass component and 30 to 50% by weight of an alumina component as main components. Hokatachiso 2B is after sintering, SiO 2 is 23 to 42 wt%, B 2 O 3 is 0.25 to 3.5 wt%, Al 2 O 3 is from 34.2 to 58.8 wt%, alkali The earth metal oxide has a composition of 12.5 to 31.5% by weight, and is 60% by weight or more in the alkaline earth metal oxide (that is, 7.5 to 31.5% by weight of the entire shape retaining layer 2B). ) May be SrO.

素体2を図2のような構成とする場合、コイル部配置層2Aの軟化点は、保形層2Bの軟化点または融点よりも低く設定されていてもよい。具体的には、コイル部配置層2Aの軟化点は800〜1050℃であり、保形層2Bの軟化点または融点は1200℃以上であってもよい。コイル部配置層2Aの軟化点を低くすることによって、コイル部配置層2Aを非晶質にすることができる。保形層2Bの軟化点または融点を高くすることによって、焼成時に軟化点の低いコイル部配置層2Aが変形しないように形状を保持することができる。   When the element body 2 is configured as shown in FIG. 2, the softening point of the coil portion arrangement layer 2A may be set lower than the softening point or melting point of the shape retaining layer 2B. Specifically, the softening point of the coil portion arrangement layer 2A may be 800 to 1050 ° C, and the softening point or melting point of the shape retaining layer 2B may be 1200 ° C or higher. The coil part arrangement layer 2A can be made amorphous by lowering the softening point of the coil part arrangement layer 2A. By increasing the softening point or melting point of the shape retention layer 2B, the shape can be maintained so that the coil portion arrangement layer 2A having a low softening point does not deform during firing.

SrOが含有されていると軟化点を下げることができないため、コイル部配置層2AにはSrOが含有されていないことが好ましい。ここで、SrOは拡散し難いため、焼成時に保形層2BのSrOがコイル部配置層2Aに拡散することは抑制される。コイル部配置層2AにSrOが含有されていなければ、低誘電率を示すSiOの含有率をコイル部配置層2Aにおいて相対的に多くすることができ、これによって誘電率を低くすることができる。従って、コイルのQ(quality factor)値を上げることができる。一方、保形層2BにはSrOが含有されている分、SiOの含有量がコイル部配置層2Aに比して少なくなるため、保形層2Bの誘電率が高くなる。しかし、保形層2Bにはコイル導体4,5は内包されておらず、コイルのQ値には影響を及ぼさない。コイル部配置層2AはSiOの含有量が高く強度が低いが、保形層2BはSiOの含有量が低く強度が高い。すなわち、保形層2Bは、焼成後にコイル部配置層2Aの補強層としても機能することができる。 Since the softening point cannot be lowered if SrO is contained, it is preferable that SrO is not contained in the coil portion arrangement layer 2A. Here, since SrO hardly diffuses, it is suppressed that SrO of the shape retaining layer 2B diffuses into the coil portion arrangement layer 2A during firing. If SrO is not contained in the coil portion arrangement layer 2A, the content ratio of SiO 2 showing a low dielectric constant can be relatively increased in the coil portion arrangement layer 2A, and thereby the dielectric constant can be lowered. . Therefore, the Q (quality factor) value of the coil can be increased. On the other hand, since the shape retention layer 2B contains SrO, the content of SiO 2 is smaller than that of the coil portion arrangement layer 2A, so that the dielectric constant of the shape retention layer 2B is increased. However, the shape retaining layer 2B does not include the coil conductors 4 and 5, and does not affect the Q value of the coil. Coil unit arrangement layer 2A is less high intensity content of SiO 2, Hokatachiso 2B is a high strength low content of SiO 2. That is, the shape retaining layer 2B can also function as a reinforcing layer of the coil portion arranging layer 2A after firing.

ここで、図3(a)に示すように、素体が結晶質であると、当該素体の表面の凹凸の影響により、そこに接するコイル導体の表面も凹凸が大きくなる可能性があるのに対し、図3(b)に示すように、素体が非晶質であると、当該素体の滑らかな表面の影響により、そこに接するコイル導体の表面も滑らかになり、より好ましい。すなわち、素体を非晶質とすることがより好ましい。素体2が図2に示される構成の場合、素体2は完全な非昌質ではなくアルミナ成分が少量(0.5〜2.4重量%)含まれている分だけ、結晶質を一部含むが、極めて少量であるため、図3(b)のような滑らかな表面が得られる。   Here, as shown in FIG. 3A, if the element body is crystalline, the surface of the coil conductor in contact with the element body may be uneven due to the influence of the unevenness on the surface of the element body. On the other hand, as shown in FIG. 3B, it is more preferable that the element body is amorphous because the surface of the coil conductor in contact therewith becomes smooth due to the influence of the smooth surface of the element body. That is, the element body is more preferably amorphous. When the element body 2 has the configuration shown in FIG. 2, the element body 2 is not completely amorphous, and the crystalline substance is reduced to the extent that the alumina component is contained in a small amount (0.5 to 2.4 wt%). Although the portion is included, the amount is extremely small, so that a smooth surface as shown in FIG.

素体を非晶質とするために軟化点を低くする場合、図4(b)に示されるように、素体全体が軟化することによって素体の形状が丸まってしまい、形状が保てない場合がある。しかし、素体2として図2のような保形層2Bを有する構成を採用した場合、図4(a)に示されるように、素体2の形状を保つことができるため、好ましい。素体2として図2の構成を採用した場合、コイル部配置層2Aを非晶質とするために、軟化点が保形層2Bよりも低く設定しても、軟化点が低くされたコイル部配置層2Aは、保形層2Bによって挟まれているため、焼成時に丸まることなく、形が保たれる。保形層2Bを有していなくとも非晶質とできる場合は、図1のような構成としてもよい。素体が非晶質であることに限定されず、所望のコイル導体の粒径が得られる限り、結晶質であってもよい。   When the softening point is lowered in order to make the element body amorphous, the shape of the element body is rounded by softening the entire element body as shown in FIG. 4B, and the shape cannot be maintained. There is a case. However, when the structure having the shape retaining layer 2B as shown in FIG. 2 is adopted as the element body 2, it is preferable because the shape of the element body 2 can be maintained as shown in FIG. When the structure of FIG. 2 is adopted as the element body 2, even if the softening point is set lower than the shape-retaining layer 2B in order to make the coil portion arrangement layer 2A amorphous, the coil portion having a low softening point. Since the arrangement layer 2A is sandwiched between the shape-retaining layers 2B, the shape is maintained without being rounded during firing. If the shape retaining layer 2B is not provided but can be made amorphous, the configuration shown in FIG. 1 may be used. The element body is not limited to being amorphous, and may be crystalline as long as a desired coil conductor particle size can be obtained.

コイル部3は、巻線部に係るコイル導体4と、外部電極6と接続される引出部に係るコイル導体5とを有している。コイル導体4,5は、例えば銀、銅及びニッケルのいずれかを主成分とした導体ペーストによって形成される。素体2が図2に示される構成の場合には、コイル部3は、コイル部配置層2Aの内部にのみ配置され、保形層2Bの中には配置されない。コイル部3のいずれのコイル導体4,5も保形層2Bと接触していない。積層方向におけるコイル部3の両端部は、保形層2Bから離間しており、当該コイル部3と保形層2Bとの間にはコイル部配置層2Aのセラミックが配置される。巻線部に係るコイル導体4は、コイル部配置層2Aを形成するセラミックグリーンシート上に、導体ペーストにて所定の巻線の導体パターンを形成することで構成される。各層の導体パターンは、スルーホール導体によって積層方向に電気的に接続される。引出部に係るコイル導体5は、巻線パターンの端部を外部電極6まで引き出すような導体パターンによって構成される。巻線部のコイルパターンや、巻線数や、引出部の引出し位置などは、特に限定されない。   The coil part 3 has a coil conductor 4 related to the winding part and a coil conductor 5 related to the lead part connected to the external electrode 6. For example, the coil conductors 4 and 5 are made of a conductor paste mainly composed of silver, copper, or nickel. In the case where the element body 2 has the configuration shown in FIG. 2, the coil part 3 is arranged only inside the coil part arrangement layer 2A and is not arranged in the shape retaining layer 2B. None of the coil conductors 4 and 5 of the coil part 3 is in contact with the shape retaining layer 2B. Both end portions of the coil portion 3 in the stacking direction are separated from the shape retaining layer 2B, and the ceramic of the coil portion arrangement layer 2A is disposed between the coil portion 3 and the shape retaining layer 2B. The coil conductor 4 related to the winding portion is configured by forming a conductor pattern of a predetermined winding with a conductor paste on the ceramic green sheet forming the coil portion arrangement layer 2A. The conductor patterns of each layer are electrically connected in the stacking direction by through-hole conductors. The coil conductor 5 related to the lead-out portion is configured by a conductor pattern that pulls the end of the winding pattern to the external electrode 6. The coil pattern of the winding part, the number of windings, the drawing position of the drawing part, etc. are not particularly limited.

コイル部3のコイル導体4,5の周りには、当該コイル導体4,5を覆うK(カリウム)の被覆層7が形成されている。この被覆層7は、コイル部配置層2Aを形成する焼成前のセラミックグリーンシートにカリウムを含有させることで、焼成時にカリウムがコイル導体4,5の周りに集まることによって形成される。   Around the coil conductors 4 and 5 of the coil portion 3, a K (potassium) coating layer 7 is formed to cover the coil conductors 4 and 5. The covering layer 7 is formed by allowing potassium to be collected around the coil conductors 4 and 5 during firing by adding potassium to the ceramic green sheet before firing forming the coil portion arrangement layer 2A.

コイル導体4,5の焼成後の粒径は、10μm〜22μmであることが好ましく、11μm〜18μmであることがより好ましい。コイル導体4,5の粒径を22μm以下とすることによって、コイル導体4,5を構成する金属(例えば銀)の融解により断線や引出部の引込み等が発生することを抑制することができる。   The particle size after firing of the coil conductors 4 and 5 is preferably 10 μm to 22 μm, and more preferably 11 μm to 18 μm. By setting the particle diameter of the coil conductors 4 and 5 to 22 μm or less, it is possible to suppress the occurrence of disconnection or pull-in of the lead-out portion due to melting of the metal (for example, silver) constituting the coil conductors 4 and 5.

表面抵抗を下げるべく、コイル導体4,5の表面粗さを小さくすることが好ましい。コイル導体4,5の粒径を10μm以上とすることによって、表面粗さを小さくし、高周波でQ値を高くすることができる。表面粗さが1%、5%、8%及び18%の場合の、コイル導体断面のSIM(Scanning Ion Microscopy)像の例を図5に示す。本実施形態では、導体断面のうちコイル導体と素体との境界部分について、コイル導体の凹凸の高さと凹凸の幅を測定し、凹凸の幅に対する凹凸の高さの百分率を取得し、このような凹凸を100箇所以上サンプリングして統計処理し、当該百分率の平均値を表面粗さとした。   In order to reduce the surface resistance, it is preferable to reduce the surface roughness of the coil conductors 4 and 5. By setting the particle diameter of the coil conductors 4 and 5 to 10 μm or more, the surface roughness can be reduced and the Q value can be increased at a high frequency. FIG. 5 shows an example of a SIM (Scanning Ion Microscopy) image of the cross section of the coil conductor when the surface roughness is 1%, 5%, 8% and 18%. In this embodiment, the height of the unevenness and the width of the unevenness of the coil conductor are measured for the boundary portion between the coil conductor and the element body in the conductor cross section, and the percentage of the height of the unevenness with respect to the width of the unevenness is obtained. More than 100 irregularities were sampled and statistically processed, and the average value of the percentage was defined as the surface roughness.

コイル導体4,5内には、その長手方向に沿って複数の空孔H(図6参照)が並んで存在している。これらの空孔Hは、コイル導体4,5の内部にのみ存在しており、コイル導体4,5の表面とは連通していない。コイル導体4,5内には、コイル導体4,5の表面と連通する孔(図示せず)もごく僅かに存在し得るが、本発明における「空孔」とは、コイル導体4,5の内部にのみ存在し且つコイル導体4,5の表面とは連通していない空孔Hのみをいう。コイル導体4,5の表面は、素体2(コイル部配置層2A)とほぼ密着している。   A plurality of holes H (see FIG. 6) are arranged in the coil conductors 4 and 5 along the longitudinal direction thereof. These holes H exist only inside the coil conductors 4 and 5 and do not communicate with the surfaces of the coil conductors 4 and 5. In the coil conductors 4 and 5, there may be very few holes (not shown) communicating with the surfaces of the coil conductors 4 and 5. Only the hole H which exists only inside and does not communicate with the surfaces of the coil conductors 4 and 5 is referred to. The surfaces of the coil conductors 4 and 5 are in close contact with the element body 2 (coil portion arrangement layer 2A).

本実施形態において、長手方向に直交する平面でのコイル導体4,5の断面積(コイル導体4,5としての実体がある領域の面積)に対する空孔Hの面積(コイル導体4,5としての実体がない領域の面積)の割合を示す空孔率の、コイル導体4,5の一端から他端までの平均値である平均空孔率は、15%以上である。図7及び表1に、空孔率に対し、巻線型コイル部品とのQ値の乖離の大きさの関係を示す。平均空孔率が3.63%のときの当該乖離の大きさは−10.5%であり、平均空孔率が6.26%のときの当該乖離の大きさは−6.81%であり、平均空孔率が7.26%のときの当該乖離の大きさは−4.51%であり、平均空孔率が15.3%のときの当該乖離の大きさは0.76%であり、平均空孔率が17.8%のときの当該乖離の大きさは2.31%である。図7に示されるように、平均空孔率が15%以上である場合、積層型コイル部品1においても巻線型コイル部品と同等以上のQ値を得ることができる。平均空孔率が17%以上であると、巻線型コイル部品をさらに上回るQ値が得られるため、より好ましい。
In the present embodiment, the area of the hole H (as the coil conductors 4, 5) with respect to the cross-sectional area of the coil conductors 4, 5 in the plane perpendicular to the longitudinal direction The average porosity, which is an average value from one end of the coil conductors 4 and 5 to the other end, of the porosity indicating the ratio of the area of the area where there is no substance is 15% or more. FIG. 7 and Table 1 show the relationship between the porosity and the magnitude of the deviation of the Q value from the wound coil component. The magnitude of the deviation when the average porosity is 3.63% is -10.5%, and the magnitude of the deviation when the average porosity is 6.26% is -6.81%. Yes, the magnitude of the deviation when the average porosity is 7.26% is -4.51%, and the magnitude of the deviation when the average porosity is 15.3% is 0.76%. When the average porosity is 17.8%, the magnitude of the deviation is 2.31%. As shown in FIG. 7, when the average porosity is 15% or more, the multilayer coil component 1 can also obtain a Q value equal to or higher than that of the wire-wound coil component. An average porosity of 17% or more is more preferable because a Q value that is even higher than that of the wire-wound coil component can be obtained.

長手方向に直交する平面でのコイル導体4,5の周囲長は、積層型コイル部品1が0402形状の場合には60μm〜80μm程度に設定でき、積層型コイル部品1が0603形状の場合には70μm〜90μm程度に設定でき、積層型コイル部品1が1005形状の場合には190μm〜240μm程度に設定できる。長手方向に直交する平面でのコイル導体4,5の幅に対する高さ(アスペクト比)は、0.3〜1.0程度に設定できる。   The circumferential length of the coil conductors 4 and 5 in a plane orthogonal to the longitudinal direction can be set to about 60 μm to 80 μm when the multilayer coil component 1 has a 0402 shape, and when the multilayer coil component 1 has a 0603 shape. It can be set to about 70 μm to 90 μm, and can be set to about 190 μm to 240 μm when the laminated coil component 1 has a 1005 shape. The height (aspect ratio) with respect to the width of the coil conductors 4 and 5 on a plane orthogonal to the longitudinal direction can be set to about 0.3 to 1.0.

一対の外部電極6は、素体2の端面のうち、積層方向と直交する方向において対向する両端面を覆うように形成されている。各外部電極6は、当該両端面全体を覆うように形成されていると共に、一部が当該両端面から他の四面へ回り込んでいてもよい。各外部電極6は、例えば銀、銅及びニッケルのいずれかを主成分とした導体ペーストを、スクリーン印刷するか、あるいは印刷とディップ方式を用いて形成する。   The pair of external electrodes 6 are formed so as to cover both end faces facing each other in the direction orthogonal to the stacking direction, among the end faces of the element body 2. Each external electrode 6 may be formed so as to cover the entire both end surfaces, and a part may wrap around from the both end surfaces to the other four surfaces. Each external electrode 6 is formed by screen-printing or using a printing and dipping method, for example, a conductor paste containing silver, copper, or nickel as a main component.

次に、上述した構成の積層型コイル部品1の製造方法について説明する。   Next, a method for manufacturing the multilayer coil component 1 having the above-described configuration will be described.

まず、コイル部配置層2Aを形成するセラミックグリーンシートを用意する。上述のような組成となるように、セラミックのペーストを調整し、ドクターブレード法などによりシート成型することで、各セラミックグリーンシートを用意する。図2のような構成とする場合、保形層2Bを形成するセラミックグリーンシートも用意する。   First, a ceramic green sheet for forming the coil portion arrangement layer 2A is prepared. Each ceramic green sheet is prepared by adjusting a ceramic paste so as to have the above-described composition and molding the sheet by a doctor blade method or the like. In the case of the configuration as shown in FIG. 2, a ceramic green sheet for forming the shape retaining layer 2B is also prepared.

コイル導体4,5を形成する導電性ペーストを用意する。この導電性ペーストには、所定の粒度特性を有する銀、ニッケル又は銅を主成分とする導体粉を含ませる。具体的に、導体粉として、平均粒径1μm〜3μm、標準偏差0.7μm〜1.0μmのものを用いる。なお、このような粒度特性の導体粉を得るために分級を行ってもよい。   A conductive paste for forming the coil conductors 4 and 5 is prepared. The conductive paste contains a conductor powder mainly composed of silver, nickel or copper having a predetermined particle size characteristic. Specifically, conductor powder having an average particle size of 1 μm to 3 μm and a standard deviation of 0.7 μm to 1.0 μm is used. In addition, classification may be performed to obtain a conductor powder having such particle size characteristics.

続いて、コイル部配置層2Aとなる各セラミックグリーンシートの所定の位置、すなわちスルーホール電極が形成される予定の位置に、レーザー加工等によってスルーホールをそれぞれ形成する。次に、コイル部配置層2Aとなる各セラミックグリーンシートの上に、各導体パターンをそれぞれ形成する。各導体パターン及び各スルーホール電極は、銀又はニッケルなどを含んだ導電性ペーストを用いてスクリーン印刷法により形成される。次に、所定温度(例えば、100〜150°程度)にて所定時間(例えば、1〜2時間程度)導電性ペーストを熱処理することで、脱バインダを行う。この際、バインダの一部が残留炭素として導電性ペースト内に残留する。   Subsequently, a through hole is formed by laser processing or the like at a predetermined position of each ceramic green sheet serving as the coil portion arrangement layer 2A, that is, a position where a through hole electrode is to be formed. Next, each conductor pattern is formed on each ceramic green sheet to be the coil portion arrangement layer 2A. Each conductor pattern and each through-hole electrode are formed by a screen printing method using a conductive paste containing silver or nickel. Next, binder removal is performed by heat-treating the conductive paste at a predetermined temperature (for example, about 100 to 150 °) for a predetermined time (for example, about 1 to 2 hours). At this time, a part of the binder remains as residual carbon in the conductive paste.

続いて、各セラミックグリーンシートを積層する。図2のような構成とする場合、保形層2Bとなるセラミックグリーンシートの上にコイル部配置層2Aとなるセラミックグリーンシートを積み重ね、その上から保形層2Bとなるセラミックグリーンシートを重ねる。なお、底部と上部に形成される保形層2Bは、それぞれ一枚のセラミックグリーンシートによって形成されてもよく、複数枚のセラミックグリーンシートによって形成されてもよい。次に、積層方向に圧力を加えて各セラミックグリーンシートを圧着する。   Subsequently, each ceramic green sheet is laminated. In the case of the configuration as shown in FIG. 2, the ceramic green sheets to be the coil portion arrangement layer 2A are stacked on the ceramic green sheets to be the shape retaining layer 2B, and the ceramic green sheets to be the shape retaining layer 2B are stacked thereon. The shape-retaining layer 2B formed on the bottom and the top may be formed by a single ceramic green sheet or a plurality of ceramic green sheets. Next, pressure is applied in the stacking direction to pressure-bond each ceramic green sheet.

続いて、この積層された積層体を、例えば、900〜940℃、10〜60分にて焼成を行い、素体2を形成する。コイル導体の粒径の目標粒径を10μm〜22μmとして、焼成条件を調整する。この際、導電性ペースト内に残留した残留炭素がガス化して膨張するが、導電性ペーストに含まれる金属粉末が先に焼結してコイル導体4,5内にガスが留まりやすくなっている。コイル部配置層2Aとなるセラミックグリーンシートがガラス系の材料であるため、ガスの膨張に伴いコイル部配置層2Aも変形しやすくなっている。こうして、コイル導体4,5内に留まったガスにより、コイル導体4,5内に比較的大きな空孔Hが形成され、コイル導体4,5において平均空孔率が15%以上となる。図2のような構成とする場合、設定される焼成温度は、コイル部配置層2Aの軟化点以上であって、保形層2Bの軟化点または融点未満に設定する。このとき、保形層2Bはコイル部配置層2Aの形状を保つ。   Subsequently, the laminated body is baked, for example, at 900 to 940 ° C. for 10 to 60 minutes to form the element body 2. The firing condition is adjusted by setting the target particle size of the coil conductor to 10 μm to 22 μm. At this time, the residual carbon remaining in the conductive paste is gasified and expands, but the metal powder contained in the conductive paste is sintered first, and the gas tends to stay in the coil conductors 4 and 5. Since the ceramic green sheet used as the coil portion arrangement layer 2A is a glass-based material, the coil portion arrangement layer 2A is also easily deformed as the gas expands. Thus, the gas remaining in the coil conductors 4 and 5 forms relatively large holes H in the coil conductors 4 and 5, and the average porosity of the coil conductors 4 and 5 is 15% or more. In the case of the configuration as shown in FIG. 2, the set firing temperature is set to be equal to or higher than the softening point of the coil portion arrangement layer 2A and lower than the softening point or melting point of the shape retaining layer 2B. At this time, the shape retention layer 2B maintains the shape of the coil portion arrangement layer 2A.

続いて、この素体2に外部電極6を形成する。これにより、積層型コイル部品1が形成される。外部電極6は、素体2の長手方向の両端面にそれぞれ銀、ニッケル又は銅を主成分とする電極ペーストを塗布して、所定温度(例えば、600〜700℃程度)で焼付けを行い、さらに電気めっきを施すことにより形成される。この電気めっきとしては、Cu、Ni及びSn等を用いることができる。   Subsequently, the external electrode 6 is formed on the element body 2. Thereby, the laminated coil component 1 is formed. The external electrode 6 is applied with an electrode paste mainly composed of silver, nickel or copper on both end faces in the longitudinal direction of the element body 2 and baked at a predetermined temperature (for example, about 600 to 700 ° C.). It is formed by applying electroplating. For this electroplating, Cu, Ni, Sn, or the like can be used.

以上のような本実施形態に係る積層型コイル部品において、空孔率に応じて高いQ値が得られる理由は、次のように考察される。空孔率が大きくなることに伴い、空孔H及びコイル導体4,5の合計の断面積が大きくなるので、コイル導体4,5の外形の大きさが大きくなる。そのため、長手方向に直交する平面でのコイル導体4,5の周囲長が長くなる。つまり、空孔Hの有無や空孔Hの大小に応じてコイル導体4,5の輪郭が変化し、空孔Hが大きいほどコイル導体4,5の外形が大きくなる。導体に高周波電流が流れる場合には、表皮効果によって導体の表面近傍にしか電流が流れないため、当該周囲長が長くなることは電流が流れる断面積の増加に繋がる。従って、コイル導体4,5の抵抗が小さくなる。Q値はコイル導体4,5の抵抗の大きさに反比例するため、コイル導体4,5の低抵抗化に伴い高いQ値が得られる。特に、平均空孔率を15%以上とすることで、巻線型コイル部品よりも安価に製造できる積層型コイル部品1においても、巻線型コイル部品と同等以上のQ値を得ることができる。   The reason why a high Q value is obtained according to the porosity in the multilayer coil component according to the present embodiment as described above is considered as follows. As the porosity increases, the total cross-sectional area of the holes H and the coil conductors 4 and 5 increases, so that the outer dimensions of the coil conductors 4 and 5 increase. Therefore, the peripheral length of the coil conductors 4 and 5 in a plane orthogonal to the longitudinal direction is increased. That is, the contours of the coil conductors 4 and 5 change depending on the presence or absence of the hole H and the size of the hole H, and the outer shape of the coil conductors 4 and 5 increases as the hole H increases. When a high-frequency current flows through the conductor, the current flows only near the surface of the conductor due to the skin effect, so that the peripheral length increases, the cross-sectional area through which the current flows increases. Accordingly, the resistance of the coil conductors 4 and 5 is reduced. Since the Q value is inversely proportional to the resistance of the coil conductors 4 and 5, a high Q value can be obtained as the resistance of the coil conductors 4 and 5 decreases. In particular, by setting the average porosity to 15% or more, even in the laminated coil component 1 that can be manufactured at a lower cost than the wound coil component, a Q value equal to or higher than that of the wound coil component can be obtained.

ところで、コイル導体4,5の周囲長を長くするために、セラミックグリーンシート上に導体ペーストを厚く塗布することも考えられる。しかしながら、セラミックグリーンシート上に導体ペーストを厚く塗布すると、導体ペーストが塗布されたセラミックグリーンシートを複数積層して圧着する際に、隣り合うセラミックグリーンシートの段差が大きくなって、セラミックグリーンシート同士の圧着不良が生ずる虞がある。セラミックグリーンシート上に導体ペーストを厚く塗布することで、使用する導体ペーストの量が増えて、高コストになってしまう。しかしながら、本実施形態では、コイル導体4,5の平均空孔率が高くなるように積層型コイル部品1を製造しているので、セラミックグリーンシート上に導体ペーストを厚く塗布することなくコイル導体4,5の周囲長を長くできる。そのため、本実施形態に係る積層型コイル部品1では、セラミックグリーンシート同士の圧着不良が生じ難くなっていると共に、製造コストの抑制が可能となっている。   By the way, in order to lengthen the perimeter of the coil conductors 4 and 5, it is also conceivable to apply a thick conductor paste on the ceramic green sheet. However, when the conductive paste is applied thickly on the ceramic green sheet, when a plurality of ceramic green sheets to which the conductive paste is applied are stacked and pressed, the step between adjacent ceramic green sheets becomes large, There is a risk of poor crimping. By applying the conductive paste thickly on the ceramic green sheet, the amount of the conductive paste to be used increases and the cost increases. However, in the present embodiment, since the laminated coil component 1 is manufactured so that the average porosity of the coil conductors 4 and 5 is high, the coil conductor 4 is not applied on the ceramic green sheet without thickly applying a conductor paste. , 5 can be made longer. For this reason, in the multilayer coil component 1 according to the present embodiment, it is difficult to cause a crimping failure between the ceramic green sheets, and the manufacturing cost can be suppressed.

コイルのQ値を上げるためには、コイル導体の表面の平滑性を上げることも好適である。上記のとおり、導体に高周波電流が流れる場合には、表皮効果によって導体の表面近傍にしか電流が流れないため(周波数が高くなれば高くなるほど表皮深さが浅くなるため)、高周波の場合は、コイル導体の表面の平滑性がQ値に影響を与えるためである。例えば、図8(b)に示すようにコイル導体の表面の平滑性が低く、凹凸が形成されていた場合、コイル導体の表面抵抗が上がり、コイルのQ値が下がってしまう。一方、図8(a)のようにコイル導体の表面の平滑性が高ければ、コイル導体の表面抵抗が下がり、コイルのQ値を上げることができる。そこで、本実施形態では、焼成後のコイル導体4,5の粒径を10μm以上とすることにより、コイル導体4,5の表面粗さを小さくしている。   In order to increase the Q value of the coil, it is also preferable to increase the smoothness of the surface of the coil conductor. As mentioned above, when high-frequency current flows through the conductor, current flows only near the surface of the conductor due to the skin effect (because the higher the frequency, the lower the skin depth). This is because the smoothness of the surface of the coil conductor affects the Q value. For example, as shown in FIG. 8B, when the surface of the coil conductor has low smoothness and unevenness is formed, the surface resistance of the coil conductor increases and the Q value of the coil decreases. On the other hand, if the smoothness of the surface of the coil conductor is high as shown in FIG. 8A, the surface resistance of the coil conductor is lowered, and the Q value of the coil can be increased. Therefore, in this embodiment, the surface roughness of the coil conductors 4 and 5 is reduced by setting the particle diameter of the fired coil conductors 4 and 5 to 10 μm or more.

ここで、表皮深さdと周波数fとの関係を式(1)に示す。式(1)において、ρは導体の抵抗率、σは導電率(σ=1/ρ)、ωは電流の角速度(ω=2πf)、μは導体の透磁率、πは円周率である。
Here, the relationship between the skin depth d and the frequency f is shown in Equation (1). In Equation (1), ρ is the resistivity of the conductor, σ is the conductivity (σ = 1 / ρ), ω is the angular velocity of the current (ω = 2πf), μ is the permeability of the conductor, and π is the circumference. .

導体が銀である場合には、式(1)によれば、周波数f=0.1GHzのとき表皮深さd=6.44μmとなり、周波数f=0.5GHzのとき表皮深さd=2.88μmとなり、周波数f=1.0GHzのとき表皮深さd=2.04μmとなり、周波数f=3.0GHzのとき表皮深さd=1.18μmとなる。よって、コイル導体4,5が銀を主成分とする場合、1GHz以上の高周波数領域においては、コイル導体4,5の表面から2.04μmよりも中心側の範囲に空孔Hが存在していることが好ましい。   When the conductor is silver, according to Equation (1), the skin depth d = 6.44 μm when the frequency f = 0.1 GHz, and the skin depth d = 2. When the frequency f = 1.0 GHz, the skin depth d = 2.04 μm, and when the frequency f = 3.0 GHz, the skin depth d = 1.18 μm. Therefore, when the coil conductors 4 and 5 are mainly composed of silver, in a high frequency region of 1 GHz or more, there is a hole H in a range closer to the center than 2.04 μm from the surface of the coil conductors 4 and 5. Preferably it is.

本実施形態では、積層型コイル部品1において、コイル導体4,5を覆うカリウムの被覆層7が形成されている。コイル導体4,5の周りにカリウムが存在する場合、当該コイル導体4,5の周りの素体2の軟化点を下げることができ、焼成時に当該領域の素体2が軟化して平滑になり易くなる。これに伴って、そこに接するコイル導体4,5の表面も平滑にすることができる。また、コイル導体4,5をカリウムの被覆層7で覆って保護することで、コイル導体4,5とガラスセラミックスとの境界付近でクラックが生じることを防止することができる。   In the present embodiment, in the multilayer coil component 1, a potassium coating layer 7 that covers the coil conductors 4 and 5 is formed. When potassium is present around the coil conductors 4 and 5, the softening point of the element body 2 around the coil conductors 4 and 5 can be lowered, and the element body 2 in the area softens and becomes smooth during firing. It becomes easy. Accordingly, the surfaces of the coil conductors 4 and 5 in contact therewith can also be smoothed. Further, by covering and protecting the coil conductors 4 and 5 with the potassium coating layer 7, it is possible to prevent cracks from occurring near the boundary between the coil conductors 4 and 5 and the glass ceramics.

以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記した実施形態に限定されるものではない。上述の実施形態では、一つのコイル部を有する積層型コイル部品を例示したが、例えば、アレイ状に複数のコイル部を有するものであってもよい。   As mentioned above, although embodiment of this invention was described in detail, this invention is not limited to above-described embodiment. In the above-described embodiment, the laminated coil component having one coil portion is illustrated, but for example, it may have a plurality of coil portions in an array.

1…積層型コイル部品、2…素体、2A…コイル部配置層、2B…保形層、3…コイル部、4,5…コイル導体、6…外部導体。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Multilayer coil component, 2 ... Element body, 2A ... Coil part arrangement | positioning layer, 2B ... Shape retention layer, 3 ... Coil part, 4,5 ... Coil conductor, 6 ... External conductor.

Claims (2)

複数の絶縁体層を積層することによって形成される非磁性体の素体と、
複数のコイル導体が電気的に接続されることによって前記素体の内部に形成されるコイル部とを備え、
前記コイル導体の表面は前記素体と密着しており、
前記コイル導体内には、その長手方向に沿って複数の空孔が並んで存在しており、
前記長手方向に直交する平面での前記コイル導体の断面積に対する空孔の面積の割合を示す空孔率の、前記コイル導体の一端から他端までの平均値である平均空孔率が、15%以上である、積層型コイル部品。
A non-magnetic element body formed by laminating a plurality of insulator layers;
A coil portion formed inside the element body by electrically connecting a plurality of coil conductors,
The surface of the coil conductor is in close contact with the element body,
In the coil conductor, there are a plurality of holes arranged along the longitudinal direction thereof,
An average porosity, which is an average value from one end of the coil conductor to the other end, of a porosity indicating a ratio of a hole area to a cross-sectional area of the coil conductor in a plane orthogonal to the longitudinal direction is 15 % Is a laminated coil component.
前記素体はガラスセラミックスである、請求項1に記載の積層型コイル部品。  The multilayer coil component according to claim 1, wherein the element body is a glass ceramic.
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