JP6024653B2 - 合成石英ガラスの熱処理装置、合成石英ガラスの熱処理方法、光学系の製造方法および露光装置の製造方法 - Google Patents
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Description
スの熱処理装置であって、炉体は、鉛直方向または水平方向に接して配置された第1炉体と第2炉体とからなり、冷媒導入部は第2炉体に設けられ、昇温ヒーターは第1炉体の内部に設けられている。
ガラスの熱処理方法であって、熱処理された合成石英ガラスの複屈折の最大値は5nm/
cmより大きい。
により製造した照明光学系および/または投影光学系を製造し、照明光学系および/また
は投影光学系を組み込んで露光装置を構成する。
以下、本発明を実施するための第1実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、熱処理される光学用セラミックス材料は合成石英ガラスとして説明するが、合成石英ガラス以外の光学用セラミック材料に関しても同様である。
図1は、本発明の実施形態1−1の熱処理装置100の断面図である。図2は、図1のA−A断面図である。
次に、本発明の実施形態1−2の光学用セラミック材料の熱処理装置について、図面を参照しながら説明する。図3は、本発明の実施形態1−2の光学用セラミック材料の熱処理装置200の断面図である。なお、実施形態1−1の光学用セラミック材料の熱処理装置100と同様の構成については図1で用いたものと同じ番号を用いる。
次に、本発明の実施形態1−3の光学用セラミック材料の熱処理装置態様について、図面を参照しながら説明する。図4は、本発明の実施形態1−3の光学用セラミック材料の熱処理装置300の断面図である。なお、実施形態1−1の光学用セラミック材料の熱処理装置100と同様の構成については図1で用いたものと同じ番号を用いる。
次に、本発明の実施形態1−4の光学用セラミック材料の熱処理装置について、図面を参照しながら説明する。図6は、本発明の第1の態様における第4構成形態の光学用セラミック材料の熱処理装置400の断面図である。なお、実施形態1−1の光学用セラミック材料の熱処理装置100と同様の構成については図1で用いたものと同じ番号を用いる。
次に、本発明の実施形態1−5の光学用セラミック材料の熱処理装置について、図面を参照しながら説明する。図7は、本発明の実施形態1−5の光学用セラミック材料の熱処理装置500の断面図である。なお、実施形態1−1の光学用セラミック材料の熱処理装置100と同様の構成については図1で用いたものと同じ番号を用いる。
次に、本発明を実施するための第2実施形態について説明する。
第2実施形態として説明した合成石英ガラスの熱処理方法を用いることによって得られた合成石英ガラス塊Sに対し、所定のサイズのレンズを得るために、研削加工、スライス加工、面取り加工、研磨加工等の加工を適宜行う。このようにして製造されたレンズの複屈折最大値は5nm/cmより大きい。
以下、図1に示した本発明の実施形態1−1として説明した光学用セラミック材料の熱処理装置100を用いて行った合成石英ガラスの熱処理方法の実施例について説明する。
日本国出願2011年第044763号(2011年3月2日)
Claims (18)
- 合成石英ガラスの熱処理装置であって、
熱処理すべき合成石英ガラスを内部に収容する炉体と、
前記熱処理すべき合成石英ガラスを降温する際に、降温速度を制御するために発熱させる降温制御ヒーターと、
前記炉体の内部に冷媒を流動させるために前記冷媒を前記炉体の外部から導入する冷媒導入部と、
前記熱処理すべき合成石英ガラスを降温する際に前記降温速度を制御するための制御部と、を有し、
前記降温制御ヒーターは、前記炉体の内部または/および前記冷媒導入部における前記炉体より上流側に配置され、
前記制御部は、前記熱処理すべき合成石英ガラスを降温する際には、前記冷媒導入部から前記冷媒を前記炉体の内部に導入して前記冷媒を前記炉体の内部を流動させて、前記降温制御ヒーターの発熱量と、前記炉体の内部を流動する前記冷媒の流量の少なくとも一方を制御して、前記熱処理すべき合成石英ガラスまたはその近傍における降温速度が70℃/時以上となるように制御する合成石英ガラスの熱処理装置。 - 請求項1に記載の合成石英ガラスの熱処理装置であって、
前記降温制御ヒーターは、仮想の円筒面上に配置されている合成石英ガラスの熱処理装置。 - 請求項1または請求項2に記載の合成石英ガラスの熱処理装置であって、
前記制御部は、前記降温制御ヒーターの発熱量と、前記炉体の内部における前記冷媒の流量の両方を制御する合成石英ガラスの熱処理装置。 - 請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の合成石英ガラスの熱処理装置であって、
前記炉体の内部における前記冷媒の流量を制御する流量制御部をさらに有する合成石英ガラスの熱処理装置。 - 請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の合成石英ガラスの熱処理装置であって、
前記降温制御ヒーターは前記炉体の内部に設けられ、前記熱処理すべき合成石英ガラスを昇温する際の昇温ヒーターとしても用いる合成石英ガラスの熱処理装置。 - 請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の合成石英ガラスの熱処理装置であって、
前記降温制御ヒーターは前記冷媒導入部における前記炉体より上流側に備えられ、前記炉体内には前記熱処理すべき合成石英ガラスを昇温する際の昇温ヒーターが設けられている合成石英ガラスの熱処理装置。 - 請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の合成石英ガラスの熱処理装置であって、
前記炉体は、鉛直方向または水平方向に接して配置された第1炉体と第2炉体とからなり、
前記降温制御ヒーターは第2炉体の内部に設けられ、
前記冷媒導入部は前記第2炉体に設けられ、
前記第1炉体の内部には、前記熱処理すべき合成石英ガラスを昇温する際の昇温ヒーターが設けられている合成石英ガラスの熱処理装置。 - 請求項6に記載の合成石英ガラスの熱処理装置であって、
前記炉体は、鉛直方向または水平方向に接して配置された第1炉体と第2炉体とからなり、
前記冷媒導入部は前記第2炉体に設けられ、
前記昇温ヒーターは前記第1炉体の内部に設けられている合成石英ガラスの熱処理装置。 - 請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の合成石英ガラスの熱処理装置であって、
前記炉体の内部を内側空間と外側空間に仕切る壁部をさらに有し、前記熱処理すべき合成石英ガラスは前記内側空間に配置される合成石英ガラスの熱処理装置。 - 請求項7または請求項8に記載の合成石英ガラスの熱処理装置であって、
前記第2炉体の内部を内側空間と外側空間に仕切る壁部をさらに有し、前記熱処理すべき合成石英ガラスは前記内側空間に配置される合成石英ガラスの熱処理装置。 - 請求項9または請求項10に記載の合成石英ガラスの熱処理装置であって、
前記降温制御ヒーターは前記内側空間に配置される合成石英ガラスの熱処理装置。 - 請求項9または請求項10に記載の合成石英ガラスの熱処理装置であって、
前記壁部は略鉛直方向に伸びる合成石英ガラスの熱処理装置。 - 請求項1から請求項12のいずれか一項に記載の合成石英ガラスの熱処理装置であって、
前記冷媒は、空気、窒素ガス、および不活性ガスからなる群のうちの1種類または2種類以上のガスを混合したもの、または液体である合成石英ガラスの熱処理装置。 - 請求項9または請求項10に記載の合成石英ガラスの熱処理装置であって、
前記冷媒導入部は前記炉体の下部に配置される合成石英ガラスの熱処理装置。 - 請求項1から請求項14のいずれか一項に記載の合成石英ガラスの熱処理装置を用いた合成石英ガラスの熱処理方法であって、
熱処理すべき合成石英ガラスを1000〜1200℃の間の温度に加熱して保持した後、70℃/時より大きい降温速度で冷却することで熱処理を行う合成石英ガラスの熱処理方法。 - 請求項15に記載の合成石英ガラスの熱処理方法であって、
熱処理された合成石英ガラスの複屈折の最大値は5nm/cmより大きい合成石英ガラスの熱処理方法。 - 光学系の製造方法であって、
請求項15に記載の合成石英ガラスの熱処理方法により、複屈折の最大値が5nm/cmより大きい合成石英ガラスを得て、該合成石英ガラスを加工して光学要素となし、該光学要素を含む複数の光学要素からなる光学系を構成する光学系の製造方法。 - 露光装置の製造方法であって、
請求項17に記載の光学系の製造方法により製造した照明光学系および/または投影光学系を製造し、前記照明光学系および/または前記投影光学系を組み込んで前記露光装置を構成する露光装置の製造方法。
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