JP6013540B2

JP6013540B2 - ガス供給方法およびガス供給装置

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Publication number: JP6013540B2
Application number: JP2015060842A
Authority: JP
Inventors: 建一今井; 大介曽根
Original assignee: Taiyo Nippon Sanso Corp
Current assignee: Taiyo Nippon Sanso Corp
Priority date: 2015-03-24
Filing date: 2015-03-24
Publication date: 2016-10-25
Anticipated expiration: 2035-03-24
Also published as: JP2016180455A

Description

本発明は、ガス供給方法およびガス供給装置に関する。

アンモニアや塩化水素などのガスは、半導体、液晶パネル、および太陽光発電などの原料として用いられている。これらのガスは、一般的に、液体状態の液化ガスとして金属製の容器に充填され、気液混合の状態で保管されている。一般的に、これらのガスを供給する際は、容器内の気相部からガスを抜き出すことで供給する。気相部のガスが減少した場合は、容器を加熱することで液化ガスの液相から気化ガスを生成して補充する。

ところで、近年、製造装置などの生産能力の向上に伴い、原料ガスの大量供給が求められるようになった。
特許文献１に開示されたガス供給装置では、液化ガスを充填した液化ガス容器を熱媒により加熱することで、ガスを大量に供給することができる。このガス供給装置では、加熱手段により、充填されたガスの液相もしくは気相に接した表面によらず、液化ガス容器の表面全体を均一に加熱している。

特許第４９０８８３２号公報

一般的に、液化ガスの液相と気相とを比較した場合、金属表面と液相との間の方が、金属表面と気相との間よりも熱伝達係数が高く、つまり、金属表面から液化ガスに熱が伝わりやすいことが知られている。言い換えると、液相に接した金属の表面と気相に接した金属の表面とに同じ熱量を与えた場合、気相の方が液化ガスに熱が伝わりにくいため、伝えられなかった熱が金属表面に溜まり、液相に比べ温度は高くなる傾向にある。

よって、特許文献１に開示されたガス供給装置では、容器表面の全面を均一に加熱するため、容器内の気相部に接触する容器表面側の温度が過度に高くなり、容器に設けられた弁などに影響するおそれがあった。

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、容器の表面温度の過度な上昇を防止することができるガス供給方法およびガス供給装置を提供することを課題とする。

上記課題を解決するため、請求項１に係る発明は、
液化ガス容器内の気相部からガス状の液化ガスを外部へ供給するガス供給方法であって、
前記液化ガス容器の表面を、
供給開始時から供給終了時まで液相と接触する第１の領域と、
少なくとも供給終了時までに気相と接触する第２の領域と、に区分し、
各領域の表面温度を基に、独立して温度制御しながら各領域の表面を加熱することを特徴とするガス供給方法である。

また、請求項２に係る発明は、
液化ガス容器内の気相部からガス状の液化ガスを外部へ供給するガス供給方法であって、
前記液化ガス容器の表面を、
供給開始時から供給終了時まで液相と接触する第１の領域と、
供給開始時から供給終了時まで気相と接触する第２の領域と、
供給開始時から供給終了時までに液相から気相に変化する第３の領域と、に区分し、
各領域の表面温度を基に、独立して温度制御しながら各領域の表面を加熱することを特徴とするガス供給方法である。

また、請求項３に係る発明は、
前記第３の領域を、さらに２以上の領域に区分し、各領域の表面温度を基に、独立して温度制御しながら各領域の表面を加熱する、請求項２に記載のガス供給方法である。

また、請求項４に係る発明は、
液化ガス容器内の気相部からガス状の液化ガスを外部へ供給するガス供給方法であって、
前記液化ガス容器の表面を、
供給開始時から供給終了時まで気相と接触する第１の領域と、
少なくとも供給終了時までに液相と接触する第２の領域と、に区分し、
各領域の表面温度を基に、独立して温度制御しながら各領域の表面を加熱することを特徴とするガス供給方法である。

また、請求項５に係る発明は、
液化ガス容器内の気相部からガス状の液化ガスを外部へ供給するガス供給装置であって、
供給開始時から供給終了時まで前記液化ガス容器内の液相に接触する部分に対応する、当該液化ガス容器の表面部分のみを含む第１の領域を、前記第１の領域の温度を基に温度制御しながら加熱する第１の温度制御加熱手段と、
少なくとも供給終了時までに前記液化ガス容器内の気相と接触する部分に対応する、当該液化ガス容器の表面部分を含む第２の領域を、前記第２の領域の温度を基に温度制御しながら加熱する第２の温度制御加熱手段と、を備えることを特徴とするガス供給装置である。

また、請求項６に係る発明は、
液化ガス容器内の気相部からガス状の液化ガスを外部へ供給するガス供給装置であって、
供給開始時から供給終了時まで前記液化ガス容器内の液相に接触する部分に対応する、当該液化ガス容器の表面部分のみを含む第１の領域を、前記第１の領域の温度を基に温度制御しながら加熱する第１の温度制御加熱手段と、
供給開始時から供給終了時まで前記液化ガス容器内の気相に接触する部分に対応する、当該液化ガス容器の表面部分のみを含む第２の領域を、前記第２の領域の温度を基に温度制御しながら加熱する第２の温度制御加熱手段と、
供給開始時から供給終了時までに前記液化ガス容器内の液相から気相に変化する内容部に接触する部分に対応する、当該液化ガス容器の表面部分のみを含む第３の領域を、前記第３の領域の温度を基に温度制御しながら加熱する第３の温度制御加熱手段と、を備えることを特徴とするガス供給装置である。

また、請求項７に係る発明は、
前記第３の領域がさらに２以上の領域に区分されており、各領域を、各領域の温度を基に温度制御しながら独立して加熱する温度制御加熱手段をさらに備える、請求項６に記載のガス供給装置である。

また、請求項８に係る発明は、
液化ガス容器内の気相部からガス状の液化ガスを外部へ供給するガス供給装置であって、
供給開始時から供給終了時まで前記液化ガス容器内の気相に接触する部分に対応する、当該液化ガス容器の表面部分のみを含む第１の領域を、前記第１の領域の温度を基に温度制御しながら加熱する第１の温度制御加熱手段と、
少なくとも供給終了時までに前記液化ガス容器内の液相と接触する部分に対応する、当該液化ガス容器の表面部分を含む第２の領域を、前記第２の領域の温度を基に温度制御しながら加熱する第２の温度制御加熱手段と、を備えることを特徴とするガス供給装置である。

本発明のガス供給方法は、液化ガス容器の表面を、容器内の液化ガスへの熱の伝わりに差がある複数の領域に区分し、各領域の表面温度を基に、独立して温度制御しながら各領域の表面を加熱する構成となっており、熱の伝わりの差に応じた温度制御を行うことができるため、容器の表面温度の過度な上昇を防止することができる。

また、本発明のガス供給装置は、容器内の液化ガスへの熱の伝わりに差がある複数の領域を、各領域の温度を基に温度制御しながら加熱する各温度制御加熱手段を備える構成となっており、熱の伝わりの差に応じた温度制御を行うことができるため、容器の表面温度の過度な上昇を防止することができる。

本発明を適用した第１の実施形態であるガス供給装置の構成を示す図である。本発明を適用した第１の実施形態であるガス供給装置を用いたガス供給方法を説明するための図である。本発明を適用した第２の実施形態であるガス供給装置の構成を示す図である。

以下、本発明を適用した一実施形態であるガス供給装置およびこれを用いたガス供給方法について詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。

＜第１の実施形態＞
先ず、本発明を適用した第１の実施形態であるガス供給装置の構成について説明する。図１は、本発明を適用した第１の実施形態であるガス供給装置の構成を示す図である。図１に示すように、本実施形態のガス供給装置１は、液化ガス容器２と、第１の温度制御加熱手段３と、第２の温度制御加熱手段４と、容器弁５と、を備えて概略構成されている。本実施形態のガス供給装置１は、液化ガス容器２内の気相部からガス状の液化ガスを外部へ供給するための装置である。

ところで、一般的に、容器内の液化ガスを気化して気相部からガス状の液化ガスを供給する際は、容器内の液相を数割ほど残した状態で供給を終了させる。これは、供給し続けることで容器内の液相が減少すると、気化されない容器内の不純物が凝縮し、徐々に不純物濃度の高い液化ガスとなるためである。また、容器内の気相部が広がることにより、液相部の気化が間に合わず、容器内の圧力の維持が困難となるためである。

先に述べたように、液相に接した表面と、気相に接した表面とでは、それぞれの状態の液化ガスへの熱の伝わりが異なっている。その結果、これらの表面では、温度上昇に差が生じる。

そこで、本実施形態のガス供給装置１では、液化ガス容器２の表面を、容器内の液化ガスへの熱の伝わりに差がある、供給開始時から供給終了時まで常に液相と接触する第１の領域Ｓ１と、供給開始時から供給終了時まで常に気相と接触する表面および供給終了時までに液相から気相へと変化する表面を合わせた第２の領域Ｓ２と、に区分し、各区分において独立して温度を制御している。

液化ガス容器２は、液化ガスを充填するための容器である。液化ガス容器２の材質としては、特に限定されないが、具体的には、例えば、ステンレス鋼（ＳＵＳ）、マンガン鋼などが挙げられる。
液化ガス容器２に充填される液化ガスとしては、特に限定されないが、具体的には、例えば、アンモニア、塩化水素、塩素、亜酸化窒素などが挙げられる。

液化ガス容器２の表面は、表面温度の上がり方で大きく２つの領域に分けられる。一つは、液相に接触する領域で、液状の液化ガスに熱が伝わりやすいため、表面温度は比較的上がりにくい。もう一つは、気相に接触する領域で、気化された液化ガスに熱が伝わりにくいため、表面温度は比較的上がりやすい。よって、ガスの供給中に液相から気相に変化する領域について、常に液相の領域に含めるか、常に気相の領域に含めるか、それとも独立した加熱領域とするかを、判断することになる。本実施形態のガス供給装置１では、常に気相の領域に加えたが、これに限定されることではなく、いずれの区分も可能である。

第１の温度制御加熱手段３は、第１の加熱手段６と、第１の温度計７と、第１の制御部８と、を備える。第１の温度制御加熱手段３により、第１の領域Ｓ１の表面温度を制御しつつ第１の領域Ｓ１を加熱することができる。

第１の加熱手段６は、液化ガス容器２の表面のうち、第１の領域Ｓ１、つまり、液化ガス容器２内の常に液相に接触する部分に対応する、当該液化ガス容器２の表面部分のみを含む領域を覆うように設けられている。第１の加熱手段６により、第１の領域Ｓ１を加熱することができる。

第１の加熱手段６としては、液化ガス容器２の表面を加熱することができるものであれば、特に限定されない。具体的には、例えば、液化ガス容器２の表面に巻かれた熱交換媒体を流通するための配管であってもよい。熱交換媒体としては、具体的には、例えば、温風、熱風などの気体媒体、または、温水、熱水、熱油などの液体媒体などが挙げられる。また、第１の加熱手段６として、ハロゲンヒーターなどにより赤外線で熱を伝える方法や、電気ヒーターなどにより熱を直接容器表面に伝える方法であってもよい。

第１の温度計７は、液化ガス容器２の表面のうち、第１の領域Ｓ１に設けられ、第１の領域Ｓ１の表面温度を測定し、第１の制御部８に測定値を送信することができる。第１の温度計７は、表面温度が上がりやすい位置に取り付けることが望ましい。第１の実施形態においては、第１の加熱手段６の熱を受ける容器表面に取り付けた。しかしながら、これに限定されることではなく、第１の領域Ｓ１の様々な位置に２か所以上に複数取り付け、それらの値の平均を測定値として送信してもよい。

第１の制御部８は、第１の温度計７が測定した第１の領域Ｓ１の表面温度を基に、第１の加熱手段６を制御するために設けられる。第１の制御部８は、信号線Ｃ１を介して第１の加熱手段６と接続され、信号線Ｃ２を介して第１の温度計７と接続されている。

第１の制御部８を用いて、第１の領域Ｓ１の表面温度を基に、第１の加熱手段６を制御することにより、例えば、第１の領域Ｓ１の表面温度が予め定められた目標温度まで加熱し、目標温度に達したら加熱を停止する。その後、目標温度を下回ったら再び加熱する、といった動作をすることにより、第１の領域Ｓ１の表面温度を制御することができる。しかしながら、温度制御の方法はこれに限定することではなく、例えば、上限値と下限値を設け、下限値を下回ったら加熱を開始し、上限値を上回ったら加熱を停止するような制御方法でもよく、目標温度に対するＰＩＤ制御を行なってもよい。
第１の制御部８としては、特に限定されるものではないが、具体的には、例えば、プログラマブルロジックコントローラ（ＰＬＣ）などが挙げられる。

第２の温度制御加熱手段４は、第２の加熱手段９と、第２の温度計１０と、第２の制御部１１と、を備える。第２の温度制御加熱手段４により、第２の領域Ｓ２の表面温度を制御しつつ第２の領域Ｓ２を加熱することができる。

第２の加熱手段９は、液化ガス容器２の表面のうち、第２の領域Ｓ２、つまり、供給開始時から供給終了時まで常に気相と接触する表面、および少なくとも供給終了時までに液相から気相へと変化する表面を合わせた部分に対応する、当該液化ガス容器２の表面部分を含む領域を覆うように設けられている。第２の加熱手段９により、第２の領域Ｓ２を加熱することができる。第２の加熱手段９としては、上述した第１の加熱手段６と同様のものを用いることができる。

第２の温度計１０は、液化ガス容器２の表面のうち、第２の領域Ｓ２に設けられ、第２の領域Ｓ２の表面温度を測定し、第２の制御部１１に測定値を送信することができる。第２の温度計１０は、表面温度が上がりやすい、位置に取り付けることが望ましい。第１の実施形態においては、供給開始時から供給終了時まで常に気相と接触する表面に取り付けた。しかしながら、これに限定されることではなく、第２の領域Ｓ２の様々な位置に２か所以上に複数取り付け、それらの値の平均を測定値として送信してもよい。

第２の制御部１１は、第２の温度計１０が測定した第２の領域Ｓ２の表面温度を基に、第２の加熱手段９を制御するために設けられる。第２の制御部１１は、信号線Ｃ３を介して第２の加熱手段９と接続され、信号線Ｃ４を介して第２の温度計１０と接続されている。

第２の制御部１１を用いることにより、上述した第１の制御部８と同様にして、第２の領域Ｓ２の表面温度を制御することができる。また、第１の制御部８と同様の装置を用いることができる。

容器弁５は、液化ガス容器２の先端部に設けられた弁であり、弁の開閉により、ガスの供給を制御することができる。
容器弁５としては、特に限定されないが、一般的に、玉形弁が用いられる。

＜ガス供給方法＞
次に、上述した第１の実施形態のガス供給装置１を用いた、本実施形態のガス供給方法について説明する。
本実施形態のガス供給方法は、液化ガス容器２の表面を、前述の第１の領域Ｓ１と、前述の第２の領域Ｓ２と、に区分し、各区分において、独立して温度制御することを特徴とする。

本実施形態のガス供給方法を、図２を参照しながら説明する。ここで、図２中の横軸は、時間を示している。また、縦軸は、上から１段目および２段目は、それぞれ第１の加熱手段６および第２の加熱手段９による加熱制御の状態を示しており、「ＯＮ」は加熱していることを示し、「ＯＦＦ」は加熱を停止していることを示している。上から３段目は、第１の温度計７および第２の温度計１０により測定された、第１の領域Ｓ１および第２の領域Ｓ２の表面温度を示している。上から４段目は、液化ガス容器２内の液面の高さを示している。上から５段目は、ガス供給装置１によるガスの供給量を示している。

図２に示すように、先ず、時刻ｔ_１になる前まで、つまり、ガスの供給の開始前までは、第１の加熱手段６および第２の加熱手段９は停止した状態である。この状態では、液化ガス容器２の表面温度および液面高さに変化はない。

次に、時刻ｔ１において、ガスの供給を開始するために容器弁５を開く。また、第１の加熱手段６により、第１の領域Ｓ１の加熱を開始する。さらに、第２の加熱手段９により、第２の領域Ｓ２の加熱を開始する。これにより、液化ガスが気化し、液化ガス容器２の内圧を高めることで、液化ガスの供給による圧力低下を防ぐ。液化ガスの供給にともない、液面が降下する。

第１の領域Ｓ１および第２の領域Ｓ２が加熱されることにより、表面温度が上昇する。このとき、第２の領域Ｓ２では気相部が含まれるため、第１の領域Ｓ１よりも表面温度の上昇が速い。また、第２の領域Ｓ２では、時間の経過とともに気相部の割合が増えていくため、表面温度の上昇が加速される傾向にある。

次に、時刻ｔ２において、第２の領域Ｓ２の表面温度が目標温度に達したのを確認したら、第２の加熱手段９による加熱を停止する。これにより、第２の領域Ｓ２の表面温度の過度な上昇が抑えられる。

次に、時刻ｔ３において、第１の領域Ｓ１の表面温度が目標温度に達したのを確認したら、第１の加熱手段６による加熱を停止する。これにより、第１の領域Ｓ１の表面温度の過度な上昇が抑えられる。
時刻ｔ３の経過後、第１の領域Ｓ１および第２の領域Ｓ２の表面温度はそれぞれピークをとり、その後、表面温度は低下する。

次に、時刻ｔ４において、第２の領域Ｓ２の表面温度が目標温度よりも低下したことを確認したら、第２の加熱手段９による加熱を再開する。これにより、第２の領域Ｓ２の表面温度の低下が抑えられる。

次に、時刻ｔ５において、第１の領域Ｓ１の表面温度が目標温度よりも低下したことを確認したら、第１の加熱手段６による加熱を再開する。これにより、第１の領域Ｓ１の表面温度の低下が抑えられる。

このように、第１の領域Ｓ１および第２の領域Ｓ２に対して、独立して、温度測定および加熱制御を行うことにより、表面温度が目標温度に近い状態を維持しながら、気相部からガス状の液化ガスを供給する。

次に、時刻ｔ１２において、液面の高さを測定することにより、液化ガス容器２の交換時期であることを確認したら、容器弁５を閉めてガスの供給を停止する。それと同時に、第１の加熱手段６による、第１の領域Ｓ１の加熱を停止する。さらに、第２の加熱手段９による、第２の領域Ｓ２の加熱を停止する。
以上の操作により、液化ガス容器２の表面温度の過度な上昇を防止しつつ、液化ガスを供給することができる。

＜第２の実施形態＞
次に、本発明を適用した第２の実施形態であるガス供給装置の構成について説明する。図３は、本発明を適用した第２の実施形態であるガス供給装置の構成を示す図である。図３に示すように、本実施形態のガス供給装置２１は、液化ガス容器２と、第１の温度制御加熱手段３と、第２の温度制御加熱手段２４と、第３の温度制御加熱手段３２と、容器弁５と、を備えて概略構成されている。

また、本実施形態のガス供給装置２１では、液化ガス容器２の表面を、容器内の液化ガスへの熱の伝わりに差がある、供給開始時から供給終了時まで常に液相と接触する第１の領域Ｓ１と、供給開始時から供給終了時まで常に気相と接触する第２の領域Ｓ２２と、供給開始時から供給終了時までに液相から気相に変化する第３の領域Ｓ２３と、に区分し、各区分において独立して温度を制御している。

つまり、第２の実施形態のガス供給装置２１は、より高い精度で温度制御する目的で、第１の実施形態のガス供給装置１における第２の領域Ｓ２を、熱の伝わりの違いによってさらに２つの区分に分けて、各区分に独立して容器表面の温度を制御するための温度制御加熱手段を備えていること以外は、第１の実施形態のガス供給装置１と同様である。そのため、重複する部分については、説明を省略する。

第２の温度制御加熱手段２４は、第２の加熱手段２９と、第２の温度計３０と、第２の制御部３１と、を備える。第２の温度制御加熱手段２４により、供給開始時から供給終了時まで気相と接触する第２の領域Ｓ２２の表面温度を制御すること以外は、上述した第１の実施形態のガス供給装置１における第２の温度制御加熱手段４と同様である。

第３の温度制御加熱手段３２は、第３の加熱手段３３と、第３の温度計３４と、第３の制御部３５と、を備える。第３の温度制御加熱手段３２により、供給開始時から供給終了時までに液相から気相に変化する第３の領域Ｓ２３の表面温度を制御することができる。第３の加熱手段３３、第３の温度計３４、第３の制御部３５としては、上述した第１の実施形態のガス供給装置１における第１の加熱手段６、第１の温度計７、第１の制御部８と同様の機器や装置を用いることができる。

以上説明したように、第１の実施形態のガス供給装置１は、前述の第１の領域Ｓ１を加熱する第１の加熱手段６と、前述の第２の領域Ｓ２を加熱する第２の加熱手段９と、を備える構成となっているため、熱の伝わりの差に応じたガス供給中の液化ガス容器２の表面の温度制御を行うことができる。これにより、容器の表面温度の過度な上昇を防止することができる。

また、第２の実施形態のガス供給装置２１は、前述の第１の領域Ｓ１を加熱する第１の加熱手段６と、前述の第２の領域Ｓ２２を加熱する第２の加熱手段２９と、前述の第３の領域Ｓ２３を加熱する第３の加熱手段３３と、を備える構成となっているため、ガス供給中の液化ガス容器２の表面温度を、より高い精度で制御することができる。これにより、容器の表面温度の過度な上昇を防止することができる。

以上、この発明の実施形態について図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計等も含まれる。例えば、上記第３の領域Ｓ２３を、液相から気相に変化するタイミングに応じて、さらに２以上の領域に区分してもよい。これにより、ガス供給中の液化ガス容器２の表面温度を、より高い精度で制御することができ、液化ガス容器２の表面温度の過度な上昇を防止することができる。

また、液化ガス容器２の加熱領域を、供給開始時から供給終了時まで常に気相に接触する第１の領域Ｓ１と、少なくとも供給終了時までに液相と接触する第２の領域Ｓ２とに区分してもよい。

また、上述した第１の実施形態のガス供給装置１および第２の実施形態のガス供給装置２１では、複数の制御部を備える例について説明したが、１台の制御部により各加熱手段および各温度計を制御してもよい。

本発明のガス供給装置およびガス供給方法は、半導体、液晶パネル、および太陽光発電パネルなどの製造に用いられるガスを供給するためのガス供給装置およびガス供給方法として利用可能性がある。

１，２１…ガス供給装置、２…液化ガス容器、３…第１の温度制御加熱手段、４，２４…第２の温度制御加熱手段、５…容器弁、６…第１の加熱手段、７…第１の温度計、８…第１の制御部、９，２９…第２の加熱手段、１０，３０…第２の温度計、１１，３１…第２の制御部、３２…第３の温度制御加熱手段、３３…第３の加熱手段、３４…第３の温度計、３５…第３の制御部、Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３，Ｃ４…信号線、Ｓ１…第１の領域、Ｓ２，Ｓ２２…第２の領域、Ｓ２３…第３の領域

Claims

液化ガス容器内の気相部からガス状の液化ガスを外部へ供給するガス供給方法であって、
前記液化ガス容器の表面を、
供給開始時から供給終了時まで液相と接触する第１の領域と、
少なくとも供給終了時までに気相と接触する第２の領域と、に区分し、
各領域の表面温度を基に、独立して温度制御しながら各領域の表面を加熱することを特徴とするガス供給方法。
液化ガス容器内の気相部からガス状の液化ガスを外部へ供給するガス供給方法であって、
前記液化ガス容器の表面を、
供給開始時から供給終了時まで液相と接触する第１の領域と、
供給開始時から供給終了時まで気相と接触する第２の領域と、
供給開始時から供給終了時までに液相から気相に変化する第３の領域と、に区分し、
各領域の表面温度を基に、独立して温度制御しながら各領域の表面を加熱することを特徴とするガス供給方法。
前記第３の領域を、さらに２以上の領域に区分し、各領域の表面温度を基に、独立して温度制御しながら各領域の表面を加熱する、請求項２に記載のガス供給方法。
液化ガス容器内の気相部からガス状の液化ガスを外部へ供給するガス供給方法であって、
前記液化ガス容器の表面を、
供給開始時から供給終了時まで気相と接触する第１の領域と、
少なくとも供給終了時までに液相と接触する第２の領域と、に区分し、
各領域の表面温度を基に、独立して温度制御しながら各領域の表面を加熱することを特徴とするガス供給方法。
液化ガス容器内の気相部からガス状の液化ガスを外部へ供給するガス供給装置であって、
供給開始時から供給終了時まで前記液化ガス容器内の液相に接触する部分に対応する、当該液化ガス容器の表面部分のみを含む第１の領域を、前記第１の領域の温度を基に温度制御しながら加熱する第１の温度制御加熱手段と、
少なくとも供給終了時までに前記液化ガス容器内の気相と接触する部分に対応する、当該液化ガス容器の表面部分を含む第２の領域を、前記第２の領域の温度を基に温度制御しながら加熱する第２の温度制御加熱手段と、を備えることを特徴とするガス供給装置。
液化ガス容器内の気相部からガス状の液化ガスを外部へ供給するガス供給装置であって、
供給開始時から供給終了時まで前記液化ガス容器内の液相に接触する部分に対応する、当該液化ガス容器の表面部分のみを含む第１の領域を、前記第１の領域の温度を基に温度制御しながら加熱する第１の温度制御加熱手段と、
供給開始時から供給終了時まで前記液化ガス容器内の気相に接触する部分に対応する、当該液化ガス容器の表面部分のみを含む第２の領域を、前記第２の領域の温度を基に温度制御しながら加熱する第２の温度制御加熱手段と、
供給開始時から供給終了時までに前記液化ガス容器内の液相から気相に変化する内容部に接触する部分に対応する、当該液化ガス容器の表面部分のみを含む第３の領域を、前記第３の領域の温度を基に温度制御しながら加熱する第３の温度制御加熱手段と、を備えることを特徴とするガス供給装置。
前記第３の領域がさらに２以上の領域に区分されており、各領域を各領域の温度を基に温度制御しながら独立して加熱する温度制御加熱手段をさらに備える、請求項６に記載のガス供給装置。
液化ガス容器内の気相部からガス状の液化ガスを外部へ供給するガス供給装置であって、
供給開始時から供給終了時まで前記液化ガス容器内の気相に接触する部分に対応する、当該液化ガス容器の表面部分のみを含む第１の領域を、前記第１の領域の温度を基に温度制御しながら加熱する第１の温度制御加熱手段と、
少なくとも供給終了時までに前記液化ガス容器内の液相と接触する部分に対応する、当該液化ガス容器の表面部分を含む第２の領域を、前記第２の領域の温度を基に温度制御しながら加熱する第２の温度制御加熱手段と、を備えることを特徴とするガス供給装置。