JP5996382B2 - Chuck table of cutting equipment - Google Patents
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- 238000005520 cutting process Methods 0.000 title claims description 145
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 23
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 20
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000009966 trimming Methods 0.000 description 18
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 5
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6838—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
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- H—ELECTRICITY
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q3/00—Devices holding, supporting, or positioning work or tools, of a kind normally removable from the machine
- B23Q3/02—Devices holding, supporting, or positioning work or tools, of a kind normally removable from the machine for mounting on a work-table, tool-slide, or analogous part
- B23Q3/06—Work-clamping means
- B23Q3/08—Work-clamping means other than mechanically-actuated
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B41/00—Component parts such as frames, beds, carriages, headstocks
- B24B41/06—Work supports, e.g. adjustable steadies
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B53/00—Devices or means for dressing or conditioning abrasive surfaces
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/304—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
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- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67092—Apparatus for mechanical treatment
-
- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02002—Preparing wafers
- H01L21/02005—Preparing bulk and homogeneous wafers
- H01L21/02008—Multistep processes
- H01L21/0201—Specific process step
- H01L21/02021—Edge treatment, chamfering
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
- Jigs For Machine Tools (AREA)
- Dicing (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Description
本発明は、被加工物に対して切削加工を施す切削装置のチャックテーブルに関する。 The present invention relates to a chuck table of a cutting apparatus that performs a cutting process on a workpiece.
ウェーハの外周縁には表面から裏面に至る円弧面が形成されている。従って、ウェーハの裏面を研削してウェーハを薄化すると、円弧面と研削面とによって形成されたナイフエッジが残存し、外周縁に欠けが生じてデバイスの品質を低下させてしまう。そこで、ウェーハの裏面を研削する前に切削ブレードでウェーハの面取り部を除去する外周加工方法、所謂エッジトリミング加工が開発され(例えば、特許文献1参照)、所謂エッジトリミング加工に用いられるチャックテーブルが開発された(例えば、特許文献2参照)。また、所謂エッジトリミング加工においては、定期的に切削ブレードの先端をドレッシングボードによりフラットに整形するフラットドレスが行われる(例えば、特許文献3参照)。 An arc surface extending from the front surface to the back surface is formed on the outer peripheral edge of the wafer. Therefore, if the wafer is thinned by grinding the back surface of the wafer, the knife edge formed by the arc surface and the ground surface remains, and the outer peripheral edge is chipped, thereby degrading the quality of the device. Therefore, a peripheral processing method for removing the chamfered portion of the wafer with a cutting blade before grinding the back surface of the wafer, a so-called edge trimming process has been developed (see, for example, Patent Document 1), and a chuck table used for the so-called edge trimming process has been developed. It has been developed (see, for example, Patent Document 2). In so-called edge trimming processing, a flat dress is formed by periodically shaping the tip of the cutting blade into a flat shape with a dressing board (see, for example, Patent Document 3).
特許文献2のようなチャックテーブルは、切削ブレードをフラットドレスする際に、ドレッシングボードを保持可能なチャックテーブルに変更する必要があった。 The chuck table as in Patent Document 2 needs to be changed to a chuck table that can hold the dressing board when the cutting blade is flat dressed.
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、ドレッシングボードを保持可能なチャックテーブルに変更することなく、ドレッシングボードを保持可能で、切削ブレードをフラットドレスすることができる切削装置のチャックテーブルを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above, and it is possible to hold a dressing board without changing to a chuck table capable of holding a dressing board, and a chuck table of a cutting apparatus capable of flat dressing a cutting blade The purpose is to provide.
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の切削装置のチャックテーブルは、切削ブレードを有する切削手段で円板形状の被加工物の表面から該被加工物の外周縁を切削して除去する際に当該被加工物を裏面側から吸引保持する切削装置のチャックテーブルであって、前記被加工物の外周部を環状の保持面で吸引保持する環状保持部と、前記環状保持部の内周側で該環状保持部と同心状に配置され、ドレッシングボードを保持面で吸引保持するドレッシングボード保持部と、前記環状保持部と前記ドレッシングボード保持部とがそれぞれ立設する基台部と、を有し、前記ドレッシングボード保持部及び前記環状保持部は、それぞれの保持面に開口する吸引口と、一端が前記吸引口に連通するとともに他端が吸引源に接続される吸引路と、を備え、前記環状保持部と前記ドレッシングボード保持部との間には、排水溝が形成され、前記排水溝の溝底には、前記基台部の外部に貫通する排出口が配設され、前記排水溝に流入するドレッシング加工液が前記排出口から排出されることを特徴とする。 In order to solve the above-described problems and achieve the object, the chuck table of the cutting apparatus of the present invention cuts the outer peripheral edge of the workpiece from the surface of the disk-shaped workpiece by a cutting means having a cutting blade. A chuck table of a cutting device that sucks and holds the workpiece from the back side when the workpiece is removed, an annular holding portion that sucks and holds an outer peripheral portion of the workpiece with an annular holding surface, and the annular holding A concentric arrangement with the annular holding part on the inner peripheral side of the part, a dressing board holding part for sucking and holding the dressing board with a holding surface, and a base on which the annular holding part and the dressing board holding part stand. The dressing board holding part and the annular holding part have suction ports that open to the respective holding surfaces, and suction terminals that have one end communicating with the suction port and the other end connected to a suction source. A drainage groove is formed between the annular holding part and the dressing board holding part, and a discharge port penetrating the outside of the base part is arranged at the groove bottom of the drainage groove. The dressing processing liquid that is provided and flows into the drainage groove is discharged from the discharge port.
また、上記切削装置のチャックテーブルにおいて、前記ドレッシングボード保持部の前記保持面は、前記環状保持部の前記保持面以下の高さに形成されることが好ましい。 In the chuck table of the cutting apparatus, it is preferable that the holding surface of the dressing board holding portion is formed at a height equal to or lower than the holding surface of the annular holding portion.
本発明の切削装置のチャックテーブルによれば、エッジトリミングする際には環状保持部で被加工物の外周部を吸引保持し、ドレッシングボード保持部でドレッシングボードを吸引保持するので、被加工物を保持してエッジトリミングすることができ、ドレッシングボードを保持してフラットドレスすることができるという効果を奏する。 According to the chuck table of the cutting apparatus of the present invention, when edge trimming is performed, the outer peripheral portion of the workpiece is sucked and held by the annular holding portion, and the dressing board is sucked and held by the dressing board holding portion. It can be held and edge trimmed, and the dressing board can be held and flat dressed.
本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換または変更を行うことができる。 DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Embodiments (embodiments) for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited by the contents described in the following embodiments. The constituent elements described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art and those that are substantially the same. Furthermore, the structures described below can be combined as appropriate. In addition, various omissions, substitutions, or changes in the configuration can be made without departing from the scope of the present invention.
〔実施形態1〕
図1は、実施形態1に係るチャックテーブルを有する切削装置の構成例を示す図である。
Embodiment 1
FIG. 1 is a diagram illustrating a configuration example of a cutting apparatus having a chuck table according to the first embodiment.
図1に示す実施形態1に係る切削装置1は、カセットエレベータ10と、仮置き手段20と、チャックテーブル30と、撮像手段40と、二つの切削手段50a,50bと、二つのY軸移動手段60a,60bと、二つのZ軸移動手段70a,70bと、洗浄・乾燥手段80とを含んで構成されている。切削装置1は、さらに、装置本体2上の門型の柱部3と、図示しないX軸移動手段とを含んで構成されている。切削装置1は、二つの切削手段50a,50bをY軸方向に対向配置したフェイシングデュアルタイプの加工装置である。切削装置1は、被加工物Wを保持したチャックテーブル30と、二つの切削手段50a,50bとを相対移動させることで、被加工物Wにエッジトリミングを施すことができる。また、切削装置1は、チャックテーブル30と一方の切削手段50a、または、チャックテーブル30と他方の切削手段50b、あるいは、チャックテーブル30と両方の切削手段50a,50bとを相対移動させることができる。
A cutting apparatus 1 according to the first embodiment shown in FIG. 1 includes a
ここで、被加工物Wは、エッジトリミングされる加工対象であり、特に限定されないが、例えば、シリコン、ヒ化ガリウム(GaAs)等を母材とする円板状の半導体ウェーハや光デバイスウェーハ、セラミック、ガラス、サファイア(Al2O3)系の円板状の無機材料基板、金属や樹脂等の円板状の延性材料等、各種加工材料である。また、本実施形態において、被加工物Wは、円板形状である。 Here, the workpiece W is a workpiece to be edge-trimmed, and is not particularly limited. For example, a disk-shaped semiconductor wafer or optical device wafer whose base material is silicon, gallium arsenide (GaAs), Various processing materials such as ceramic, glass, sapphire (Al 2 O 3 ) -based disc-shaped inorganic material substrates, disc-shaped ductile materials such as metals and resins, and the like. In the present embodiment, the workpiece W has a disk shape.
カセットエレベータ10は、被加工物Wを一枚ずつ収納する収納部がZ軸方向に複数形成されており、一度に複数の被加工物Wを収納することができるカセットがカセット載置面に載置される。カセットエレベータ10は、装置本体2の内部の空間をZ軸方向において昇降自在である。
The
仮置き手段20は、エッジトリミング前後の被加工物Wが一時的に載置される一対のレール21,22を有し、エッジトリミング前後の被加工物Wを仮置きすることができる。一対のレール21,22は、本実施形態においては、Y軸方向に平行に配設されている。
The temporary placing means 20 includes a pair of
チャックテーブル30は、切削手段50a,50bで被加工物Wの表面から該被加工物Wの外周縁を切除して除去する際に、当該被加工物Wを裏面側から吸引保持するものであり、エッジトリミング時に被加工物Wを保持し、フラットドレス時にドレッシングボードDB(図5に示す)を保持することができる。チャックテーブル30は、装置本体2上のテーブル移動基台4に着脱可能である。テーブル移動基台4は、図示しない回転駆動源によりZ軸回りにチャックテーブル30を回転可能であり、例えば、チャックテーブル30を90度回転や連続回転させる。テーブル移動基台4は、二つの切削手段50a,50bに対してチャックテーブル30をX軸方向に相対移動させる図示しないX軸移動手段(加工送り手段に相当)と、X軸移動手段を覆う蛇腹5とを備えている。X軸移動手段は、X軸ボールねじと、X軸パルスモータと、一対のX軸ガイドレールとを含んで構成されている。X軸ボールねじは、X軸方向に配設され、テーブル移動基台4の下部に設けられた図示しないナットと螺合し、一端にX軸パルスモータが連結されている。一対のX軸ガイドレールは、X軸ボールねじと平行に配設され、テーブル移動基台4をスライド可能に支持している。X軸移動手段は、X軸パルスモータの回転力によりX軸ボールねじを回転駆動し、テーブル移動基台4を一対のX軸ガイドレールによりガイドしつつ装置本体2に対してX軸方向に相対移動させる。蛇腹5は、布などの折り畳み自在な適宜の材料で構成され、テーブル移動基台4の移動に伴って伸縮し、X軸移動手段に切削水やドレッシング加工液L(図5に示す)が付着するのを防ぐ。なお、切削水やドレッシング加工液Lは、同一の加工液を切削水およびドレッシング加工液Lとしており、本実施形態においては、エッジトリミング時に用いられる加工液を切削水と称し、フラットドレス時に用いられる加工液をドレッシング加工液Lと称している。切削水やドレッシング加工液Lは、例えば、純水等である。
The chuck table 30 sucks and holds the workpiece W from the back side when the outer peripheral edge of the workpiece W is cut off and removed from the surface of the workpiece W by the cutting means 50a and 50b. The workpiece W can be held during edge trimming, and the dressing board DB (shown in FIG. 5) can be held during flat dressing. The chuck table 30 can be attached to and detached from the table moving base 4 on the apparatus main body 2. The table moving base 4 can rotate the chuck table 30 about the Z axis by a rotation drive source (not shown), and for example, the chuck table 30 is rotated 90 degrees or continuously. The table moving base 4 includes an X-axis moving means (not shown) (corresponding to a machining feed means) that moves the chuck table 30 relative to the two cutting means 50a and 50b in the X-axis direction, and a bellows that covers the X-axis moving means. And 5. The X-axis moving means includes an X-axis ball screw, an X-axis pulse motor, and a pair of X-axis guide rails. The X-axis ball screw is disposed in the X-axis direction, is screwed with a nut (not shown) provided at the lower portion of the table moving base 4, and an X-axis pulse motor is connected to one end. The pair of X-axis guide rails are arranged in parallel with the X-axis ball screw and support the table moving base 4 so as to be slidable. The X-axis moving means rotationally drives the X-axis ball screw by the rotational force of the X-axis pulse motor, and is relative to the apparatus main body 2 in the X-axis direction while guiding the table moving base 4 with a pair of X-axis guide rails. Move. The
撮像手段40は、例えば、CCD(Charge Coupled Device)イメージセンサを用いたカメラ等である。撮像手段40は、チャックテーブル30に保持された被加工物W等を撮像し、被加工物Wに対する切削手段50a,50bのアライメント調整を行うための画像データを生成する。
The imaging means 40 is, for example, a camera using a CCD (Charge Coupled Device) image sensor. The
二つの切削手段50a,50bは、Y軸方向に対向配置されている。二つの切削手段50a,50bは、撮像手段40により撮像された被加工物Wの画像データに基づいて、チャックテーブル30に保持された被加工物Wに切削水を供給しながらエッジトリミングを行う。二つの切削手段50a,50bは、二つのY軸移動手段60a,60b(割り出し送り手段に相当)および二つのZ軸移動手段70a,70b(切り込み送り手段に相当)を介して柱部3にそれぞれ支持され、Y軸方向とZ軸方向とにそれぞれ相対移動可能である。一方の切削手段50aは、切削ブレード51aと、スピンドル52aと、スピンドルハウジング53aと、ノズル54aとを含んで構成されている。同様に、他方の切削手段50bは、切削ブレード51bと、スピンドル52bと、スピンドルハウジング53bと、ノズル54bとを含んで構成されている。
The two cutting means 50a and 50b are arranged to face each other in the Y-axis direction. The two cutting means 50 a and 50 b perform edge trimming while supplying cutting water to the workpiece W held on the chuck table 30 based on the image data of the workpiece W imaged by the imaging means 40. The two cutting means 50a and 50b are respectively connected to the
切削ブレード51a,51bは、極薄のリング形状に形成され、刃先が平坦なエッジトリミング専用の切削砥石である。切削ブレード51a,51bは、スピンドル52a,52bの一端に着脱可能に装着されている。切削ブレード51a,51bは、高速回転することでチャックテーブル30に保持された被加工物Wの周縁部を切削し、エッジトリミングする。スピンドルハウジング53a,53bは、中空筒状に形成され、内挿されたスピンドル52a,52bを回転自在に支持している。ノズル54a,54bは、切削水やドレッシング加工液Lを供給する図示しない加工液供給源に接続され、切削水やドレッシング加工液Lを加工点に向けて噴射する。
The
二つのY軸移動手段60a,60bは、柱部3にそれぞれ設けられている。二つのY軸移動手段60a,60bは、Y軸ボールねじ61a,61bと、Y軸パルスモータ62a,62bと、一対のY軸ガイドレール63,63とを含んで構成されている。Y軸ボールねじ61a,61bは、Y軸方向に配設され、ブレード移動基台6a,6bの内部に設けられた図示しないナットとそれぞれ螺合し、一端にY軸パルスモータ62a,62bがそれぞれ連結されている。一対のY軸ガイドレール63,63は、Y軸ボールねじ61a,61bと平行に配設され、Y軸方向にスライド可能にブレード移動基台6a,6bのそれぞれを支持している。二つのY軸移動手段60a,60bは、Y軸パルスモータ62a,62bの回転力によりY軸ボールねじ61a,61bを回転駆動し、ブレード移動基台6a,6bを一対のY軸ガイドレール63,63によりガイドしつつ装置本体2に対してY軸方向にそれぞれ相対移動させる。ここで、Y軸方向は、本実施形態においては、鉛直方向と直交する切削ブレード51a,51bの回転軸の方向である。
The two Y-axis moving means 60a and 60b are provided in the
二つのZ軸移動手段70a,70bは、ブレード移動基台6a,6bにそれぞれ設けられている。二つのZ軸移動手段70a,70bは、Z軸ボールねじ71a,71bと、Z軸パルスモータ72a,72bと、一対のZ軸ガイドレール73a,73bとを含んで構成されている。Z軸ボールねじ71a,71bは、Z軸方向に配設され、切削手段支持部7a,7bの内部に設けられた図示しないナットとそれぞれ螺合し、一端にZ軸パルスモータ72a,72bがそれぞれ連結されている。一対のZ軸ガイドレール73a,73bは、Z軸ボールねじ71a,71bと平行に配設され、Z軸方向にスライド可能に切削手段支持部7a,7bのそれぞれを支持している。二つのZ軸移動手段70a,70bは、Z軸パルスモータ72a,72bの回転力によりZ軸ボールねじ71a,71bを回転駆動し、切削手段支持部7a,7bを一対のX軸ガイドレール73a,73bによりガイドしつつ装置本体2に対してZ軸方向にそれぞれ相対移動させる。ここで、Z軸方向は、本実施形態においては、鉛直方向である。
The two Z-axis moving means 70a and 70b are provided on the
洗浄・乾燥手段80は、加工後の被加工物Wを保持するスピンナテーブル81と、図示しない洗浄液噴射装置と、図示しない気体噴射装置と、を備える。洗浄・乾燥手段80は、スピンナテーブル81を図示しない回転駆動源により回転させつつ洗浄液噴射装置から加工後の被加工物Wに洗浄液を噴射することで該被加工物Wを洗浄し、洗浄後の被加工物Wに気体噴射装置から気体を噴射することで該被加工物Wを乾燥させる。
The cleaning / drying
ここで、図2および図3を参照して、実施形態1に係るチャックテーブル30について説明する。図2は、実施形態1に係るチャックテーブルの構成例を示す図である。図3は、図2に示すチャックテーブルの断面図である。 Here, the chuck table 30 according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. 2 and 3. FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration example of the chuck table according to the first embodiment. FIG. 3 is a cross-sectional view of the chuck table shown in FIG.
図2および図3に示すように、チャックテーブル30は、例えば、ステンレス鋼等の金属で円盤状に形成されている。チャックテーブル30は、環状保持部31と、ドレッシングボード保持部32と、基台部33とを有している。チャックテーブル30は、環状保持部31とドレッシングボード保持部32との間に排水溝34が形成されている。チャックテーブル30は、環状保持部31で被加工物Wの外周部を吸引保持し、ドレッシングボード保持部32でドレッシングボードDB(図5に示す)を吸引保持する。
As shown in FIGS. 2 and 3, the chuck table 30 is formed in a disk shape from a metal such as stainless steel, for example. The chuck table 30 has an
ここで、ドレッシングボードDBは、切削ブレード51a,51bが被加工物Wに対して切り込む深さよりも厚い厚手に形成され、中央部が開口した円環板状に形成されている。ドレッシングボードDBは、例えば、切削ブレード51a,51bの砥粒よりも大きい砥粒とフェノール樹脂等のレジンボンドとを混練し、厚手の円環板状に成形した後、焼成して形成されている。砥粒としては、例えば、緑色の炭化ケイ素を含むグリーンカーボン、白色のアルミナを含むホワイトアランダム、アランダム(登録商標)等である。また、ドレッシングボードDBは、砥粒をガラスで固めて厚手の円環板状に成形したものでもよい。
Here, the dressing board DB is formed in a thick plate shape that is thicker than the depth at which the
環状保持部31は、基台部33から立設されている。環状保持部31は、環状の保持面31aで被加工物Wの外周部を吸引保持する。環状保持部31は、保持面31aに開口する吸引口31bと、吸引路31cとを備える。吸引路31cは、一端が吸引口31bに連通するとともに他端が吸引源91に接続される。また、環状保持部31は、保持面31aに開口する供給口31dと、供給路31eとを備える。供給路31eは、一端が供給口31dに連通するとともに他端が供給源92に接続される。保持面31aには、吸引口31bと供給口31dとにそれぞれ連通する環状溝31fが形成されている。
The
ドレッシングボード保持部32は、環状保持部31の内周側で、環状保持部31と同心状に配置され、基台部33から立設されている。ドレッシングボード保持部32は、保持面32aでドレッシングボードDBを吸引保持する。ドレッシングボード保持部32は、保持面32aに開口する吸引口32b,32cと、吸引路32d,32eとを備える。吸引路32d,32eは、一端が吸引口32b,32cに連通するとともに他端が吸引源91に接続される。また、ドレッシングボード保持部32は、保持面32aに開口する供給口32f,32gと、供給路32h,32iとを備える。供給路32h,32iは、一端が供給口32f,32gに連通するとともに他端が供給源92に接続される。保持面32aには、吸引口32b,32cと供給口32f,32gとにそれぞれ連通する環状溝32j,32kと、環状溝32j,32kのそれぞれに連通する直線状溝32l,32mとが形成されている。また、保持面32aは、環状保持部31の保持面31a以下の高さに形成されており、本実施形態において、環状保持部31の保持面31aよりも低い高さに形成されている。
The dressing
ここで、保持面32aが環状保持部31の保持面31aよりも低い高さに形成されているとは、環状保持部31の保持面31aで被加工物Wの外周部を吸引保持した際、被加工物Wの裏面とドレッシングボード保持部32の保持面32aとが接触せず、被加工物Wの裏面にドレッシング加工液Lやコンタミが付着しない高さに形成されていることをいう。
Here, the holding
基台部33は、吸引口31b,32b,32cに連通するとともに吸引源91の吸引配管93に接続される吸引路33aと、供給口31d,32f,32gに連通するとともに供給源92の供給配管94に接続される供給路33bとを備える。
The
排水溝34の溝底34aには、基台部33の外部に貫通する排出口34b,34cが配設されており、排水溝34に流入するドレッシング加工液Lが排出口34b,34cから排出される。
At the
ここで、図4を参照して、実施形態1に係るチャックテーブル30を有する切削装置1のエッジトリミングについて説明する。図4は、実施形態1に係るチャックテーブルを用いたエッジトリミングの説明図である。 Here, with reference to FIG. 4, the edge trimming of the cutting apparatus 1 having the chuck table 30 according to the first embodiment will be described. FIG. 4 is an explanatory diagram of edge trimming using the chuck table according to the first embodiment.
まず、切削装置1は、オペレータ等の作業員が入力したエッジトリミング条件等に基づいて、加工動作を開始する。この加工動作において、被加工物Wは、図示しない搬出入手段によりカセットエレベータ10から仮置き手段20に搬出され、仮置き手段20の一対のレール21,22上に載置された後、図示しない搬送手段によりチャックテーブル30に搬送され、チャックテーブル30に載置され、X軸移動手段により加工開始位置に移動される。ここで、チャックテーブル30は、吸引源91により保持面31aの吸引口31bに作用する吸引力で、図示しない搬送手段で搬送された被加工物Wの裏面の外周部を環状保持部31の保持面31aで吸引保持する。
First, the cutting device 1 starts a processing operation based on an edge trimming condition or the like input by an operator such as an operator. In this processing operation, the workpiece W is unloaded from the
次に、切削装置1は、切削ブレード51a,51bのうち、一方または両方の切削ブレード51a,51bを被加工物Wの外周に配置し、チャックテーブル30とともに被加工物Wを回転させ、被加工物Wの外周の一部を切削して切除する。
Next, the cutting apparatus 1 arranges one or both of the
次に、エッジトリミングされた被加工物Wは、供給源92により保持面31aの供給口31dに空気等の流体が供給されてチャックテーブル30からの取り外しが促され、図示しない搬送手段によりチャックテーブル30から洗浄・乾燥手段80に搬送され、洗浄・乾燥手段80により洗浄および乾燥された後、図示しない搬送手段により仮置き手段20に搬送され、図示しない搬出入手段により仮置き手段20からカセットエレベータ10に搬入される。
Next, the edge-trimmed workpiece W is supplied with a fluid such as air from the
ここで、被加工物Wのハンドリングの向上を目的として、サポートプレート上に被加工物Wを接着剤やワックスで固定した場合、あるいは、サポートプレート上に被加工物Wを直接に固定した場合、チャックテーブル30は、環状保持部31の保持面31aでサポートプレートの外周部を吸引保持するので、サポートプレートの裏面にドレッシング加工液Lやコンタミが付着したり、サポートプレートの裏面が傷付いたりすることを抑制することができる。なお、サポートプレートとしては、製品として使用しないウェーハを用いることができる。
Here, for the purpose of improving the handling of the workpiece W, when the workpiece W is fixed on the support plate with an adhesive or wax, or when the workpiece W is directly fixed on the support plate, Since the chuck table 30 sucks and holds the outer peripheral portion of the support plate with the holding
ここで、図5を参照して、実施形態1に係るチャックテーブル30を有する切削装置1のフラットドレスについて説明する。図5は、実施形態1に係るチャックテーブルを用いたフラットドレスの説明図である。なお、二つの切削ブレード51a,51bのそれぞれに対するフラットドレスは同じであるので、ここでは、切削手段51aに対してフラットドレスする場合について説明する。
Here, with reference to FIG. 5, the flat dress of the cutting device 1 which has the chuck table 30 which concerns on Embodiment 1 is demonstrated. FIG. 5 is an explanatory diagram of a flat dress using the chuck table according to the first embodiment. In addition, since the flat dress with respect to each of the two
まず、切削装置1は、オペレータ等の作業員からの指示、あるいは、フラットドレスを必要か否かを判断し、フラットドレスを実行すると判断する。なお、フラットドレスが必要であるか否かは、切削手段50aによりエッジトリミングを行った被加工物Wに対する加工距離や摩耗量に基づいて判断することが好ましい。加工距離や摩耗量は、除去加工を行った被加工物Wの枚数、被加工物Wの直径、被加工物Wの円周上の距離、切削ブレード51aの切り込み量、切削ブレード51aの硬度などの少なくとも1つに基づいて判断することが好ましい。
First, the cutting apparatus 1 determines whether or not an instruction from a worker such as an operator or a flat dress is necessary, and executes the flat dress. Whether or not a flat dress is necessary is preferably determined based on the processing distance and the amount of wear with respect to the workpiece W subjected to edge trimming by the cutting means 50a. The processing distance and the amount of wear include the number of workpieces W that have been removed, the diameter of the workpiece W, the distance on the circumference of the workpiece W, the cutting depth of the
次に、切削装置1は、切削ブレード51aに対するフラットドレスを行う必要があると判断すると、フラットドレスを開始する。このフラットドレスにおいて、ドレッシングボードDBは、オペレータ等の作業員によりチャックテーブル30のドレッシングボード保持部32に載置され、X軸移動手段によりフラットドレス開始位置に移動される。ここで、チャックテーブル30は、吸引源91によりドレッシングボード保持部32の保持面32aの吸引口32b,32cに作用する吸引力で、ドレッシングボードDBの裏面の全面を保持面32aで吸引保持する。
Next, when the cutting device 1 determines that it is necessary to perform a flat dress on the
次に、切削装置1は、切削ブレード51aを、Z軸移動手段70aにより所定切り込み位置まで移動させる。ここで、所定切り込み位置は、切削ブレード51aをY軸方向においてドレッシングボードDBと対向する、すなわちZ軸方向において切削ブレード51aがドレッシングボードDBに接触することができる位置である。また、所定切り込み位置は、ドレッシングボードDBに対する切削ブレード51aの切り込み量であり、切削ブレード51aの偏摩耗度合い、切削ブレード51aに対するフラットドレスの回数、すなわち切削ブレード51aにおいてドレッシングボードDBの表面(研磨面)に対する接触回数(例えば、1回の接触でフラットドレスを行う場合は多くなり、複数回の接触を繰り返すことでフラットドレスを行う場合は少なくなる)などで決定される。
Next, the cutting apparatus 1 moves the
次に、切削装置1は、ノズル54aからドレッシング加工液Lを切削ブレード51aに向かって噴射させつつ、回転する切削ブレード51aを所定切り込み位置からY軸移動手段によりY軸方向、ここではドレッシングボードDBの表面(研磨面)と接触する方向に移動させる。切削ブレード51aは、回転しながらY軸方向に移動することで、ドレッシングボードDBの研磨面と接触し、先端がフラットに整形されていく。また、ドレッシング加工液Lは、チャックテーブル30の排水溝34の排出口33b,33cから排出され、テーブル移動基台4の周囲に配設された図示しない排水手段を介して装置本体2の外部に排出される。
Next, the cutting apparatus 1 sprays the dressing processing liquid L from the
なお、切削装置1は、切削ブレード51aと研磨面とが非接触となるまで、回転する切削ブレード51aをY軸方向に移動させる。つまり、切削装置1は、回転する切削ブレード51aを少なくとも研磨面の一端から他端まで移動させる。ここで、研磨面の一端から他端とは、ドレッシングボードDBの外周から径方向に対向する外周、ドレッシングボードDBの外周から径方向に対向する開口部、および、ドレッシングボードDBの開口部から径方向に対向する外周が含まれる。つまり、切削ブレード51aは、フラットドレスを行うために、少なくともドレッシングボードDBの直径分あるいは半径分、Y軸方向に移動することとなる。また、切削ブレード51aは、所定切り込み位置では、Z軸方向視において、ドレッシングボードDBの外周近傍、あるいは、ドレッシングボードDBの開口部に位置する。
The cutting device 1 moves the
次に、切削装置1は、切削ブレード51aと研磨面とが非接触となった後、チャックテーブル30を回転させる。ここで、回転する切削ブレード51aを接触する研磨面に対してY軸方向に移動させると、研磨面に直線状の切削痕が形成される。研磨面のうち、切削痕が形成された領域(以下、単に「切削痕領域」と称する)は、切削痕が形成されていない領域(以下、単に「非切削痕領域」と称する)に対して切削ブレード51aに対する切削性能が低下するため、再びフラットドレスに用いることは好ましくない。したがって、切削装置1は、再度切削ブレード51aが研磨面と接触する場合において、切削ブレード51aを非切削痕領域で接触させるため、Z軸方向視においてブレード移動経路上に非切削痕領域が対向するように、チャックテーブル30を回転させる。なお、回転角度は、所定値でも良いが、切削痕の幅(切削痕が形成される方向と水平面において直交する方向における長さ)が所定切り込み位置に応じて変化するものであることから、所定切り込み位置に応じて回転角度を決定してもよい。また、非切削痕領域には、一部切削痕領域が含まれていてもよい。例えば、Z軸方向視においてブレード移動経路上のうち、ドレッシングボードDBの開口部側で切削痕領域が含まれていてもよい。この場合は、ドレッシングボードDBの回転角度を小さくすることができ、Z軸方向においてブレード移動経路上に切削痕領域を一部に含まない場合と比較して、ドレッシングボードDBを繰り返しフラットドレスに用いることができる。
Next, the cutting apparatus 1 rotates the chuck table 30 after the
次に、切削装置1は、回転する切削ブレード51aを接触する研磨面に対してY軸方向に繰り返して移動させ、切削ブレード51aの先端をフラットに整形し、フラットドレスを完了する。この場合、切削装置1は、ドレッシングボード保持部32の保持面32aの供給口32f,32gに対して供給源92から空気等の流体を供給し、チャックテーブル30からのドレッシングボードDBの取り外しを促す。次に、オペレータ等の作業員は、チャックテーブル30からドレッシングボードDBを取り外す。
Next, the cutting device 1 repeatedly moves the
なお、ドレッシングボードDBのハンドリングの向上を目的として、サポートプレート上にドレッシングボードDBを接着剤やワックスで固定した場合、あるいは、サポートプレート上にドレッシングボードDBを直接に固定した場合、チャックテーブル30は、環状保持部31の保持面32aでサポートプレートの外周部を吸引保持するので、サポートプレートの裏面にドレッシング加工液Lやコンタミが付着したり、サポートプレートの裏面が傷付いたりすることを抑制することができる。
When the dressing board DB is fixed on the support plate with an adhesive or wax for the purpose of improving the handling of the dressing board DB, or when the dressing board DB is directly fixed on the support plate, the chuck table 30 is Since the outer peripheral portion of the support plate is sucked and held by the holding
以上のように、実施形態1に係る切削装置1のチャックテーブル30によれば、被加工物Wの外周部を環状の保持面31aで吸引保持する環状保持部31と、環状保持部31の内周側で該環状保持部31と同心状に配置され、ドレッシングボードDBを保持面32aで吸引保持するドレッシングボード保持部32とを有しているので、エッジトリミングする際には被加工物Wを環状保持部31で保持することができ、フラットドレスする際にはドレッシングボードDBをドレッシングボード保持部32で保持することができるという効果を奏し、ドレッシングボードDBを保持可能なチャックテーブルに変更しなくてもよいという効果を奏する。
As described above, according to the chuck table 30 of the cutting apparatus 1 according to the first embodiment, the annular holding
また、チャックテーブル30は、ドレッシングボード保持部32の保持面32aが環状保持部31の保持面31a以下の高さであって、ドレッシングボード保持部32の保持面32aが環状保持部31の保持面31aよりも低い高さに形成されているので、環状保持部31の環状の保持面31aでサポートプレートの外周部を吸引保持させた際、ドレッシングボード保持部32の保持面32aがサポートプレートよりも低い位置となり、サポートプレートの裏面とドレッシングボード保持部32の保持面32aとを非接触状態とすることができる。つまり、チャックテーブル30は、サポートプレートの裏面とドレッシングボード保持部32の保持面32aとの接触を抑え、サポートプレートの裏面の傷付きを低減することができるので、サポートプレートを再度利用することができる。これにより、再度利用したサポートプレートをチャックテーブル30で吸引保持することができ、再度利用したサポートプレートが被加工物Wの切削加工後の熱処理で破損することを抑えることができる。
In the chuck table 30, the holding
また、チャックテーブル30は、排出口34b,34cが基台部33の外部に貫通していることから、排水溝34内の気圧を大気圧に保つことができるので、吸引源91により排水溝34内の気圧が大気圧よりも低下することを抑えることができる。これにより、被加工物Wが排水溝34側に吸引され、撓み変形することを抑えることができる。
Further, since the
また、チャックテーブル30は、ドレッシングボードや回転機構等を備えたドレス手段をチャックテーブル30の隣接位置に設置しなくてもよいので、切削装置1の装置構成の複雑化や大型化を抑えることができ、切削装置1のコストアップを抑えることもできる。 Further, since the chuck table 30 does not have to be provided with a dressing means having a dressing board, a rotation mechanism, or the like at a position adjacent to the chuck table 30, it is possible to suppress the complexity and increase in size of the cutting device 1. It is also possible to suppress an increase in cost of the cutting device 1.
〔実施形態2〕
次に、実施形態2に係る切削装置1のチャックテーブル30について説明する。実施形態2に係る切削装置1のチャックテーブル30の基本的構成は、実施形態1に係る切削装置1のチャックテーブル30と同様であるので、同一部分の構成の説明は省略する。図6は、実施形態2に係るチャックテーブルの構成例を示す図である。
[Embodiment 2]
Next, the chuck table 30 of the cutting apparatus 1 according to the second embodiment will be described. Since the basic configuration of the chuck table 30 of the cutting device 1 according to the second embodiment is the same as that of the chuck table 30 of the cutting device 1 according to the first embodiment, the description of the configuration of the same portion is omitted. FIG. 6 is a diagram illustrating a configuration example of a chuck table according to the second embodiment.
図6に示すように、チャックテーブル30は、環状保持部31と、ドレッシングボード保持部32と、基台部33とを有する。また、チャックテーブル30は、環状保持部31の保持面31aと、ドレッシングボード保持部32の保持面32aとが面一である。
As shown in FIG. 6, the chuck table 30 includes an
ここで、図7を参照して、実施形態2に係るチャックテーブル30でドレッシングボードDBが固定されたサポートプレートPを保持し、切削ブレード51aに対してフラットドレスする場合について説明する。図7は、実施形態2に係るチャックテーブルを用いたフラットドレスの説明図である。
Here, with reference to FIG. 7, the case where the support plate P to which the dressing board DB is fixed is held by the chuck table 30 according to the second embodiment and flat dressing is performed on the
まず、切削装置1は、切削ブレード51aに対するフラットドレスを行う必要があると判断すると、フラットドレスを開始する。このフラットドレスにおいて、ドレッシングボードDBは、接着剤やワックス等によりサポートプレートP上に固定されており、オペレータ等の作業員によりチャックテーブル30の環状保持部31とドレッシングボード保持部32とにサポートプレートPが載置され、サポートプレートPが環状保持部31とドレッシングボード保持部32とで吸引保持される。
First, when the cutting device 1 determines that it is necessary to perform a flat dress on the
次に、切削装置1は、回転する切削ブレード51aとドレッシングボードDBとの相対位置を変えて、切削ブレード51aとドレッシングボードDBとを接触させ、切削ブレード51aの先端をフラットに整形し、切削ブレード51aに対してフラットドレスを行う。
Next, the cutting device 1 changes the relative position of the
以上のように、実施形態2に係る切削装置1のチャックテーブル30によれば、環状保持部31の保持面31aと、ドレッシングボード保持部32の保持面32aとが面一であるので、サポートプレートP上にドレッシングボードDBを固定したサポートプレートPを用いることができる。これにより、ドレッシングボードDBのハンドリングを向上させることができる。
As described above, according to the chuck table 30 of the cutting apparatus 1 according to the second embodiment, the holding
また、サポートプレートPは被加工物Wと同じ大きさの外径の円板形状であるため、被加工物Wと全く同じ搬送手段(例えばベルヌーイ搬送手段)での搬送が可能となる。 Further, since the support plate P has a disk shape having the same outer diameter as that of the workpiece W, the support plate P can be conveyed by exactly the same conveying means as the workpiece W (for example, Bernoulli conveying means).
なお、チャックテーブル30は、ドレッシングボード保持部32にドレッシングボードDBを保持した状態において、環状保持部31の保持面31aよりもドレッシングボードDBの表面が低い高さになるようにしてもよい。これにより、ドレッシングボードDBをドレッシングボード保持部32で保持しつつ、被加工物Wやサポートプレートを環状保持部31で保持することができる。
Note that the chuck table 30 may be configured such that the surface of the dressing board DB is lower than the holding
1 切削装置
30 チャックテーブル
31 環状保持部
31a 保持面
31b 吸引口
31c 吸引路
32 ドレッシングボード保持部
32a 保持面
32b,32c 吸引口
32d,32e 吸引路
33 基台部
34 排水溝
34a 溝底
34b,34c 排出口
40 撮像手段
50a,50b 切削手段
51a,51b 切削ブレード
91 吸引源
DB ドレッシングボード
L ドレッシング加工液
W 被加工物
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (2)
前記被加工物の外周部を環状の保持面で吸引保持する環状保持部と、
前記環状保持部の内周側で該環状保持部と同心状に配置され、ドレッシングボードを保持面で吸引保持するドレッシングボード保持部と、
前記環状保持部と前記ドレッシングボード保持部とがそれぞれ立設する基台部と、を有し、
前記ドレッシングボード保持部及び前記環状保持部は、それぞれの保持面に開口する吸引口と、一端が前記吸引口に連通するとともに他端が吸引源に接続される吸引路と、を備え、
前記環状保持部と前記ドレッシングボード保持部との間には、排水溝が形成され、
前記排水溝の溝底には、前記基台部の外部に貫通する排出口が配設され、
前記排水溝に流入するドレッシング加工液が前記排出口から排出される切削装置のチャックテーブル。 A chuck table of a cutting apparatus that sucks and holds the workpiece from the back side when the outer peripheral edge of the workpiece is cut and removed from the surface of the disc-shaped workpiece by a cutting means having a cutting blade. And
An annular holding portion for sucking and holding the outer peripheral portion of the workpiece by an annular holding surface;
A dressing board holding part that is arranged concentrically with the annular holding part on the inner peripheral side of the annular holding part, and sucks and holds the dressing board on the holding surface;
A base part on which the annular holding part and the dressing board holding part stand;
The dressing board holding portion and the annular holding portion each include a suction port that opens to each holding surface, and a suction path that has one end communicating with the suction port and the other end connected to a suction source.
Between the annular holding part and the dressing board holding part, a drainage groove is formed,
At the groove bottom of the drainage groove, a discharge port penetrating to the outside of the base part is disposed,
A chuck table of a cutting device in which dressing processing liquid flowing into the drainage groove is discharged from the discharge port.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012244901A JP5996382B2 (en) | 2012-11-06 | 2012-11-06 | Chuck table of cutting equipment |
KR1020130132826A KR101995597B1 (en) | 2012-11-06 | 2013-11-04 | Chuck table in cutting apparatus |
CN201310540811.6A CN103811330B (en) | 2012-11-06 | 2013-11-05 | The chuck table of topping machanism |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012244901A JP5996382B2 (en) | 2012-11-06 | 2012-11-06 | Chuck table of cutting equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014091206A JP2014091206A (en) | 2014-05-19 |
JP5996382B2 true JP5996382B2 (en) | 2016-09-21 |
Family
ID=50707940
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012244901A Active JP5996382B2 (en) | 2012-11-06 | 2012-11-06 | Chuck table of cutting equipment |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5996382B2 (en) |
KR (1) | KR101995597B1 (en) |
CN (1) | CN103811330B (en) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6376852B2 (en) * | 2014-06-11 | 2018-08-22 | 株式会社ディスコ | Dressing board holding jig |
CN105529291A (en) * | 2014-09-29 | 2016-04-27 | 盛美半导体设备(上海)有限公司 | Wafer supporting device |
JP6842859B2 (en) * | 2016-08-12 | 2021-03-17 | 株式会社荏原製作所 | Dressing equipment, polishing equipment, holders, housings and dressing methods |
JP7150390B2 (en) * | 2018-02-14 | 2022-10-11 | 株式会社ディスコ | processing equipment |
CN113172780B (en) * | 2021-04-07 | 2022-06-03 | 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司 | Scribing structure for silicon carbide cutting and online trimming method thereof |
JP2023015782A (en) * | 2021-07-20 | 2023-02-01 | 株式会社ディスコ | Processing device |
CN217577167U (en) * | 2022-03-22 | 2022-10-14 | 天津市环智新能源技术有限公司 | Blanking buffer storage table |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0516069A (en) * | 1991-07-08 | 1993-01-26 | Sanshin Chem Ind Co Ltd | Chemical dressing method and device for metal-bonded grinding wheel |
JP3287761B2 (en) * | 1995-06-19 | 2002-06-04 | 日本電信電話株式会社 | Vacuum suction equipment and processing equipment |
JP3515917B2 (en) * | 1998-12-01 | 2004-04-05 | シャープ株式会社 | Method for manufacturing semiconductor device |
JP5226394B2 (en) * | 2008-06-16 | 2013-07-03 | 株式会社ディスコ | Flange end face correction method |
JP5254679B2 (en) | 2008-06-23 | 2013-08-07 | 株式会社ディスコ | Cutting blade dressing method |
JP5242348B2 (en) * | 2008-11-12 | 2013-07-24 | 株式会社ディスコ | Processing equipment |
JP5349982B2 (en) * | 2009-01-14 | 2013-11-20 | 株式会社ディスコ | Processing method for wafer with substrate |
WO2010101191A1 (en) * | 2009-03-03 | 2010-09-10 | 東京エレクトロン株式会社 | Placing table structure, film forming apparatus, and raw material recovery method |
JP2011183501A (en) * | 2010-03-08 | 2011-09-22 | Disco Corp | Dressing method of cutting blade |
JP2012038840A (en) * | 2010-08-05 | 2012-02-23 | Renesas Electronics Corp | Semiconductor manufacturing apparatus and manufacturing method of semiconductor device |
JP2012108397A (en) | 2010-11-19 | 2012-06-07 | Nippon Seiki Co Ltd | Display device |
JP5999972B2 (en) * | 2012-05-10 | 2016-09-28 | 株式会社ディスコ | Holding table |
-
2012
- 2012-11-06 JP JP2012244901A patent/JP5996382B2/en active Active
-
2013
- 2013-11-04 KR KR1020130132826A patent/KR101995597B1/en active IP Right Grant
- 2013-11-05 CN CN201310540811.6A patent/CN103811330B/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014091206A (en) | 2014-05-19 |
CN103811330A (en) | 2014-05-21 |
CN103811330B (en) | 2017-09-29 |
KR20140058368A (en) | 2014-05-14 |
KR101995597B1 (en) | 2019-07-02 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151019 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160721 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160824 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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