JP5985556B2 - 水系分散液を用いた膜の製造方法 - Google Patents

水系分散液を用いた膜の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5985556B2
JP5985556B2 JP2014168127A JP2014168127A JP5985556B2 JP 5985556 B2 JP5985556 B2 JP 5985556B2 JP 2014168127 A JP2014168127 A JP 2014168127A JP 2014168127 A JP2014168127 A JP 2014168127A JP 5985556 B2 JP5985556 B2 JP 5985556B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
fine particles
tungsten oxide
aqueous dispersion
dispersion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2014168127A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2015006987A (ja
Inventor
佳代 中野
佳代 中野
佐藤 光
光 佐藤
康博 白川
康博 白川
圭一 布施
圭一 布施
伸矢 笠松
伸矢 笠松
亮人 佐々木
亮人 佐々木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Toshiba Materials Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Materials Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba Materials Co Ltd filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2014168127A priority Critical patent/JP5985556B2/ja
Publication of JP2015006987A publication Critical patent/JP2015006987A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5985556B2 publication Critical patent/JP5985556B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/16Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
    • B01J23/24Chromium, molybdenum or tungsten
    • B01J23/30Tungsten
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61LMETHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
    • A61L2/16Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using chemical substances
    • A61L2/23Solid substances, e.g. granules, powders, blocks, tablets
    • A61L2/232Solid substances, e.g. granules, powders, blocks, tablets layered or coated
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/16Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
    • B01J23/32Manganese, technetium or rhenium
    • B01J23/34Manganese
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/38Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals
    • B01J23/54Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
    • B01J23/56Platinum group metals
    • B01J23/64Platinum group metals with arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
    • B01J23/652Chromium, molybdenum or tungsten
    • B01J23/6527Tungsten
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/38Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals
    • B01J23/54Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
    • B01J23/66Silver or gold
    • B01J23/68Silver or gold with arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
    • B01J23/683Silver or gold with arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium with chromium, molybdenum or tungsten
    • B01J23/687Silver or gold with arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium with chromium, molybdenum or tungsten with tungsten
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/70Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
    • B01J23/76Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
    • B01J23/84Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36 with arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
    • B01J23/85Chromium, molybdenum or tungsten
    • B01J23/888Tungsten
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/26Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing in addition, inorganic metal compounds not provided for in groups B01J31/02 - B01J31/24
    • B01J31/34Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing in addition, inorganic metal compounds not provided for in groups B01J31/02 - B01J31/24 of chromium, molybdenum or tungsten
    • B01J35/39
    • B01J35/40
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J37/00Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
    • B01J37/02Impregnation, coating or precipitation
    • B01J37/0215Coating
    • B01J37/0219Coating the coating containing organic compounds
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01GCOMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G41/00Compounds of tungsten
    • C01G41/02Oxides; Hydroxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09CTREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/16Antifouling paints; Underwater paints
    • C09D5/1606Antifouling paints; Underwater paints characterised by the anti-fouling agent
    • C09D5/1612Non-macromolecular compounds
    • C09D5/1618Non-macromolecular compounds inorganic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/60Additives non-macromolecular
    • C09D7/61Additives non-macromolecular inorganic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/66Additives characterised by particle size
    • C09D7/67Particle size smaller than 100 nm
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/66Additives characterised by particle size
    • C09D7/68Particle size between 100-1000 nm
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/66Additives characterised by particle size
    • C09D7/69Particle size larger than 1000 nm
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2255/00Catalysts
    • B01D2255/20Metals or compounds thereof
    • B01D2255/207Transition metals
    • B01D2255/20776Tungsten
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2255/00Catalysts
    • B01D2255/80Type of catalytic reaction
    • B01D2255/802Photocatalytic
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2257/00Components to be removed
    • B01D2257/70Organic compounds not provided for in groups B01D2257/00 - B01D2257/602
    • B01D2257/702Hydrocarbons
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/86Catalytic processes
    • B01D53/864Removing carbon monoxide or hydrocarbons
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • C01P2004/61Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • C01P2004/62Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • C01P2004/64Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12Surface area
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/22Rheological behaviour as dispersion, e.g. viscosity, sedimentation stability
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals

Description

本発明は水系分散液を用いた膜の製造方法に関する。
酸化タングステン薄膜は、コンデンサ、フィルタ、半導体チップのような電子デバイス等に使用される誘電体材料、光通信用フィルタ、アイソレータ等に使用される光学素子用材料、調光ミラー等に使用されるエレクトロクロミック材料、ガスセンサ等に使用されるガスクロミック材料として広く利用されている。さらに、酸化タングステンは可視光応答型光触媒材料として機能することが知られており、産業応用上非常に注目されている材料である。従来、酸化タングステン薄膜は真空蒸着法、スパッタリング法、レーザアブレーション法、ゾル・ゲル法等により形成されてきた。
特許文献1には酸化タングステンを基材上にスパッタ成膜した光触媒材料が記載されており、主に三斜晶系の結晶構造を有する酸化タングステンが用いられている。スパッタ成膜は基材を高温に晒すため、基材の耐熱温度によっては適用できない場合がある。スパッタ成膜は工程管理等が複雑であり、基材の形状や大きさによってはコスト高になるだけでなく、建材等の広範囲への成膜は困難である。スパッタ成膜した酸化タングステン膜からなる可視光応答型光触媒層は親水性に優れるものの、アセトアルデヒド等の有害ガスの分解性能が十分ではないという問題を有している。可視光の照射下での親水性データも示されていないことから、可視光下では十分な光触媒性能が得られていないと推定される。
レーザアブレーション法もスパッタリング法と同様に、結晶性を制御するために基材を高温に加熱する必要があり、基材の耐熱温度によっては適用できない場合がある。基材の形状や大きさによってはコスト高になるだけでなく、建材等の広範囲への成膜は困難である。ゾル・ゲル法による酸化タングステン膜の成膜は比較的安価に行えるものの、結晶性の良い酸化タングステン膜を形成するためには適度な加熱が必要になるため、基材の耐熱温度や基材の形状等に制約される。有機ガス等を分解する光触媒膜として酸化タングステン膜を使用する場合には、適正な結晶構造で大きな比表面積にする必要があるが、ゾル・ゲル法では酸化タングステンの結晶構造や比表面積を十分に制御することができない。
酸化チタン等を用いた光触媒膜は、通常、分散媒に酸化チタン微粒子を分散させた分散液と無機系バインダとを混合して塗料を調製し、この塗料を基材に塗布することにより形成している。塗料であれば種々の基材に塗布することができ、さらにバインダの選定により常温近くで成膜できることから、広範囲の製品に光触媒膜を応用することが可能となる。光触媒粉末の分散液を使用した塗料の場合、光触媒の性能を確保し、強度や平滑性が良好な膜特性を得るためには、膜中に微粒子が良好に分散されている必要がある。良好な分散塗料を得るための一般的な方法としては、光触媒粉末を分散媒中に十分に分散させた分散液を作製し、それにバインダを添加する方法が知られている。
酸化チタン系の光触媒のように、超微粒子を用いた場合には凝集が生じやすく、分散状態を安定させるためには、表面処理剤や分散剤を添加する必要がある。しかし、表面処理剤や分散剤は光触媒性能を阻害する要因になるため、できるだけ添加量を減らすように努力されており、例えば酸を加えてpHを低くすることで分散状態の安定化を図ることが行われている。また、最近では環境保全の点から揮発性有機化合物(VOC)の使用量を低減することが求められており、有機溶剤を使用しない水系の分散液や塗料が多くなってきている。水系分散液や塗料では分散剤として非イオン系化合物が多く使用されている。
酸化タングステン粉末を用いた膜を形成する場合、まず微細な酸化タングステン粒子を生成する必要がある。微細な酸化タングステン粉末の製造方法としては、パラタングステン酸アンモニウム(APT)を空気中で加熱して三酸化タングステン粉末を得る方法が知られている(特許文献2参照)。APTを空気中で加熱する方法によって、一次粒子径が0.01μm(BET比表面積=82m2/g)程度の三斜晶系の三酸化タングステン粉末が得られている。三酸化タングステン(WO3)粉末の光触媒性能を向上させるためには、安定した微粒子状態であることが求められる。
解砕処理を適用することによって、三酸化タングステン粉末をある程度まで微細化することができるものの、凝集粒子を含めた粒子径を例えば100nm以下にすることは困難である。さらに、解砕処理を適用して微粉末化すると、三酸化タングステン(WO3)微粉末の結晶構造が解砕処理の応力で変化してしまう。解砕処理の応力で電子と正孔が再結合を起こす欠陥が生じるため、光触媒として用いる場合には性能低下を招くと考えられる。特許文献2に記載された製造方法では、BET比表面積を安定させるために20時間以上の混錬が必要であり、三酸化タングステン粉末の製造効率が低いという問題もある。
微粉末を効率的に得る方法としては、例えば特許文献3に熱プラズマ処理が記載されている。熱プラズマ処理を適用することによって、粒子径が1〜200nmの微粉末が得られている。熱プラズマ処理の他にも、タングステン原料を酸素雰囲気中で昇華させながら酸化させることが可能な処理方法として、アーク放電処理、レーザ処理、電子線処理、ガスバーナー処理等が知られている。ただし、これらの方法を適用して作製した酸化タングステン微粉末をそのまま光触媒として用いても、光学特性や結晶構造が最適ではない場合があり、必ずしも十分な光触媒特性を得ることはできない。従って、光触媒膜を形成するためには、粉末の状態で適正な光学特性、結晶構造、粒子径に制御しておく必要がある。
酸化タングステン粒子を用いて安定な分散液を形成するためには、一次粒子径が微細な酸化タングステン粒子を使用するだけではなく、例えば凝集粒子の分解を促進すると共に、再凝集を防ぐことが重要となる。しかしながら、現状では長期間にわたって酸化タングステン微粒子が分離沈降しない分散液や塗料は得られていない。特に、酸化タングステン粒子を光触媒に適用する場合には、分散剤や表面処理剤は光触媒性能を阻害する要因となるため、分散剤や表面処理剤の添加を少量としたり、もしくは添加の必要がない分散液が求められるが、そのような分散液や塗料で十分な性能は得られていない。
特開2001−152130号公報 特開2002−293544号公報 特開2006−102737号公報
本発明の目的は、分散性に優れ、長期間沈殿しにくい水系分散液を用いた膜の製造方法を提供することにある。
本発明の態様に係る膜の製造方法は、酸化タングステン微粒子および酸化タングステン複合材微粒子から選ばれる少なくとも1種の微粒子を、水を含む分散媒に分散させて水系分散液を作製する工程と、前記水系分散液を基材に塗布し、前記微粒子を含有する膜を形成する工程を具備する膜の製造方法であって、前記水系分散液における前記微粒子の平均一次粒子径(D50)が1nm以上400nm以下の範囲であると共に、前記微粒子の粒度分布のD90径が0.01μm以上10μm以下の範囲であり、前記水系分散液における前記微粒子の濃度が0.1質量%以上40質量%以下の範囲であり、かつ前記水系分散液のpHが2.5以上5.5以下の範囲であることを特徴としている。本発明の膜の製造方法において、酸化タングステン複合材は、遷移金属元素およびAlから選ばれる少なくとも1種の金属元素、または前記金属元素を含む化合物を、前記金属元素の量として0.001質量%以上10質量%以下の範囲で含み、残部が酸化タングステンからなり、前記膜は可視光の照射下で光触媒性能を示す
以下、本発明を実施するための形態について説明する。本発明の実施形態による水系分散液は酸化タングステン微粒子および酸化タングステン複合材微粒子から選ばれる少なくとも1種の微粒子(以下、酸化タングステン系微粒子と記す)を含有するものである。水系分散液に含有される酸化タングステン系微粒子は1〜400nmの範囲の平均一次粒子径(D50)を有する。水系分散液において、酸化タングステン系微粒子の濃度は0.1〜40質量%の範囲であり、かつpHは1.5〜6.5の範囲である。水系分散液は酸化タングステン系微粒子を含有する被膜や塗膜等の形成に用いられるものである。
水系分散液は酸化タングステン微粒子を水に分散させたものに限らず、酸化タングステン複合材微粒子を水に分散させたものであってもよい。酸化タングステン複合材とは、主成分としての酸化タングステンに、遷移金属元素や他の金属元素を含有させたものである。遷移金属元素とは原子番号21〜29、39〜47、57〜79、89〜109の元素である。酸化タングステン複合材はTi、Zr、Mn、Fe、Pd、Pt、Cu、Ag、AlおよびCeから選ばれる少なくとも1種の金属元素を含むことが好ましい。
酸化タングステン複合材における金属元素の含有量は0.001〜50質量%の範囲とすることが好ましい。金属元素の含有量が50質量%を超えると、酸化タングステン微粒子が有する特性が低下するおそれがある。金属元素の含有量は10質量%以下であることがより好ましい。金属元素の含有量の下限値は特に限定されるものではないが、その含有量は0.001質量%以上、さらに0.01質量%以上とすることが好ましい。水系分散液の分散性を低下させないようにする上で、金属元素の含有量や形態はpHやゼータ電位に大きな変化を及ぼさないように調整することが好ましい。このような点を考慮すると、金属元素の含有量は2質量%以下とすることが好ましい。
水系分散液に用いられる酸化タングステン複合材において、金属元素は各種の形態で存在させることができる。酸化タングステン複合材は、金属元素の単体、金属元素を含む化合物(酸化物を含む化合物)、酸化タングステンとの複合化合物等の形態として、金属元素を含むことができる。酸化タングステン複合材に含まれる金属元素は、それ自体が他の元素と化合物を形成していてもよい。金属元素の典型的な形態としては酸化物が挙げられる。金属元素は単体、化合物、複合化合物等の形態で、例えば酸化タングステン粉末と混合される。金属元素は酸化タングステンに担持されていてもよい。
酸化タングステンと金属元素(具体的にはTi、Zr、Mn、Fe、Pd、Pt、Cu、Ag、AlおよびCeから選ばれる少なくとも1種の元素の単体、化合物、複合化合物)との複合方法は特に限定されるものではなく、粉末同士を混合する混合法、含浸法、担持法等の種々の複合法を適用することが可能である。代表的な複合法を以下に記載する。酸化タングステンに銅を複合させる方法としては、酸化タングステン粉末と酸化銅粉末とを混合する方法が挙げられる。硝酸銅や硫酸銅の水溶液やエタノール溶液に酸化タングステン粉末を加えて混合した後、70〜80℃の温度で乾燥させてから500〜550℃の温度で焼成する方法も有効である。
また、塩化銅水溶液や硫酸銅水溶液に酸化タングステン粉末を分散させ、この分散液を乾燥させる方法(含浸法)を適用することも可能である。含浸法は銅の複合方法に限らず、塩化鉄水溶液を用いた鉄の複合方法、塩化銀水溶液を用いた銀の複合方法、塩化白金酸水溶液を用いた白金の複合方法、塩化パラジウム水溶液を用いたパラジウムの複合方法等にも応用することができる。さらに、酸化チタンゾルやアルミナゾル等の酸化物ゾルを用いて、酸化タングステンと金属元素(酸化物)とを複合させてもよい。これら以外にも各種の複合方法の適用が可能である。
水系分散液に用いる酸化タングステン系微粒子は結晶構造が安定した状態であることが好ましい。結晶構造が不安定であると、水系分散液を長期間保管した場合に、酸化タングステン系微粒子の結晶構造が変化することで、液性が変化して分散状態が低下するおそれがある。さらに、酸化タングステン系微粒子は微量の不純物として金属元素等を含有していてもよい。不純物元素としての金属元素の含有量は2質量%以下であることが好ましい。不純物金属元素としては、タングステン鉱石中に一般的に含まれる元素や原料として使用するタングステン化合物等を製造する際に混入する汚染元素等があり、例えばFe、Mo、Mn、Cu、Ti、Al、Ca、Ni、Cr、Mg等が挙げられる。これらの元素を複合材の構成元素として用いる場合には、この限りではない。
水系分散液に用いられる酸化タングステン系微粒子の平均一次粒子径(D50)は1〜400nmの範囲とする。酸化タングステン系微粒子のBET比表面積は4.1〜820m2/gの範囲であることが好ましい。平均一次粒子径(D50)は分散前の粒子、または分散液を乾燥させた粒子をSEMやTEM等で評価し、写真の画像解析からnが50個以上の粒子の体積基準の積算径における平均粒子径(D50)に基づいて求める。平均一次粒子径(D50)は比表面積から換算した平均粒子径と一致していてもよい。
安定な分散液を生成して均一な膜(酸化タングステン系微粒子を含有する膜)を得るためには、一次粒子径が小さく、比表面積が大きい方がよい。従って、酸化タングステン系微粒子の平均一次粒子径が400nmを超える場合やBET比表面積が4.1m2/g未満の場合には、分散液として十分な特性を得ることができない。一方、酸化タングステン系微粒子の平均一次粒子径が1nm未満の場合やBET比表面積が820m2/gを超える場合には、粒子が小さくなりすぎて、粉末としての取扱い性が劣ることになる。従って、粉末およびそれを用いた分散液の実用性が低下する。
酸化タングステン系微粒子を光触媒粉末として用いる場合、光触媒粉末の性能は一般に比表面積が大きく、粒子径が小さい方が高くなる。従って、酸化タングステン系微粒子の平均一次粒子径が400nmを超える場合やBET比表面積が4.1m2/g未満の場合には、酸化タングステン系微粒子の光触媒性能が低下すると共に、均一で安定な膜の形成が困難になる。この点からも光触媒性能が低下する。酸化タングステン系微粒子の平均一次粒子径が小さすぎる場合にも分散性が低下し、均一な分散液の作製が困難になる。
酸化タングステン系微粒子の平均一次粒子径は2.7〜75nmの範囲であることが好ましく、さらに好ましくは5.5〜51nmの範囲である。BET比表面積は11〜300m2/gの範囲であることが好ましく、さらに好ましくは16〜150m2/gの範囲である。酸化タングステン系微粒子の一次粒子径が小さすぎると、上述したように分散性が低下する。このような点を改善する上で、酸化タングステン系微粒子の平均一次粒子径は5.5nm以上であることが好ましい。
水系分散液における酸化タングステン系微粒子の濃度は0.1〜40質量%の範囲とする。濃度が0.1質量%未満であると酸化タングステン系微粒子の含有量が不足し、所望の性能を得ることができない。濃度が40質量%を超える場合には、膜化した際に酸化タングステン系微粒子が近接した状態で存在し、性能を発揮させるための表面積を得ることができない。このため、十分な性能を発揮させることができないばかりでなく、必要以上に酸化タングステン系微粒子を含有するためにコストの増加を招くことになる。
酸化タングステン系微粒子の濃度は1〜20質量%の範囲とすることがより好ましく、さらに好ましくは1〜10質量%の範囲である。酸化タングステン系微粒子を20質量%以上含有する高濃度の分散液は、希釈して塗料を作製する際に酸化タングステン系微粒子が均一に分散された状態を容易に実現することができる。このため、酸化タングステン系微粒子を均一に分散させた塗料を作製することができるという利点を有する。
さらに、水系分散液のpHは1.5〜6.5の範囲とする。酸化タングステン系微粒子を含有する水系分散液は、pHが1.5〜6.5の範囲において、ゼータ電位がマイナスとなるため、優れた分散状態を実現することができる。このような分散液やそれを用いた塗料によれば、基材等に薄くむらなく塗布することができる。水系分散液のpHは酸化タングステン系微粒子の濃度と相関関係があり、pHが変化すると分散状態が変化し、pHが1.5〜6.5の範囲において良好な分散性が得られる。
水系分散液のpHが1.5より小さい場合、ゼータ電位が零に近づくため、分散性が低下する。水系分散液のpHが6.5より大きい場合、アルカリ側に近づき、酸化タングステンが溶解しやすくなる。水系分散液のpHを調整するために、必要に応じて塩酸、硫酸、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド(TMAH)、アンモニア、水酸化ナトリウム等の酸やアルカリ水溶液を添加してもよい。水系分散液のpHは2.0〜6.0の範囲とすることがより好ましく、さらには好ましくは2.5〜5.5の範囲である。
水系分散液のpHを2.5〜5.5の範囲とすることによって、光触媒性能(ガス分解性能)をより効果的に発揮させることができる。pHが2.5〜5.5の範囲の水系分散液を塗布して乾燥させた後に、FT−IR(フーリエ変換赤外吸収分光法)で粒子の表面状態を観察すると3700cm−1付近に水酸基の吸収が見られる。このような膜を光触媒膜として用いることによって、優れた有機ガス分解性能を得ることができる。pHを6に調整した水系分散液を塗布して乾燥させた場合、水酸基の吸収が減少し、ガス分解性能も低下する。水系分散液のpHを2に調整した場合、水酸基は存在するものの、ゼータ電位が0に近づくことで分散性が若干低下し、ガス分解性能も若干低下する。
この実施形態の水系分散液において、酸化タングステン系微粒子の粒度分布はD90径が0.01〜10μmの範囲であることが好ましい。水系分散液は微粒子を分散媒と混合し、これを超音波分散機、湿式ジェットミル、ビーズミル等で分散処理することにより作製される。このようにして得られる水系分散液において、酸化タングステン系微粒子は一次粒子が凝集した凝集粒子を含んでいる。凝集粒子も含めて湿式のレーザ回折式粒度分布計等により粒度分布を測定し、体積基準の積算径におけるD90径が0.01〜10μmの範囲の場合に、良好な分散状態と均一で安定な膜形成性とを得ることができる。
酸化タングステン系微粒子の粒度分布のD90径が0.01μm未満の場合、酸化タングステン系微粒子の全体的な粒度が小さすぎるために分散性が低下する。このため、均一な分散液や塗料が得られにくくなる。D90径が10μmを超える場合には、均一で安定な膜を形成することが困難になる。特に、酸化タングステン系微粒子が光触媒性能を有する場合に、その光触媒性能を十分に発揮させることができない。
水系分散液の粒度分布におけるD90径は0.01〜1μmの範囲であることがより好ましく、さらに好ましくは0.01〜0.1μmの範囲である。均一で平滑な膜や強度が高い膜を形成するためには、できるだけ凝集粒子を解砕してD90径を小さくすることが好ましい。酸化タングステン系微粒子が光触媒性能を有する場合、膜化した後に光触媒性能を発揮させるためには、分散処理で微粒子に歪を与えすぎないような条件を設定することが好ましい。分散性が良好な水系分散液や塗料を用いて、均一で安定な膜を形成するためには、スピンコート、ディップ、スプレー等の方法で塗布することが好ましい。
水系分散液の色をL*a*b*表色系で表したとき、水系分散液はa*が10以下、b*が−5以上、L*が50以上の範囲内の色を有することが好ましい。このような色調の分散液を基材に塗布して膜を形成することによって、良好な光触媒性能が得られることに加えて基材の色を損ねることがない。従って、塗料や膜を得ることが可能となる。
この実施形態の水系分散液は水以外の分散媒としてアルコールを20質量%以下の範囲で含有していてもよい。アルコールとしては、例えばメタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール等が用いられる。アルコールの含有量が20質量%を超えると凝集しやすくなる。アルコールの含有量は10質量%以下とすることがより好ましい。水系分散液は酸化タングステン系微粒子を活性炭やゼオライト等の吸着性能を有する材料と混合、担持、含浸させた状態で水系分散媒中に分散させてもよい。
この実施形態の水系分散液に用いられる酸化タングステン系微粒子(粉末)は、以下に示す方法で作製することが好ましいが、これに限られるものではない。酸化タングステン系微粒子は昇華工程を適用して作製することが好ましい。また、昇華工程に熱処理工程を組合せることも有効である。このような方法で作製した三酸化タングステン系微粒子によれば、上述した平均一次粒子径やBET比表面積、また結晶構造を安定して実現することができる。さらに、平均一次粒子径がBET比表面積から換算した値に近似し、粒子径ばらつきが小さい微粒子(微粉末)を安定して得ることができる。
まず、昇華工程について述べる。昇華工程は、金属タングステン粉末、タングステン化合物粉末、またはタングステン化合物溶液を、酸素雰囲気中で昇華させることによって、三酸化タングステン微粒子を得る工程である。昇華とは固相から気相、あるいは気相から固相への状態変化が、液相を経ずに起こる現象である。原料としての金属タングステン粉末、タングステン化合物粉末、またはタングステン化合物溶液を、昇華させながら酸化させることによって、微粒子状態の酸化タングステン粉末を得ることができる。
昇華工程の原料(タングステン原料)には、金属タングステン粉末、タングステン化合物粉末、またはタングステン化合物溶液のいずれを使用してもよい。原料として使用するタングステン化合物としては、例えば三酸化タングステン(WO3)、二酸化タングステン(WO2)、低級酸化物等の酸化タングステン、炭化タングステン、タングステン酸アンモニウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸等が挙げられる。
上述したようなタングステン原料の昇華工程を酸素雰囲気中で行うことで、金属タングステン粉末やタングステン化合物粉末を瞬時に固相から気相とし、さらに気相となった金属タングステン蒸気を酸化することによって、酸化タングステン微粒子が得られる。溶液を使用した場合でも、タングステン酸化物あるいは化合物を経て気相となる。このように、気相での酸化反応を利用することによって、酸化タングステン微粒子を得ることができる。さらに、酸化タングステン微粒子の結晶構造を制御することができる。
昇華工程の原料としては、酸素雰囲気中で昇華して得られる酸化タングステン微粒子に不純物が含まれにくいことから、金属タングステン粉末、酸化タングステン粉末、炭化タングステン粉末、およびタングステン酸アンモニウム粉末から選ばれる少なくとも1種を使用することが好ましい。金属タングステン粉末や酸化タングステン粉末は、昇華工程で形成される副生成物(酸化タングステン以外の物質)として有害なものが含まれないことから、特に昇華工程の原料として好ましい。
原料に用いるタングステン化合物としては、その構成元素としてタングステン(W)と酸素(O)を含む化合物が好ましい。構成成分としてWおよびOを含んでいると、昇華工程で後述する誘導結合型プラズマ処理等を適用した際に瞬時に昇華されやすくなる。このようなタングステン化合物としては、WO3、W2058、W1849、WO2等が挙げられる。また、タングステン酸、パラタングステン酸アンモニウム、メタタングステン酸アンモニウムの溶液あるいは塩等も有効である。
酸化タングステン複合材微粒子を作製する際には、タングステン原料に加えて遷移金属元素やその他の元素を、金属、酸化物を含む化合物、複合化合物等の形態で混ぜてもよい。酸化タングステンを他の元素と同時に処理することによって、酸化タングステンと他の元素との複合酸化物等の複合化合物微粒子を得ることができる。酸化タングステン複合材微粒子は、酸化タングステン微粒子を他の金属元素の単体粒子や化合物粒子と混合、担持させることによっても得ることができる。酸化タングステンと他の金属元素との複合方法は特に限定されるものではなく、各種公知の方法を適用することが可能である。
タングステン原料としての金属タングステン粉末やタングステン化合物粉末は0.1〜100μmの範囲の平均粒子径を有することが好ましい。タングステン原料の平均粒子径は0.3μm〜10μmの範囲がより好ましくは、さらに好ましくは0.3μm〜3μmの範囲、望ましくは0.3μm〜1.5μmの範囲である。上記範囲内の平均粒子径を有する金属タングステン粉末やタングステン化合物粉末を用いると、昇華が生じやすい。
タングステン原料の平均粒子径が0.1μm未満の場合には原料粉が微細すぎるため、原料粉の事前調整が必要になったり、取扱い性が低下することに加えて、高価になるために工業的に好ましくない。タングステン原料の平均粒子径が100μmを超えると均一な昇華反応が起きにくくなる。平均粒子径が大きくても大きなエネルギー量で処理すれば均一な昇華反応を生じさせることができるが、工業的には好ましくない。
昇華工程でタングステン原料を酸素雰囲気中で昇華させる方法としては、誘導結合型プラズマ処理、アーク放電処理、レーザ処理、電子線処理、およびガスバーナー処理から選ばれる少なくとも1種の処理が挙げられる。これらのうち、レーザ処理や電子線処理ではレーザまたは電子線を照射して昇華工程を行う。レーザや電子線は照射スポット径が小さいため、一度に大量の原料を処理するためには時間がかかるものの、原料粉の粒子径や供給量の安定性を厳しく制御する必要がないという長所がある。
誘導結合型プラズマ処理やアーク放電処理は、プラズマやアーク放電の発生領域の調整が必要であるものの、一度に大量の原料粉を酸素雰囲気中で酸化反応させることができる。また、一度に処理できる原料の量を制御することができる。ガスバーナー処理は動力費が比較的安いものの、原料粉や原料溶液を多量に処理することが難しい。このため、ガスバーナー処理は生産性の点で劣るものである。なお、ガスバーナー処理は昇華させるのに十分なエネルギーを有するものであればよく、特に限定されるものではない。プロパンガスバーナーやアセチレンガスバーナー等が用いられる。
昇華工程に誘導結合型プラズマ処理を適用する場合、通常アルゴンガスや酸素ガスを用いてプラズマを発生させ、このプラズマ中に金属タングステン粉末やタングステン化合物粉末を供給する方法が用いられる。プラズマ中にタングステン原料を供給する方法としては、例えば金属タングステン粉末やタングステン化合物粉末をキャリアガスと共に吹き込む方法、金属タングステン粉末やタングステン化合物粉末を所定の液状分散媒中に分散させた分散液を吹き込む方法等が挙げられる。
金属タングステン粉末やタングステン化合物粉末をプラズマ中に吹き込む場合に用いられるキャリアガスとしては、例えば空気、酸素、酸素を含有した不活性ガス等が挙げられる。これらのうち、空気は低コストであるために好ましく用いられる。キャリアガスの他に酸素を含む反応ガスを流入する場合や、タングステン化合物粉末が三酸化タングステンの場合等、反応場中に酸素が十分に含まれているときには、キャリアガスとしてアルゴンやヘリウム等の不活性ガスを用いてもよい。反応ガスには酸素や酸素を含む不活性ガス等を用いることが好ましい。酸素を含む不活性ガスを用いる場合、酸化反応に必要な酸素量を十分に供給することが可能なように、酸素量を設定することが好ましい。
金属タングステン粉末やタングステン化合物粉末をキャリアガスと共に吹き込む方法を適用すると共に、ガス流量や反応容器内の圧力等を調整することによって、三酸化タングステン微粒子の結晶構造を制御しやすい。具体的には、単斜晶および三斜晶から選ばれる少なくとも1種(単斜晶、三斜晶、または単斜晶と三斜晶との混晶)、あるいはそれに斜方晶を混在させた結晶構造を有する三酸化タングステン微粒子が得られやすい。三酸化タングステン微粒子の結晶構造は、単斜晶と三斜晶との混晶、あるいは単斜晶と三斜晶と斜方晶の混晶であることがより好ましい。
金属タングステン粉末やタングステン化合物粉末の分散液の作製に用いられる分散媒としては、分子中に酸素原子を有する液状分散媒が挙げられる。分散液を用いると原料粉の取扱いが容易になる。分子中に酸素原子を有する液状分散媒としては、例えば水およびアルコールから選ばれる少なくとも1種を20容量%以上含むものが用いられる。液状分散媒として用いるアルコールとしては、例えばメタノール、エタノール、1−プロパノールおよび2−プロパノールから選ばれる少なくとも1種が好ましい。水やアルコールはプラズマの熱で容易に揮発しやすいため、原料粉の昇華反応や酸化反応を妨害することはなく、分子中に酸素を含有していることから酸化反応を促進しやすい。
金属タングステン粉末やタングステン化合物粉末を分散媒に分散させて分散液を作製する場合、金属タングステン粉末やタングステン化合物粉末は分散液中に10〜95質量%の範囲で含ませることが好ましく、さらに好ましくは40〜80質量%の範囲である。このような範囲で分散液中の分散させることで、金属タングステン粉末やタングステン化合物粉末を分散液中に均一に分散させることができる。均一に分散していると原料粉の昇華反応が均一に生じやすい。分散液中の含有量が10質量%未満では原料粉の量が少なすぎて効率よく製造ができない。95質量%を超えると分散液が少なく、原料粉の粘性が増大することで、容器にこびりつき易くなるために取扱い性が低下する。
金属タングステン粉末やタングステン化合物粉末を分散液にしてプラズマ中に吹き込む方法を適用することによって、三酸化タングステン微粒子の結晶構造を制御しやすい。具体的には、単斜晶および三斜晶から選ばれる少なくとも1種、またはそれに斜方晶を混在させた結晶構造を有する三酸化タングステン微粒子が得られやすい。さらに、タングステン化合物溶液を原料として用いることによっても、昇華反応を均一に行うことができ、さらに三酸化タングステン微粒子の結晶構造の制御性が向上する。上記したような分散液を用いる方法は、アーク放電処理にも適用することが可能である。
レーザや電子線を照射して昇華工程を実施する場合は、金属タングステンやタングステン化合物をペレット状にしたものを原料として使用することが好ましい。レーザや電子線は照射スポット径が小さいため、金属タングステン粉末、タングステン化合物粉末を用いると供給が困難になるが、ペレット状にした金属タングステンやタングステン化合物を用いることで効率よく昇華させることができる。レーザは金属タングステンやタングステン化合物を昇華させるのに十分なエネルギーを有するものであればよく、特に限定されるものではないが、CO2レーザが高エネルギーであるために好ましい。
レーザや電子線をペレットに照射する際に、レーザ光や電子線の照射源またはペレットの少なくとも一方を移動させると、ある程度の大きさを有するペレットの全面を有効に昇華することができる。これによって、単斜晶および三斜晶から選ばれる少なくとも1種に斜方晶を混在させた結晶構造を有する三酸化タングステン粉末が得られやくなる。上記したようなペレットは誘導結合型プラズマ処理やアーク放電処理にも適用可能である。
この実施形態の水系分散液に用いられる酸化タングステン系微粒子は、上述したような昇華工程のみによっても得ることができるが、昇華工程で作製した酸化タングステン系微粒子に熱処理工程を実施することも有効である。熱処理工程は、昇華工程で得られた三酸化タングステン系微粒子を、酸化雰囲気中にて所定の温度と時間で熱処理するものである。昇華工程の条件制御等で三酸化タングステン微粒子を十分に形成することができない場合でも、熱処理を施すことで酸化タングステン微粒子中の三酸化タングステン微粒子の割合を99%以上、実質的には100%にすることができる。さらに、熱処理工程で三酸化タングステン微粒子の結晶構造を所定の構造に調整することができる。
熱処理工程で用いられる酸化雰囲気としては、例えば空気や酸素含有ガスが挙げられる。酸素含有ガスとは酸素を含有した不活性ガスを意味する。熱処理温度は200〜1000℃の範囲とすることが好ましく、さらに好ましくは400〜700℃である。熱処理時間は10分〜5時間とすることが好ましく、さらに好ましくは30分〜2時間である。熱処理工程の温度および時間を上記範囲内にすることによって、三酸化タングステン以外の酸化タングステンから三酸化タングステンを形成しやすい。また、欠陥が少ない結晶性の良い粉末を得るためには、熱処理時の昇温や降温を緩やかに実施することが好ましい。熱処理時の急激な加熱や急冷は結晶性の低下を招くことになる。
熱処理温度が200℃未満の場合には、昇華工程で三酸化タングステンにならなかった粉末を三酸化タングステンにするための酸化効果を十分に得ることができないおそれがある。熱処理温度が1000℃を超えると酸化タングステン微粒子が急激に粒成長するため、得られる酸化タングステン微粉末の比表面積が低下しやすい。さらに、上記したような温度と時間で熱処理工程を行うことによって、三酸化タングステン微粉末の結晶構造や結晶性を調整することが可能となる。
この実施形態の水系分散液はそのままの状態で膜形成材料として用いることができる。水系分散液はバインダ成分等と混合して塗料を作製し、この塗料を膜形成材料として用いてもよい。塗料は水系分散液と共に無機バインダおよび有機バインダから選ばれる少なくとも1種のバインダ成分を含有する。バインダ成分の含有量は5〜95質量%の範囲とすることが好ましい。バインダ成分の含有量が95質量%を超えると、所望の光触媒性能を得ることができないおそれがある。バインダ成分の含有量が5質量%未満の場合には十分な結合力が得られず、膜特性が低下するおそれがある。このような塗料を塗布することによって、膜の強度、硬さ、基材への密着力等を所望の状態に調整することができる。
無機バインダとしては、例えばアルキルシリケート、ハロゲン化ケイ素、およびこれらの部分加水分解物等の加水分解性ケイ素化合物を分解して得られる生成物、有機ポリシロキサン化合物とその重縮合物、シリカ、コロイダルシリカ、水ガラス、ケイ素化合物、リン酸亜鉛等のリン酸塩、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の金属酸化物、重リン酸塩、セメント、石膏、石灰、ほうろう用フリット等が用いられる。有機バインダとしては、例えばフッ素系樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂等が用いられる。
上述したような水系分散液や塗料を基材に塗布することによって、酸化タングステン系微粒子を含有する膜を安定かつ均一に形成することができる。このような膜を形成する基材としては、ガラス、セラミックス、プラスチック、アクリル等の樹脂、紙、繊維、金属、木材等が用いられる。膜厚は2〜1000nmの範囲であることが好ましい。膜厚が2nm未満であると、酸化タングステン系微粒子を均一に存在させた状態が得られないおそれがある。膜厚が1000nmを超えると基材に対する密着力が低下する。膜厚は2〜400nmの範囲であることがより好ましい。
この実施形態の膜は可視光の照射下で光触媒性能を有することが好ましい。一般に可視光とは波長が380〜830nmの領域の光であり、白色蛍光灯、太陽光、白色LED、電球、ハロゲンランプ、キセノンランプ等の一般照明や、青色発光ダイオード、青色レーザ等を光源として照射される光である。この実施形態の膜は通常の屋内環境下で光触媒性能を発揮するものである。光触媒性能とは、光を吸収して光子一個に対し一対の電子と正孔が励起され、励起された電子と正孔が表面にある水酸基や酸を酸化還元により活性化し、その活性化で発生した活性酸素種によって、有機ガス等を酸化分解する作用であり、さらに親水性や抗菌・除菌性能等を発揮する作用である。
この実施形態の製品は上述した水系分散液や塗料を用いて形成した膜を具備するものである。具体的には、製品を構成する基材の表面に水系分散液や塗料を塗布して膜を形成したものである。基材表面に形成する膜は、ゼオライト、活性炭、多孔質セラミックス等を含有していてもよい。上述した光触媒膜やそれを具備する製品は、可視光の照射下におけるアセトアルデヒドやホルムアルデヒド等の有機ガスの分解性能に優れ、特に低照度においても高活性を示すという特徴を有する。この実施形態の膜は水の接触角測定で親水性を示す。さらに、黄色ブドウ球菌や大腸菌に対する可視光の照射下での抗菌性評価において、高い抗菌作用を発揮するものである。
この実施形態の膜を具備する製品の具体例としては、エアコン、空気清浄機、扇風機、冷蔵庫、電子レンジ、食器洗浄乾燥機、炊飯器、ポット、鍋蓋、IHヒータ、洗濯機、掃除機、照明器具(ランプ、器具本体、シェード等)、衛生用品、便器、洗面台、鏡、浴室(壁、天井、床等)、建材(室内壁、天井材、床、外壁等)、インテリア用品(カーテン、絨毯、テーブル、椅子、ソファ、棚、ベッド、寝具等)、ガラス、サッシ、手すり、ドア、ノブ、衣服、家電製品等に使用されるフィルタ、文房具、台所用品、自動車の室内空間で用いられる部材等が挙げられる。酸化タングステン系微粒子が光触媒性能を有する場合には、製品に光触媒効果を付与することができる。適用する基材としてはガラス、セラミックス、プラスチック、アクリル等の樹脂、紙、繊維、金属、木材等が挙げられる。
基材に繊維を用いる場合、繊維材料としてはポリエステル、ナイロン、アクリル等の合成繊維、レーヨン等の再生繊維、綿、羊毛、絹等の天然繊維、それらの混繊、交織、混紡品等が用いられる。繊維材料はバラ毛状であってもよい。繊維は織物、編物、不織布等のいかなる形態を有していてもよく、通常の染色加工やプリントが施されているものであってもよい。水系分散液を繊維材料に適用する場合、酸化タングステン系微粒子を樹脂バインダと併用し、これを繊維材料に固定する方法が便利である。
樹脂バインダとしては、水溶解型、水分散型、溶剤可溶型の樹脂を使用することができる。具体的には、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、フッ素樹脂等が用いられるが、これらに限定されるものではない。水系分散液を用いて酸化タングステン系微粒子を繊維材料に固定する場合、例えば水系分散液を水分散性や水溶解性の樹脂バインダと混合して樹脂液を作製し、この樹脂液に繊維材料を含浸した後、マングルロールで絞って乾燥させる。樹脂液を増粘することによって、繊維材料の片面にナイフコーター等の公知の装置でコートすることができる。グラビヤロールを用いて繊維材料の片面もしくは両面に酸化タングステン系微粒子を付着させることも可能である。
水系分散液を用いて酸化タングステン系微粒子を繊維表面に付着させる場合において、付着量が少なすぎると酸化タングステン系微粒子が有するガス分解性能や抗菌性能を十分に発揮させることができない。付着量が多すぎる場合には、酸化タングステン系微粒子が有する性能は発揮されるものの、繊維材料としての風合いが低下する場合がある。このため、材質や用途に応じて適正な付着量を選択することが好ましい。水系分散液に含有される酸化タングステン系微粒子が可視光の照射下で光触媒性能を有する場合、表面に酸化タングステン系微粒子を付着させた繊維を用いた衣類やインテリア用品は、室内環境における可視光の照射下で優れた消臭効果や抗菌効果を発揮させることができる。
上述したように、この実施形態の水系分散液は分散剤を使用しない場合においても、酸化タングステン系微粒子の分散性に優れることから、酸化タングステン系微粒子が長時間沈殿せず、安定した液性状を保つことができる。従って、そのような水系分散液や塗料を使用することによって、均一で滑らかな膜やそのような膜を具備する製品を提供することが可能となる。さらに、光触媒性能を有する酸化タングステン系微粒子を用いた場合には、優れた有機ガス分解性能、親水性、抗菌・除菌性能等の光触媒性能を有する光触媒膜、さらにはそれを有する製品を提供することが可能となる。
次に、本発明の具体的な実施例およびその評価結果について述べる。なお、以下の実施例では粉末の製造方法として、昇華工程に誘導結合型プラズマ処理を適用した方法を使用しているが、本発明はこれに限定されるものではない。
(実施例1)
まず、原料粉末として平均粒子径が0.5μmの三酸化タングステン粉末を用意した。この原料粉末をキャリアガス(Ar)と共にRFプラズマに噴霧し、さらに反応ガスとしてアルゴンを40L/min、酸素を40L/minの流量で流した。このようにして、原料粉末を昇華させながら酸化反応させる昇華工程を経て、酸化タングステン粉末を作製した。酸化タングステン粉末は大気中にて900℃×1.5hの条件で熱処理した。
酸化タングステン粉末の平均一次粒子径(D50)とBET比表面積を測定した。平均一次粒子径はTEM写真の画像解析によって測定した。TEM観察には日立社製H−7100FAを使用し、拡大写真を画像解析にかけて粒子50個以上を抽出し、体積基準の積算径を求めてD50を算出した。BET比表面積の測定はマウンテック社製比表面積測定装置Macsorb1201を用いて行った。前処理は窒素中にて200℃×20分の条件で実施した。平均一次粒子径(D50)とBET比表面積の測定結果を表1に示す。
次に、得られた酸化タングステン粉末を用いて水系分散液を作製した。酸化タングステン粉末をその濃度が10質量%となるように水中に分散させた。分散液のpHが4.5となるように、水、硫酸、TMAHで調整した。分散処理はビーズミルを用いて実施した。このようにして作製した水系分散液の濃度とpHの測定結果を表1に示す。
水系分散液の分散性を評価した。分散性の評価は分散液の作製直後と2ヶ月放置した後にそれぞれ実施した。分散性は粒度分布のD90径および目視による沈降状態の確認に基づいて評価した。それらの結果を表2に示す。粒度分布のD90径は日機装社製(レーザ回折式粒度分布計)マイクロトラックMT3300を用いて測定した。最大粒子径が6μm以下の場合には、日機装社製ナノトラックUPA−EX用いて測定した。この場合もほぼ同等のデータが得られた。目視での状態確認は沈降した粒子の有無に基づいて評価した。目視評価の結果は、粒子が沈降した場合には×、粒子が僅かに沈降していた場合には△、粒子が沈降していない場合には○、粒子が沈降していないと共に、上下の濃度差もない場合には◎として、表2に示す。
(実施例2)
反応ガスとして酸素を80L/minの流量で流し、反応容器内の圧力を25kPaと減圧側に調整する以外は、実施例1と同様の昇華工程を経て酸化タングステン粉末を作製した。さらに、得られた酸化タングステン粉末を用いて、実施例1と同様にして水系分散液を作製した。酸化タングステン粉末および水系分散液について、実施例1と同様の測定、評価を行った。粉末特性および分散液特性を表1に示す。さらに、水系分散液の安定性を実施例1と同様にして測定、評価した。評価結果を表2に示す。
(実施例3)
酸化タングステン粉末の熱処理を大気中にて500℃×2hの条件で実施する以外は、実施例1と同様にして酸化タングステン粉末を作製した。次に、得られた酸化タングステン粉末を用いて、実施例1と同様にして水系分散液を作製した。酸化タングステン粉末と水系分散液の特性を表1に示す。さらに、水系分散液の安定性を実施例1と同様にして測定、評価した。評価結果を表2に示す。
(実施例4〜14)
実施例4においては、実施例2の酸化タングステン粉末の分散処理をD90径が小さくなるような条件で実施して水系分散液を作製した。実施例5〜7においては、実施例3の酸化タングステン粉末を用いて、その濃度が0.5〜20質量%の範囲となるように調整して水系分散液を作製した。実施例8においては、大気中にて850℃×1.5hの条件で熱処理を実施する以外は実施例1と同様に作製した酸化タングステン粉末を用いて水系分散液を作製した。実施例9〜10においては、pHの調整値を変更する以外は実施例6と同様にして水系分散液を作製した。
実施例11においては、昇華工程の原料粉末にFeやMoを多く含む原料を使用する以外は実施例6と同様にして水系分散液を作製した。酸化タングステン複合材粉末におけるFeの含有量は300ppmであった。実施例12においては、昇華工程の原料粉末に酸化ジルコニウム粉末を混合して使用する以外は実施例6と同様にして水系分散液を作製した。酸化タングステン複合材粉末におけるZrの含有量は1000ppmであった。実施例13においては、昇華工程の原料粉末に白金粉末を混合して使用する以外は実施例6と同様にして水系分散液を作製した。酸化タングステン複合材粉末におけるPtの含有量は1000ppmであった。実施例14においては、分散媒としてアルコールを10質量%含む水を使用する以外は実施例6と同様にして水系分散液を作製した。
実施例4〜14の水系分散液について、分散安定性を実施例1と同様にして測定、評価した。その結果を表2に示す。
表2から明らかなように、実施例1〜3の水系分散液は分散条件に基づいてD90径が比較的大きいものもあり、分散液中に僅かに沈降が認められたが、2ケ月後の変化は小さく、比較的安定していた。実施例4〜14の水系分散液はいずれもD90径が小さく、沈降がない良好な特性を示した。さらに、2ケ月後においても沈降はほとんど発生せず、粒径変化も小さいことから、安定性に優れることが確認された。これらの分散液は3ケ月保管後においても同様な状態を示し、長期間にわたって安定であることが確認された。なお、pHの調整範囲が強酸性側に近くなる、あるいは中性に近くなると、分散直後は比較的均一で安定していたが、2ヶ月後には僅かながら沈降が見られた。
(比較例1)
pHの調整範囲を強酸性側に変更する以外は、実施例6と同様の条件で水系分散液を作製した。水系分散液のpHは0.5となり、分散直後も僅かな沈降が見られた。2ヶ月保管後はさらに凝集が進んで沈降量が増加していた。これはゼータ電位が0に近づき、凝集がしやすくなったためと考えられる。
(比較例2)
酸化タングステン粉末の濃度を50質量%とすると共に、pHの調整範囲を中性付近に変更する以外は、実施例6と同様の条件で分散液を作製した。水系分散液のpHは7.1となり、酸化タングステンが溶解した。
(比較例3)
試薬等として市販されている酸化タングステン粉末(レアメタリック社製)を用いて、濃度10質量%、pH5.2の水系分散液を作製した。酸化タングステン粉末の粒径が大きすぎるため、水中への分散が不十分となり、沈降が多いことを確認された。
Figure 0005985556
Figure 0005985556
(実施例15)
実施例6で得られた水系分散液に、酸化タングステン粉末に対して1質量%のコロイダルシリカを混合して水系塗料を作製した。この塗料の作製直後と2ヶ月保管後の分散性を評価した。その結果を表3に示す。実施例15の水系塗料は水系分散液と同様に、粒子の沈降がない均一な分散液であり、長期間保管しても安定であることが確認された。
(比較例4)
市販の酸化チタンを含む塗料についても、購入時と2ヶ月保管後の分散性を評価した。その結果を表3に示す。市販の塗料は製造から既に時間も経過しており、僅かに粒子の沈降が認められた。さらに、2ヶ月保管後には凝集が進み、沈降粒子が増加していた。
Figure 0005985556
(実施例16)
実施例15の水系塗料をガラスの表面に塗布して乾燥させることによって、表面に酸化タングステン被覆層を有するガラスを作製した。このガラスの表面について、目視で粗粒子や凝集粒子の有無を確認したところ、粗粒子や凝集粒子の存在は認められず、均一な膜が得られていることが確認された。さらに、任意の部分について顕微鏡で観察したところ、各部分において均一な膜が形成されていることが確認された。
(実施例17)
実施例6の水系分散液を用いて、ガラス表面に光触媒膜を形成した。この光触媒膜の可視光の照射下における光触媒性能を評価した。光触媒性能はアセトアルデヒドガスの分解率を測定することにより評価した。具体的には、JIS−R−1701−1(2004)の窒素酸化物の除去性能(分解能力)評価と同様の流通式の装置を用いて、以下に示す条件でガス分解率を測定した。さらに、水系分散液はその色をL*a*b*表色系で表したとき、a*が−14、b*が15、L*が80の色を有していた。このような水系分散液は基材に塗布したときに光触媒性能を得た上で、基材の色を損ねることがでない。
アセトアルデヒドガスの分解試験は以下のようにして実施した。アセトアルデヒドの初期濃度は10ppm、ガス流量は140mL/min、試料量は0.2gとする。試料の調整は5×10cmのガラス板に塗布して乾燥させる。前処理はブラックライトで12時間照射する。光源に白色蛍光灯(東芝ライテック社製FL20SS・W/18)を使用し、紫外線カットフィルタ(日東樹脂工業社製クラレックスN−169)を用い、380nm未満の波長をカットする。照度は1000lxに調整する。初めに光を照射せずに、ガス吸着がなくなり安定するまで待つ。安定した後に光照射を開始する。このような条件下で光を照射し、15分後のガス濃度を測定してガス分解率を求める。ただし、15分経過後もガス濃度が安定しない場合には、安定するまで継続して濃度を測定する。
光照射前のガス濃度をA、光照射から15分以上経過し、かつ安定したときのガス濃度をBとし、これらガス濃度Aとガス濃度Bから[式:(A−B)/A×100]に基づいて算出した値をガス分解率(%)とする。ガス分析装置としてはINOVA社製マルチガスモニタ1412を使用した。このような測定を行った結果、光触媒性能が安定して発揮されることが確認された。これは、作製した酸化タングステン粉末そのものが光触媒性能を有しており、さらにこの粉末の活性を低下させないような条件下で分散処理を行うことで、分散液や塗料においても光触媒性能を発揮させることが可能となる。
(実施例18)
実施例6の水系分散液をアクリル樹脂系の樹脂液に混合し、この混合液(塗料)に目付150g/m2のポリエステルからなる平織物に含浸させ、酸化タングステン光触媒を付着したポリエステル繊維を作製した。光触媒を付着した繊維と付着していない繊維から5×10cmの試料を切り取り、それぞれ実施例17と同様の方法で可視光の照射下における光触媒性能を評価した。その結果、光触媒を付着させたポリエステル繊維は、付着させていない繊維よりもアセトアルデヒドガスの分解率が高いことが確認された。さらに、同様に作製したサンプルを10個準備し、性能のばらつきを評価したところ、この実施例の分散液は優れた分散性を有するため、繊維への光触媒の付着量が安定していることが確認された。また、ポリエステル繊維は均一な風合いを保っていることが確認された。
(実施例19)
実施例6で作製したpH4の水系分散液をシリコン基板上に塗布し、150℃×10分の条件で乾燥させて膜を作製した。FT−IR(フーリエ変換赤外吸収分光法/装置名:BRUKER社製IFS66v)の透過法で表面水酸基の存在を確認したところ、3700cm−1付近の水酸基に由来するピークを確認した。さらに、分散液をガラス基板(5×10cm)に塗布し、150℃×10分の条件で乾燥させ、酸化タングステンの付着量が0.1g/50cm2の膜を作製した。この膜の光触媒性能を実施例17と同様の方法で評価した。ただし、ブラックライトによる前処理は1時間とし、また可視光の照射強度は6000lxとした。ガス分解率は80.1%であった。
さらに、分散液のゼータ電位を測定した。ゼータ電位の測定には大塚電子社製ELSZ−2とpHタイトレーターシステム(ELSZ−PT)を使用した。pH調整剤としては、酸性調整には0.1mol/LのHCl水溶液、アルカリ性調整には0.1mol/LのNaOHを使用した。0.1質量%に希釈した分散液を、pHタイトレーターでpH2、3、4、5、6、7と調整した後、それぞれのpHでゼータ電位を測定した。pH4でのゼータ電位は−29.9mVであった。これらの結果を表4に示す。
(実施例20)
実施例6で得られた水系分散液のpHをTMAHで調整して、pH6の分散液を作製した。この分散液をシリコン基板上に塗布し、150℃×10分の条件で乾燥させて膜を作製した。実施例19と同様にFT−IRで表面水酸基の存在を確認したところ、3700cm−1付近の水酸基に由来するピークが大幅に減少していることが確認された。さらに、pH6に調整した分散液を用いて、実施例19と同様にアセトアルデヒドガスの分解率を測定したところ、ガス分解率は54%であった。pH6でのゼータ電位は−32.3mVであった。それらの結果を表4に示す。pH6に調整することで酸化タングステン粒子表面の水酸基が減少し、ガス分解率の低下が起きると考えられる。
(実施例21)
実施例6で得られた水分散液のpHを硫酸で調整し、pH2の分散液を作製した。分散液をシリコン基板上に塗布し、150℃×10分の条件で乾燥させて膜を作製した。実施例19と同様にFT−IRで表面水酸基の存在を確認したところ、3700cm−1付近の水酸基に由来するピークを確認した。さらに、pH2に調整した分散液を用いて実施例19と同様にアセトアルデヒドガスの分解率を測定したところ、ガス分解率は61.1%であった。pH2でのゼータ電位は−7.9mVであった。それらの結果を表4に示す。pH2に調整することによって、水系分散液中でのゼータ電位が減少した。このため、粒子は凝集する傾向にある。粒子の凝集で比表面積が減少するため、ガス分解率の低下が起きるものと考えられる。
Figure 0005985556
(実施例22)
実施例15で作製した塗料を自動車の室内空間のガラスに塗布して光触媒膜を形成したところ、タバコの臭いが低減し、またガラスが汚れにくくなった。ちなみに、この塗料を塗布したガラスの親水性を評価したところ、接触角は1°以下であり、超親水性が発現した。さらに、黄色ブドウ球菌、大腸菌、カビを用いて抗菌性の評価を行ったところ、いずれも優れた抗菌性を示すことが確認された。
上述した各実施例の酸化タングステン系微粒子を使用した水系分散液は、優れた分散性を有するため、均一な膜を得ることができる。酸化タングステン系微粒子は光触媒性能を有するため、アセトアルデヒド等の有機ガスの分解性能を安定して得ることができ、さらに視覚的に色ムラ等の問題も生じにくい。このため、自動車の室内空間で使用される部材、工場、商店、学校、公共施設、病院、福祉施設、宿泊施設、住宅等で使用される建材、内装材、家電等に好適に用いられる。
本発明の態様に係る水系分散液は優れた分散性を有するため、微粒子が長期間沈降せずに安定した液性状を保つことができる。従って、そのような水系分散液やそれを用いた塗料を適用することによって、均一で滑らかな膜やそれを有する製品を提供することが可能となる。このような膜や製品は酸化タングステン系微粒子が有する特性を活かして各種用途に適用されるものである。

Claims (10)

  1. 酸化タングステン微粒子および酸化タングステン複合材微粒子から選ばれる少なくとも1種の微粒子を、水を含む分散媒に分散させて水系分散液を作製する工程と、
    前記水系分散液を基材に塗布し、前記微粒子を含有する膜を形成する工程を具備する膜の製造方法であって、
    前記水系分散液における前記微粒子の平均一次粒子径(D50)が1nm以上400nm以下の範囲であると共に、前記微粒子の粒度分布のD90径が0.01μm以上10μm以下の範囲であり、前記水系分散液における前記微粒子の濃度が0.1質量%以上40質量%以下の範囲であり、かつ前記水系分散液のpHが2.5以上5.5以下の範囲であり、
    前記酸化タングステン複合材は、遷移金属元素およびAlから選ばれる少なくとも1種の金属元素、または前記金属元素を含む化合物を、前記金属元素の量として0.001質量%以上10質量%以下の範囲で含み、残部が酸化タングステンからなり、
    前記膜は可視光の照射下で光触媒性能を示すことを特徴とする膜の製造方法。
  2. 酸化タングステン微粒子および酸化タングステン複合材微粒子から選ばれる少なくとも1種の微粒子を、水を含む分散媒に分散させて水系分散液を作製する工程と、
    前記水系分散液と、無機バインダおよび有機バインダから選ばれる少なくとも1種のバインダ成分とを混合して塗料を調製する工程と、
    前記塗料を基材に塗布し、前記微粒子と前記バインダ成分とを含有する膜を形成する工程を具備する膜の製造方法であって、
    前記水系分散液における前記微粒子の平均一次粒子径(D50)が1nm以上400nm以下の範囲であると共に、前記微粒子の粒度分布のD90径が0.01μm以上10μm以下の範囲であり、前記水系分散液における前記微粒子の濃度が0.1質量%以上40質量%以下の範囲であり、かつ前記水系分散液のpHが2.5以上5.5以下の範囲であり、
    前記酸化タングステン複合材は、遷移金属元素およびAlから選ばれる少なくとも1種の金属元素、または前記金属元素を含む化合物を、前記金属元素の量として0.001質量%以上10質量%以下の範囲で含み、残部が酸化タングステンからなり、
    前記膜は可視光の照射下で光触媒性能を示すことを特徴とする膜の製造方法。
  3. 請求項1または請求項2記載の膜の製造方法において、
    前記水系分散液における前記微粒子の濃度が1.0質量%以上20質量%以下の範囲であることを特徴とする膜の製造方法。
  4. 請求項1ないし請求項3のいずれか1項記載の膜の製造方法において、
    前記水系分散液における前記微粒子のBET比表面積が4.1m/g以上820m/g以下の範囲であることを特徴とする膜の製造方法。
  5. 請求項1ないし請求項のいずれか1項記載の膜の製造方法において、
    前記金属元素はTi、Zr、Mn、Fe、Pd、Pt、Cu、Ag、AlおよびCeから選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする膜の製造方法。
  6. 請求項1ないし請求項のいずれか1項記載の膜の製造方法において、
    前記分散媒はアルコールを20質量%以下の範囲で含むことを特徴とする膜の製造方法。
  7. 請求項1ないし請求項のいずれか1項記載の膜の製造方法において、
    前記基材は、ガラス、セラミックス、プラスチック、樹脂、紙、繊維、金属、または木材であることを特徴とする膜の製造方法。
  8. 請求項2記載の膜の製造方法において、
    前記塗料は、前記バインダ成分を5質量%以上95質量%以下の範囲で含有することを特徴とする膜の製造方法。
  9. 請求項2記載の膜の製造方法において、
    前記無機バインダは、シリカ、コロイダルシリカ、水ガラス、ケイ素化合物、リン酸塩、重リン酸塩、金属酸化物、セメント、石膏、石灰、またはほうろう用フリットを具備することを特徴とする膜の製造方法。
  10. 請求項2記載の膜の製造方法において、
    前記有機バインダは、フッ素系樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、またはアルキド樹脂を具備することを特徴とする膜の製造方法。
JP2014168127A 2008-03-04 2014-08-21 水系分散液を用いた膜の製造方法 Active JP5985556B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014168127A JP5985556B2 (ja) 2008-03-04 2014-08-21 水系分散液を用いた膜の製造方法

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008054139 2008-03-04
JP2008054139 2008-03-04
JP2008106891 2008-04-16
JP2008106891 2008-04-16
JP2014168127A JP5985556B2 (ja) 2008-03-04 2014-08-21 水系分散液を用いた膜の製造方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010501801A Division JP5641926B2 (ja) 2008-03-04 2009-03-04 水系分散液とそれを用いた塗料

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015006987A JP2015006987A (ja) 2015-01-15
JP5985556B2 true JP5985556B2 (ja) 2016-09-06

Family

ID=41055799

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010501801A Active JP5641926B2 (ja) 2008-03-04 2009-03-04 水系分散液とそれを用いた塗料
JP2014168127A Active JP5985556B2 (ja) 2008-03-04 2014-08-21 水系分散液を用いた膜の製造方法

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010501801A Active JP5641926B2 (ja) 2008-03-04 2009-03-04 水系分散液とそれを用いた塗料

Country Status (4)

Country Link
US (3) US8273169B2 (ja)
JP (2) JP5641926B2 (ja)
TW (1) TWI393673B (ja)
WO (1) WO2009110234A1 (ja)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011050802A (ja) * 2009-01-27 2011-03-17 Sumitomo Chemical Co Ltd 貴金属担持光触媒体粒子分散液の製造方法
JP5343697B2 (ja) * 2009-05-15 2013-11-13 住友金属鉱山株式会社 複合タングステン酸化物超微粒子の製造方法
JP5441255B2 (ja) * 2009-10-28 2014-03-12 東芝マテリアル株式会社 繊維表面への光触媒粒子の固着方法
JP2012016679A (ja) * 2010-07-09 2012-01-26 Showa Denko Kk 銅イオンで修飾された酸化タングステン系光触媒の分散液の製造方法
JP5209009B2 (ja) * 2010-09-13 2013-06-12 株式会社東芝 光触媒体、および光触媒分散体
US9533284B2 (en) * 2011-02-16 2017-01-03 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Visible-light-responsive photocatalyst with environmental resistance
AR085378A1 (es) * 2011-02-23 2013-09-25 Omya Development Ag Composicon para recubrimiento que comprende particulas que comprenden carbonato de calcio submicron, proceso para preparar la misma y uso de particulas que comprenden carbonato de calcio submicron en composiciones para recubrimiento
EP2771920B1 (en) 2011-10-28 2016-08-24 nanograde AG Solution-processable tungsten oxide buffer layers and organic electronics comprising same
EP2631008A1 (en) 2012-02-22 2013-08-28 nanograde AG Solution-processable tungsten oxide buffer layers and electronics comprising same
CN106238036B (zh) * 2012-06-01 2019-11-12 株式会社东芝 水系分散液、使用水系分散液的涂料、光催化膜及制品
JP5608763B2 (ja) * 2013-01-10 2014-10-15 株式会社東芝 光触媒体の製造方法
JP6356661B2 (ja) * 2013-03-12 2018-07-11 株式会社東芝 光触媒体とそれを用いた光触媒分散液、光触媒塗料、光触媒膜および製品
US11039620B2 (en) 2014-02-19 2021-06-22 Corning Incorporated Antimicrobial glass compositions, glasses and polymeric articles incorporating the same
US9622483B2 (en) 2014-02-19 2017-04-18 Corning Incorporated Antimicrobial glass compositions, glasses and polymeric articles incorporating the same
US11039621B2 (en) 2014-02-19 2021-06-22 Corning Incorporated Antimicrobial glass compositions, glasses and polymeric articles incorporating the same
RU2017105824A (ru) * 2014-07-25 2018-08-27 Сучжоу Ханс Энерджи Сторидж Текнолоджи Ко., Лтд. Применения вольфрамсодержащего материала
EP3302796B1 (en) * 2015-05-29 2021-12-01 Nitto Denko Corporation Use of a photocatalytic composition in the removal of trimethylamine
TWI628212B (zh) * 2017-01-05 2018-07-01 黃宗之 漿料及其製備方法、食品包裝材料及其製備方法,及食品包裝構件
JP2020037084A (ja) * 2018-09-05 2020-03-12 富士ゼロックス株式会社 フィルター
US20210380433A1 (en) * 2018-09-27 2021-12-09 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Infrared absorbing material fine particle dispersion liquid and producing method thereof
JP6765730B2 (ja) * 2019-03-13 2020-10-07 株式会社サンワード商会 水性組成物および粉体組成物
JP6755598B1 (ja) * 2019-06-21 2020-09-16 久保井塗装株式会社 抗菌塗装物、抗菌塗料、抗菌塗料の製造法及び抗菌塗装物の製造法
EP4299528A1 (en) * 2021-02-24 2024-01-03 Kabushiki Kaisha Toshiba Tungsten oxide powder slurry, method for producing same, and method for producing electrochromic element using same

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH062223B2 (ja) * 1989-11-07 1994-01-12 日産化学工業株式会社 酸化タングステン一酸化スズ複合ゾル及びその製造法
US5094691A (en) * 1989-11-07 1992-03-10 Nissan Chemical Industries, Ltd. Tungstic oxide-stannic oxide composite sol and method of preparing the same
US5188667A (en) * 1989-11-07 1993-02-23 Nissan Chemical Industries, Ltd. Tungstic oxide-stannic oxide composite sol and method of preparing the same
DE69511050T2 (de) 1994-11-30 2000-02-24 Sumitomo Chemical Co Verfahren zur Herstellung von Doppelmetalloxidpulvern
JP3800651B2 (ja) * 1994-11-30 2006-07-26 住友化学株式会社 複合金属酸化物粉末の製造方法
US5593737A (en) * 1995-05-23 1997-01-14 United Technologies Corporation Photocatalytic semiconductor coating process
JP3712561B2 (ja) * 1999-03-30 2005-11-02 Hoya株式会社 硬化被膜を有する光学部材
JP4247585B2 (ja) * 1999-03-30 2009-04-02 日産化学工業株式会社 変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合ゾル及びその製造法
JP2001152130A (ja) 1999-11-25 2001-06-05 Toto Ltd 光触媒性親水性部材、および、その製造方法
JP2002212464A (ja) * 2001-01-19 2002-07-31 Kawasaki Heavy Ind Ltd 光触媒クリーム及び塗布方法
JP3899237B2 (ja) 2001-03-30 2007-03-28 株式会社アライドマテリアル 微粒タングステン酸化物とその製造方法
FR2831467B1 (fr) * 2001-10-29 2003-12-19 Sicat Photocatalyseur et procede de purification d'effluents gazeux par photocatalyse d'oxydation
JP4507066B2 (ja) * 2004-02-18 2010-07-21 多木化学株式会社 酸化タングステン含有酸化チタンゾル及びその製造方法並びにコーティング剤及び光機能体
JP4794869B2 (ja) 2004-09-07 2011-10-19 株式会社日清製粉グループ本社 微粒子の製造方法
US7828999B2 (en) 2004-09-07 2010-11-09 Nisshin Seifun Group Inc. Process and apparatus for producing fine particles
JP4883912B2 (ja) * 2005-01-18 2012-02-22 株式会社日本触媒 可視光応答型光触媒およびその製造方法
TW200706247A (en) * 2005-02-15 2007-02-16 Mitsui Chemicals Inc Photo catalyst with a silicon oxide coverage and manufacturing method therefor
JP5168469B2 (ja) * 2005-08-09 2013-03-21 日産化学工業株式会社 酸化ジルコニウム−酸化スズ複合体ゾル、コーティング組成物及び光学部材
JP2008006429A (ja) * 2006-02-01 2008-01-17 Toshiba Lighting & Technology Corp 光触媒材料、光触媒体、光触媒製品、照明器具及び光触媒材料の製造方法
JP5374747B2 (ja) * 2006-02-01 2013-12-25 東芝マテリアル株式会社 光触媒材料およびそれを用いた光触媒組成物並びに光触媒製品
TW200732036A (en) 2006-02-01 2007-09-01 Toshiba Lighting & Technology Photocatalysis material, photocatalysis body, photocatalysis product, luminaire and manufacturing method thereof
JP5209857B2 (ja) * 2006-07-14 2013-06-12 Hoya株式会社 コーティング組成物の製造方法
JP4996152B2 (ja) * 2006-07-14 2012-08-08 Hoya株式会社 プラスチックレンズの製造方法
WO2008117655A1 (ja) * 2007-03-23 2008-10-02 Kabushiki Kaisha Toshiba 光触媒用三酸化タングステン粉末の製造方法、光触媒用三酸化タングステン粉末および光触媒製品
JP4772818B2 (ja) * 2007-03-30 2011-09-14 国立大学法人北海道大学 酸化タングステン光触媒体
JP4730400B2 (ja) * 2007-10-09 2011-07-20 住友化学株式会社 光触媒体分散液

Also Published As

Publication number Publication date
US20110212832A1 (en) 2011-09-01
JP2015006987A (ja) 2015-01-15
TWI393673B (zh) 2013-04-21
JP5641926B2 (ja) 2014-12-17
TW201000405A (en) 2010-01-01
WO2009110234A1 (ja) 2009-09-11
US8702858B2 (en) 2014-04-22
US20120316056A1 (en) 2012-12-13
US9321034B2 (en) 2016-04-26
US8273169B2 (en) 2012-09-25
US20140187412A1 (en) 2014-07-03
JPWO2009110234A1 (ja) 2011-07-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5985556B2 (ja) 水系分散液を用いた膜の製造方法
JP6503116B2 (ja) 光触媒部材
JP6092435B2 (ja) 水系分散液とそれを用いた塗料、および光触媒膜の製造方法
JP5981483B2 (ja) 親水性部材の製造方法
JP5818943B2 (ja) 室内用建材

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20150528

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150707

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150907

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20160223

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160518

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20160530

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160705

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20160803

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5985556

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150