JP5975926B2 - 半導体チップの実装方法 - Google Patents
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Description
半導体チップ(例えば、後述の実施形態における半導体チップ10)と、ビームリード(例えば、後述の実施形態におけるビームリード20)とを半田接合する半導体チップの実装方法であって、
前記半導体チップの表面(例えば、後述の実施形態における表面11)には、エミッタ電極(例えば、後述の実施形態におけるエミッタ電極12)と、制御信号を入力するゲート端子(例えば、後述の実施形態におけるゲート端子14)と、該ゲート端子と接続される複数のゲート配線(例えば、後述の実施形態におけるゲート配線16)と、該複数のゲート配線とそれぞれ接続され、金属材料からなる通電部及び該通電部を覆う絶縁部材をそれぞれ備える複数のメタルゲート配線(例えば、後述の実施形態におけるメタルゲート配線13)と、が設けられており、
前記複数のメタルゲート配線は、前記エミッタ電極が設けられた領域(例えば、後述の実施形態における領域A)内で、該領域が独立した複数の領域に区切られないようにそれぞれ配置され、
前記エミッタ電極が設けられた領域のうち、前記メタルゲート配線が配置されていない非配線領域(例えば、後述の実施形態における非配線領域15)に棒状半田(例えば、後述の実施形態における棒状半田30)を配置してリフローさせることで、前記半導体チップと前記ビームリードとを接合することを特徴とする。
前記半導体チップは、略矩形形状を有して、その一端(例えば、後述の実施形態における一端10a)側に前記ゲート端子を備え、
前記複数のメタルゲート配線は、前記一端側から中央部付近まで少なくとも延設され、
前記棒状半田は、前記複数のメタルゲート配線に対して他端(例えば、後述の実施形態における他端10b)側に配置されることを特徴とする。
前記複数のメタルゲート配線は、互いに平行に配置され、
前記ビームリードは、前記棒状半田が配置される部分を切欠いて(例えば、後述の実施形態における切欠き部21)設けられており、且つ、前記複数のメタルゲート配線間の最大距離(例えば、後述の実施形態における最大距離D)よりも大きい幅(例えば、後述の実施形態における幅W)を有することを特徴とする。
前記複数のメタルゲート配線間の幅(例えば、後述の実施形態における幅B)は、前記半導体チップと前記ビームリードとの間を流動する半田が、前記メタルゲート配線間を前記メタルゲート配線の長さだけ流動するのに必要な所定の最小幅より大きく設定されていることを特徴とする。
前記メタルゲート配線の長さ(例えば、後述の実施形態における長さL)は、前記半導体チップと前記ビームリードとの間を流動する半田の流動可能距離より短く設定されていることを特徴とする。
10a 一端
10b 他端
11 表面
12 エミッタ電極
13 メタルゲート配線
14 ゲート端子
15 非配線領域
16 ゲート配線
20 ビームリード
21 切欠き部
30 棒状半田
31 半田
B メタルゲート配線の間隔
D メタルゲート配線間の最大距離
L メタルゲート配線の長さ
W ビームリードの幅
Claims (5)
- 半導体チップと、ビームリードとを半田接合する半導体チップの実装方法であって、
前記半導体チップの表面には、エミッタ電極と、制御信号を入力するゲート端子と、該ゲート端子と接続される複数のゲート配線と、該複数のゲート配線とそれぞれ接続され、金属材料からなる通電部及び該通電部を覆う絶縁部材をそれぞれ備える複数のメタルゲート配線と、が設けられており、
前記複数のメタルゲート配線は、前記エミッタ電極が設けられた領域内で、該領域が独立した複数の領域に区切られないようにそれぞれ配置され、
前記エミッタ電極が設けられた領域のうち、前記メタルゲート配線が配置されていない非配線領域に棒状半田を配置してリフローさせることで、前記半導体チップと前記ビームリードとを接合することを特徴とする半導体チップの実装方法。 - 前記半導体チップは、略矩形形状を有して、その一端側に前記ゲート端子を備え、
前記複数のメタルゲート配線は、前記一端側から中央部付近まで少なくとも延設され、
前記棒状半田は、前記複数のメタルゲート配線に対して他端側に配置されることを特徴とする請求項1に記載の半導体チップの実装方法。 - 前記複数のメタルゲート配線は、互いに平行に配置され、
前記ビームリードは、前記棒状半田が配置される部分を切欠いて設けられており、且つ、前記複数のメタルゲート配線間の最大距離よりも大きい幅を有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体チップの実装方法。 - 前記複数のメタルゲート配線間の幅は、前記半導体チップと前記ビームリードとの間を流動する半田が、前記メタルゲート配線間を前記メタルゲート配線の長さだけ流動するのに必要な所定の最小幅より大きく設定されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体チップの実装方法。
- 前記メタルゲート配線の長さは、前記半導体チップと前記ビームリードとの間を流動する半田の流動可能距離より短く設定されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の半導体チップの実装方法。
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JP2013074748A JP5975926B2 (ja) | 2013-03-29 | 2013-03-29 | 半導体チップの実装方法 |
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EP2546869A4 (en) * | 2010-12-03 | 2017-01-25 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor device, and process for manufacture of semiconductor device |
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- 2013-03-29 JP JP2013074748A patent/JP5975926B2/ja active Active
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JP2014199868A (ja) | 2014-10-23 |
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