JP5958567B2 - ハニカム構造体 - Google Patents

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Description

本発明は、径方向における中心部から外周部に向かってセル密度が連続的又は段階的に低くなるセル密度分布を有するハニカム構造体に関する。
自動車等の内燃機関の排ガスを浄化するための触媒装置としては、排気管の内側にハニカム構造体を配置した装置が知られている。ハニカム構造体は、一般に、格子状に設けられたセル壁と、セル壁に囲まれて形成された複数のセルとを有する。高温の排ガスがハニカム構造体のセル内に流されることにより、ハニカム構造体に担持された触媒が活性化され、排ガスの浄化が行われる。排気管内においては、ハニカム構造体の径方向における中心側への排ガスの流量が多くなり、外側への排ガスの流量が少なくなる傾向にある。そのため、排ガスの流速は、中心側においては高くなり、外側に向かうにつれて低くなる。即ち、ハニカム構造体内において、排ガスの流速にバラツキが生じる。その結果、排ガスの浄化効率が不十分になるという問題がある。
そこで、中心から外側に向かって又は外側から中心に向かってセル隔が凸状に湾曲した形状のハニカム構造体が開発されている(特許文献1参照)。かかる構成のハニカム構造体においては、セル密度が連続的に変化する。そして、例えば中央部のセル密度を外周部のセル密度よりも高くすることができる。その結果、ハニカム構造体内を流れる排ガスの流速の均一化を図ることが可能になる。
特開2006−263947号公報
しかしながら、ハニカム構造体内に流入する排ガスの流速は、スロットルの開度等の運転条件により変化する。そのため、従来のハニカム構造体においては、必ずしも流速の均一化効果が得られない場合がある。具体的には、例えばスロットルの開度が大きく、全体の排ガス流量が多い場合には、ハニカム構造体内における排ガスの流速分布が均一化される。しかし、例えばスロットルの開度が小さく、全体の排ガス流量が少ない場合には、水力直径が大きなセル内へ排ガスの流入が集中する。また、スロットルの開度が小さく、排ガス流量が少ない場合には、排ガスの温度が低くなる。そのため、排ガスによってハニカム構造体が冷却されてしまう。このとき、排ガスの流入が集中する水力直径の大きなセル内に担持された触媒が失活し易くなる。したがって、低負荷走行後の急加速や一時停車後の発進のような場面において排ガスの浄化性能が低下するという問題が生じる。また、ハニカム構造体内の位置ごとの温度差が大きくなるため熱応力が発生し、ハニカム構造体にクラックが発生し、ハニカム構造体が破損するという問題がある。
本発明は、かかる背景に鑑みてなされたものであり、運転条件による排ガス浄化性能のバラツキを小さくすることが可能なハニカム構造体を提供しようとするものである。
本発明の一態様は、格子状に設けられたセル壁と、該セル壁に囲まれて形成された複数のセルとを有するハニカム構造体であって、
該ハニカム構造体は、径方向における中心部から外周部に向かってセル密度が連続的又は段階的に小さくなるセル密度分布を有し、
上記ハニカム構造体は、軸方向に波状に延びる波形セル壁と、上記軸方向に平坦状に延びる平坦セル壁とを有し、
上記波形セル壁は、最大セル密度に対するセル密度の比であるセル密度比が0.85以下の領域に存在し、
上記波形セル壁の存在領域よりも上記中心部側に存在する上記セル壁は、上記平坦セル壁であることを特徴とするハニカム構造体にある。
上記ハニカム構造体は、中心部から外周部に向かって径方向にセル密度が連続的又は段階的に小さくなるセル密度分布を有する。そのため、例えばスロットルの開度が大きく、全体の排ガス流量が多い場合には、ハニカム構造体内の流速分布が均一化される。その結果、排ガス流量が多い場合における排ガスの浄化性能のバラツキが緩和される。
一方、例えばスロットルの開度が小さく、全体の排ガス流量が低い場合には、セル密度の小さい領域のセル内に排ガスの流入が集中する。上記ハニカム構造体においては、上記所定のセル密度比を満足するセル密度の小さい領域、即ち、径方向における中心部よりも外側の領域に波形セル壁が存在する。波形セル壁においては熱容量が大きくなっているため、排ガスの温度が低くなっても、ハニカム構造体の温度低下が抑制される。かかる観点から、排ガスの浄化性能の低下が抑制される。また、ハニカム構造体内の位置ごとの温度差を小さくすることができ、熱応力によってハニカム構造体にクラックが発生することを防止できる。
また、上記波形セル壁の存在領域よりも中心部側に存在するセル壁は、軸方向に平坦状に延びる平坦セル壁である。そのため、中心部側にまで波形セルを有する場合に比べて、ハニカム構造体の熱容量の増加が緩和される。それ故、例えばエンジンの始動直後においても、速やかにハニカム構造体の温度を上昇させることが可能になる。かかる観点からも、排ガスの浄化性能の低下が抑制される。さらに、上記のごとくセル密度の高い中心部側に平坦セル壁があるため、ハニカム構造体の圧力損失の増大が抑制される。
このように、上記ハニカム構造体は、運転条件による排ガス浄化性能のバラツキを小さくすることができる。したがって、走行モード全体での排ガスエミッションを低減することができる。
実施例1におけるハニカム構造体を示す斜視図。 実施例1におけるハニカム構造体の軸方向に直交する断面を部分的に示す説明図。 実施例1における試料E1のハニカム構造体の軸方向における断面を模式的に示す説明図。 実施例1における、ハニカム構造体の中心からの距離と、セル密度と、セル密度比との関係を示す説明図。 実施例1における、試料E1のハニカム構造体における軸方向に延びるセル壁の光学顕微鏡写真。 実施例1及び実施例2における各ハニカム構造体(試料E1〜試料E6及び試料C1〜試料C6)の軸方向における断面を模式的に示す説明図。 実施例2におけるハニカム構造体の軸方向に直交する断面を部分的に示す説明図。 実施例2における、ハニカム構造体の中心からの距離と、セル密度と、セル密度比との関係を示す説明図。 実験例1における、ハニカム構造体を備えた触媒コンバータを示す説明図。 実験例1における、各ハニカム構造体の径方向における中心からの距離と、高流速の排ガスの流速比との関係を示す説明図。 実験例1における、各ハニカム構造体の径方向における中心からの距離と、低流速の排ガスの流速比との関係を示す説明図。 実験例2における、波形セルの存在領域と、エミッション比又は圧力損失比との関係を示す説明図。
次に、ハニカム構造体の好ましい実施形態について説明する。
ハニカム構造体において、セル密度は、単位面積当たりのセルの個数で表される。具体的には、セルを囲むセル壁の中間線(セル壁の厚み方向の中間位置を結んだ線)を結んで形成される部分の面積を単位セルの面積とすると、単位面積当たりのセルの個数が求められる。このセルの個数がセル密度である。
ハニカム構造体においては、径方向における中心部から外周部に向かってセル密度が連続的又は段階的に小さくなる。「セル密度が連続的に小さくなる」とは、例えば、中心部から外周部に向かって径方向に隣り合うセルのセル密度が連続的に小さくなる構成等である。また、「セル密度が段階的に小さくなる」とは、例えば、中心部から外周部に向かって径方向にセル密度が小さくなるまでの間にセル密度が同じセルが複数並んでいる構成等である。セル密度を連続的又は段階的に小さくする具体的な手段としては、例えば、隣り合うセル同士の間隔(セルピッチ)を小さくする方法がある。また、セルの形状を変化させる方法等もある。また、本発明の上述の作用効果を損ねない範囲において、セル密度の分布のうち最もセル密度が高い点が、ハニカム構造体断面の中心部から若干ずれる構成となっていてもよい。
ハニカム構造体は、全体が一体成形されて構成されていてもよい。また、ハニカム構造体は、複数のセグメントが接合されて構成されていてもよい。好ましくは、ハニカム構造体は一体成形されていることがよい。この場合には、複数のセグメントを接合したときに形成される接合部分を回避できる。そのため、ハニカム構造体の圧力損失の低減が可能になる。
波形セル壁は、ハニカム構造体の軸方向における全長L1に対する、軸方向に波状に延びるセル壁の実際の長さL2との比(L2/L1)が1.02以上となるセル壁である。一方、平坦セル壁は、上述のL2/L1が1.02未満となるセル壁である。波形セル壁は、軸方向に延びるセル壁の全体が波状であってもよいし、セル壁の少なくとも一部が波状であってもよい。即ち、軸方向に延びるセル壁が上述のようにL2/L1≧1.02という関係を満足すれば当該セル壁は波形セル壁である。なお、排ガスとの接触面積をより高めて排ガス浄化性能をより向上させるという観点、及び熱容量をより大きくして低温の排ガスによる触媒活性の低下を抑制するという観点から、波形セル壁は、L2/L1≧1.05であることがより好ましい。
波形セル壁は、上述のごとく最大セル密度に対するセル密度の比であるセル密度比が0.85以下の領域に存在する。波形セル壁は、セル密度比が0.8以下の領域に存在することが好ましい。この場合には、運転条件による排ガス浄化性能のバラツキを小さくし、走行モード全体での排ガスエミッションを低減できるという上述の作用効果に加えて、さらに外力に対する強度が高く、信頼性により優れたハニカム構造体が得られるという効果を得ることができる。
ハニカム構造体は、例えば、触媒によって排ガスを浄化する触媒コンバータ等に用いられる。この場合には、ハニカム構造体は、例えばセル壁の表面等に排ガス浄化用の触媒を担持した状態で使用される。また、ハニカム構造体の気孔率は、例えば10〜70%とすることができる。また、ハニカム構造体の平均細孔径は、例えば2μm以上とすることができる。また、セル壁の厚みは、例えば40〜160μmとすることができる。
(実施例1)
次に、実施例としての複数のハニカム構造体(試料E1〜E3)、及び比較例としての複数のハニカム構造体(試料C1〜C3)について、図面を用いて説明する。まず、試料E1のハニカム構造体1について説明する。
図1及び図2に示すごとく、試料E1のハニカム構造体1は、格子状に設けられたセル壁11と、セル壁11に囲まれて形成された複数のセル12とを有する。ハニカム構造体1は、径方向Yにおける中心部10から外周部13に向かってセル密度が連続的又は段階的に小さくなるセル密度分布を有する。図3に示すごとく、ハニカム構造体1は、軸方向Xに波状に延びる波形セル壁111と、軸方向Xに平坦状に延びる平坦セル壁112とを有する。波形セル壁111は、セル密度比が0.85以下の領域に存在する。セル密度比は、最大セル密度に対するセル密度の比である。波形セル壁111の存在領域よりも中心部10側に存在するセル壁11は、平坦セル壁112である。以下、本例のハニカム構造体1を詳細に説明する。
図1に示すごとく、ハニカム構造体1は、排ガス浄化用の触媒の担体として用いられ、六角形格子状に設けられたセル壁11と、そのセル壁11に囲まれて形成された六角形状の複数のセル12とを有する。また、ハニカム構造体1は、円筒状の外周壁14を有し、外周壁14の内側にセル壁11及びセル12を有している。ハニカム構造体1は、コージェライト製である。また、ハニカム構造体1の寸法は、外径が103mm、長さが105mmである。ハニカム構造体1は、その全体が一体的に成形された構造を有している。なお、ハニカム構造体1において、セル12を四角形状とすることもできる。この場合には、セル壁11も四角形格子状となる。セル12は丸形状、多角形状等にすることができ、セル壁11は丸型格子状、多角形格子状にすることができる。
図2に示すごとく、ハニカム構造体1においては、径方向Yにおける中心部10から外周部13に向かってセル密度が小さくなっている。本例のハニカム構造体1の中心10からの距離(mm)とセル密度(cells/m2)とセル密度比との関係を図4に示す。なお、図4中のセル密度の単位「cells/m2」は、1平方メートル当たりのセルの個数を表す。図2及び図4に示すように、本例のハニカム構造体1は、径方向Yにおける中心10からの距離が17mmの位置まではセル密度が変化せず、その位置からは外周部13に向かってセル密度が連続的に小さくなるセル密度分布を有している。
図3に示すごとく、ハニカム構造体1は、軸方向Xに波状に延びる波形セル壁111と、軸方向Xに平坦状に延びる平坦セル壁112とを有する。波形セル壁111は、ハニカム構造体1の軸方向Xにおける全長L1に対する、軸方向Xに波状に延びる波状セル壁111の実際の長さL2との比(L2/L1)が1.02以上となるセル壁11である(図3及び図5参照)。一方、平坦セル壁112は、L2/L1が1.02未満となるセル壁11である。図5は、波形セル壁111の一例を示す光学顕微鏡写真(SEM写真)であり、上述の波状セル壁111の実際の長さL2を曲線により示している。L1は、ノギス等の測定器により、ハニカム構造体1の軸方向Xにおける両端面間の距離を測定することにより求められる。L2は、光学顕微鏡、走査電子顕微鏡(SEM)、非接触式の形状測定機等を用いて、軸方向に延びるセル壁の実際の長さを測定することにより求められる。
図3に示すように、ハニカム構造体1の径方向Yの外側(外周部13側)に位置するセル壁11が波形セル壁111であり、内側(中心部10側)に位置するセル壁11が平坦セル壁112である。ハニカム構造体1において、波形セル壁111は、径方向Yの外側に向けてセル密度が小さくなるセル12のうち、セル密度比が0.85以下のセル12の壁11に形成されている(図3参照)。ハニカム構造体1においては、上述のように径方向Yにおける中心10から外周部13に向けてセル密度が小さくなるため、中心領域のセル密度が最大セル密度となる。
ハニカム構造体1においては、セル密度比が0.85以下となる領域に存在するセル壁11の全てが、L2/L1≧1.02の関係を満足する波形セル壁111である。一方、セル密度比が0.85を超える領域に存在するセル壁11は、全て平坦セル壁112である。換言すれば、波形セル壁111の存在領域よりも中心部10側に存在するセル壁11は、平坦セル壁112である。
波形セル壁111は、全長が波形であってもよいが、一部が波形であってもよい。また、波形セル壁111の波の高さは任意の値をとることができる。即ち、軸方向Xに延びるセル壁11が上述のようにL2/L1≧1.02という関係を満足すれば、このセル壁11は波形セル壁111である(図3及び図5参照)。なお、排ガスとの接触面積をより高めるという観点から波形セル壁111は、L2/L1≧1.05を満足することがより好ましい。
ハニカム構造体1は、次の製造方法によって作製された。
まず、例えばカオリン、溶融シリカ、水酸化アルミニウム、アルミナ、タルク、カーボン粒子等の原料粉末が混合される。これらの原料粉末は、最終的な化学組成が重量比にてSiO2:45〜55%、Al23:33〜42%、MgO:12〜18%となるコージェライトの組成となるように混合される。この原料粉末に、水、バインダ等を所定量添加し、混錬することにより、セラミックス原料が得られる。
次いで、押出成形型を用いてセラミックス原料がハニカム状に押出成形されることにより、ハニカム成形体が得られる。このとき、セル壁の形状に対応する形状のスリット溝を有する押出成形型を用いて押出成形が行われる。そして、マイクロ波によりハニカム成形体が乾燥され、所望の長さに切断される。その後、ハニカム成形体が所定の最高温度(例えば、1390〜1430℃)で焼成される。これにより、図1〜図3に示すごとく、ハニカム構造体1が得られる。上述の波形セル壁111は、押出成形時のセラミックス原料の流速を速くすることにより形成される。したがって、波形セル壁111を形成する領域において、原料の流速を部分的に高くすることにより、上述の所望の領域に波形セル壁111が形成される。ハニカム構造体1の軸方向Xにおける全長L1に対する、軸方向Xに延びる波形セル壁111の実際の長さL2との比についても、原料の流速を調整することにより、適宜制御することが可能である。波形セル壁111を形成するために原料の流速を部分的に高くする方法としては、ハニカム構造体1の製造工程で使用される押出成形型の流路幅や長さを部分的に変化させておくことにより、流路抵抗を低減し原料流速を速くする方法がある。または、押出成形型の一部領域を予め流体研磨しておくことにより、壁面粗度を低減し流路抵抗を低減し、原料流速を速くする方法がある。いずれの方法によっても、目的とする波形セル壁を所望の領域に形成することができる。
次に、試料E2のハニカム構造体1について説明する。図6(b)には、試料E2のハニカム構造体1における波形セル壁111と平坦セル壁112との位置関係が示されている。試料E2においては、試料E1に比べて径方向Yのより外側の領域において波形セル111が形成されている(図6(a)及び図6(b)参照)。具体的には、図6(b)に示すごとく、試料E2においては、波形セル壁111は、径方向Yにおける中心部10から外周部13に向けてセル密度が小さくなるセル12のうち、セル密度比が0.80以下のセル12の壁11に形成されている。一方、セル密度比が0.80を超える領域に存在するセル壁11は、全て平坦セル壁112である。試料E2におけるその他の構成は、試料E1と同様である。
次に、試料E3のハニカム構造体1について説明する。図6(c)には、試料E3のハニカム構造体11おける波形セル壁111と平坦セル壁112との位置関係が示されている。試料E3においては、試料E1及び試料E2に比べて径方向Yのさらに外側の領域において波形セル111が形成されている(図6(a)〜(c)参照)。具体的には、図6(c)に示すごとく、ハニカム構造体1においては、波形セル壁111は、径方向Yにおける中心部10から外周部13に向けてセル密度が小さくなるセル12のうち、セル密度比が0.70以下のセル12の壁11に形成されている。一方、セル密度比が0.70を超える領域に存在するセル壁11は、全て平坦セル壁112である。試料E3におけるその他の構成は、試料E1と同様である。
なお、図6及び先述の図3は、ハニカム構造体における波形セルの位置を模式的に表すイメージ図であり、セル密度分布等は正確には表記されていない。また、図6(b)及び図6(c)にそれぞれ示された試料E2及び試料E3の比較用として、図6(a)に、上述の試料E1のハニカム構造体1における波形セル壁111と平坦セル壁112との位置関係を示してある。
次に、試料C1のハニカム構造体7について説明する。図6(d)は、試料C1のハニカム構造体7において、軸方向Xに延びるセル壁71の形状を示している。同図に示すように、試料C1においては、セル壁71は全て平坦状である。試料C1におけるその他の構成は、試料E1と同様である。即ち、試料C1は、波形セル壁を有しておらず、セル壁71の全てが平坦セル壁からなる点を除いては、試料E1と同様である。
次に、試料C2のハニカム構造体8について説明する。図6(e)は、試料C2のハニカム構造体8における波形セル壁811と平坦セル壁812との位置関係を示している。試料C2においては、試料E1〜3に比べて径方向Yの内側の領域にまで波形セル811が形成されている(図6(a)〜(c)、図6(e)参照)。具体的には、図6(e)に示すごとく、試料C2においては、波形セル壁811は、径方向Yの外側に向けてセル密度が小さくなるセル82のうち、セル密度比が0.95以下のセル82の壁81に形成されている。一方、セル密度比が0.95を超える領域に存在するセル壁81は、全て平坦セル壁812である。試料C2におけるその他の構成は、試料E1と同様である。
次に、試料C3のハニカム構造体8について説明する。図6(f)は、試料C3のハニカム構造体8における波形セル壁811と平坦セル壁812との位置関係を示している。試料C3においても、試料C2と同様に、試料E1〜3に比べて径方向Yの内側の領域にまで波形セル811が形成されている(図6(a)〜(c)、図6(f)参照)。具体的には、図6(f)に示すごとく、試料C3においては、波形セル壁811は、径方向Yの外側に向けてセル密度が小さくなるセル82のうち、セル密度比が0.90以下のセル82の壁81に形成されている。一方、セル密度比が0.90を超える領域に存在するセル壁81は、全て平坦セル壁812である。試料C3におけるその他の構成は、試料E1と同様である。
次に、実施例におけるハニカム構造体1(試料E1〜E3)の作用効果について説明する。
試料E1〜E3のハニカム構造体1は、図1、図2、及び図4に示すごとく、中心部10から外周部13に向かって径方向Yにセル密度が連続的又は段階的に小さくなるセル密度分布を有する。そのため、例えばスロットルの開度が大きく、全体の排ガス流量が多い場合には、ハニカム構造体1内の流速分布が均一化される。その結果、排ガス流量が多い場合における排ガスの浄化性能のバラツキを小さくすることができる。
一方、例えばスロットルの開度が小さく、全体の流量が低い場合には、セル密度の小さい領域のセル12内に排ガスの流入が集中する。試料E1〜E3のハニカム構造体1においては、上記所定セル密度比を満足するセル密度の小さい領域、即ち、径方向Yにおける中心部10よりも外側の領域に波形セル壁111が存在する(図3及び図6参照)。そのため、例えば試料C1に比べて、排ガスの流入が集中するセル密度の小さい領域において、排ガスとセル壁11との接触面積が増大する。それ故、排ガスの浄化性能の低下が抑制される。また、波形セル壁111においては熱容量が大きくなっているため、排ガスの温度が低くなっても、ハニカム構造体1の温度低下が抑制される。かかる観点からも、排ガスの浄化性能の低下が抑制される。
また、波形セル壁111の存在領域よりも中心部10側に存在するセル壁11は、軸方向Xに平坦状に延びる平坦セル壁112である(図6参照)。そのため、より中心部10側にまで波形セル111を有する試料C2及び試料C3のハニカム構造体8に比べると、試料E1〜試料E3のハニカム構造体1においては、熱容量の増加が緩和される。それ故、例えばエンジンの始動直後においても、速やかにハニカム構造体1の温度を上昇させることが可能になる。かかる観点からも、排ガスの浄化性能の低下が抑制される。さらに、上記のごとく、中心部10側に平坦セル壁112があるため、ハニカム構造体1の圧力損失の増大が抑制される。
このように、実施例にかかるハニカム構造体1は、運転条件による排ガス浄化性能のバラツキを小さくすることができる。
(実施例2)
次に、実施例1とはセル密度分布を変更したハニカム構造体の例について説明する。本例においては、実施例にかかるハニカム構造体(試料E4〜試料E6)、比較例にかかるハニカム構造体(試料C4〜試料C6)について説明する。
図7に示すごとく、実施例にかかるハニカム構造体1(試料E4〜E6)は、実施例1と同様に、径方向Yにおける中心部10から外周部13に向かってセル密度が小さくなっている。しかし、本例においては、セル密度の変化パターンが実施例1とは異なる。本例のハニカム構造体1の中心10からの距離(mm)とセル密度(cells/m2)とセル密度比との関係を図8に示す。図7及び図8に示すように、本例のハニカム構造体1においては、径方向Yにおける中心10からの距離が17mmの位置まではセル密度が変化せず、その位置からは外周部13に向かって距離が40mmの位置までセル密度が連続的に小さくなり、さらにその位置から外周部13まではセル密度が変化しない。セル密度分布を除く他の構成は、実施例1と同様である。なお、図示は省略するが、比較例にかかる試料C4〜試料C6のハニカム構造体のセル密度分布も試料E4〜試料E6と同様である。以下に、本例の各試料について説明する。
試料E4のハニカム構造体1においては、実施例1における試料E1と同様に、セル密度比が0.85以下である領域に存在するセル壁11の全てが波形セル壁111であり、セル密度比が0.85を超える領域に存在するセル壁11は、全て平坦セル壁112である。試料E4のハニカム構造体1における波形セル壁111と平坦セル壁112との位置関係は、試料E1と同様であり、図6(a)が参照される。
試料E5のハニカム構造体1においては、実施例1における試料E2と同様に、セル密度比が0.80以下である領域に存在するセル壁11の全てが波形セル壁111であり、セル密度比が0.80を超える領域に存在するセル壁11は、全て平坦セル壁112である(図示略)。試料E5のハニカム構造体1における波形セル壁111と平坦セル壁112との位置関係は、試料E2と同様であり、図6(b)が参照される。
試料E6のハニカム構造体1においては、実施例1における試料E3と同様に、セル密度比が0.70以下である領域に存在するセル壁11の全てが波形セル壁111であり、セル密度比が0.70を超える領域に存在するセル壁11は、全て平坦セル壁112である(図示略)。試料E6のハニカム構造体1における波形セル壁111と平坦セル壁112との位置関係は、試料E3と同様であり、図6(c)が参照される。
試料C4のハニカム構造体7は、波状セル壁を有しておらず、セル壁71の全てが平坦状である。試料C4における軸方向Xに延びるセル壁の形状は、実施例1における試料C1と同様であり、図6(d)が参照される。
試料C5のハニカム構造体8においては、実施例1における試料C2と同様に、セル密度比が0.95以下である領域に存在するセル壁81の全てが波状セル壁811であり、セル密度比が0.95を超える領域に存在するセル壁81は、全て平坦セル壁812である(図示略)。試料C5における波形セル壁811と平坦セル壁812との位置関係は、試料C2と同様であり、図6(e)が参照される。
試料C6のハニカム構造体8においては、実施例1における試料C3と同様に、セル密度比が0.90以下である領域に存在するセル壁81の全てが波状セル壁811であり、セル密度比が0.90を超える領域に存在するセル壁81は、全て平坦セル壁812である(図示略)。試料C6における波形セル壁811と平坦セル壁812との位置関係は、試料C3と同様であり、図6(f)が参照される。
なお、本例のハニカム構造体において、実施例1と同じ符号は、実施例1と同一の構成を示し、先行する説明を参照する。本例における試料E4〜試料E6のハニカム構造体1は、試料C4〜試料C6との比較において、実施例1と同様の作用効果を奏する。
(実験例1)
次に、上述の実施例1及び2における各ハニカム構造体(試料E1〜試料E6、試料C1〜試料C6)について、流速分布、排ガス浄化性能、圧力損失、アイソスタティック強度の評価を行った。以下に、流速分布、排ガス浄化性能、圧力損失、アイソスタティック強度の評価方法について説明する。なお、以下の説明においては、実施例にかかるハニカム構造体1を用いた場合の評価方法を図面と共に示すが、比較例についても同様である。
「流速分布の評価」
図9に示すごとく、排ガス浄化用の触媒を担持したハニカム構造体1をアルミナマット51で巻いた状態で排気管52内に設置することにより、触媒コンバータ8を作製した。また、ハニカム構造体1の下流側には、図示を省略した流速計(KANOMAX製、MODEL6115)を設置した。次いで、ハニカム構造体1に所定量の空気A1(高流速:70m/s、低流速:10m/s)を流通させ、ハニカム構造体1を通過した直後の空気A2の流速を流速計にて測定した。測定は、ハニカム構造体1の中心10から外周部13までを等分した各地点(計11地点)において行った。図10及び図11に、ハニカム構造体の中心からの径方向における距離(但しハニカム構造体の半径R=1)と、流速比との関係を示す。図10は、高流速時における結果であり、図11は、低流速時における結果である。
「排ガス浄化性能の評価」
まず、エミッション比の測定を行った。具体的には、まず、上述の流速分布の評価と同様の触媒コンバータ8を作製した。ただし、排ガス浄化性能の評価において使用するハニカム構造体1は、一度エンジンに搭載されて走行が行われており、ハニカム構造体1に担持された触媒が劣化している。次いで、ハニカム構造体1を自動車の排ガス管内の所定の位置に設置した。そして、所定のモード(LA♯4評価モード)で走行を行い、排出されるエミッション(HC、CO、NOx)量を測定した。試料C1のハニカム構造体におけるエミッション量を基準とし、試料E1〜試料E3、試料C2、及び試料C3のエミッション比を求めた。同様に、試料C4のエミッション量を基準とし、試料E4〜試料E6、試料C5、及び試料C6のエミッション比を求めた。その結果を後述の表1及び表2に示す。
次に、各ハニカム構造体1内の触媒温度の測定を行った。具体的には、ハニカム構造体1内に温度センサを設置することにより、低負荷運転直後におけるハニカム構造体1の内部温度を測定した。ハニカム構造体1における径方向Yの3箇所×長手方向の3箇所の合計9箇所における温度を測定した。次いで、これらの温度の平均値を算出した。試料C1のハニカム構造体7の温度を基準とし、試料E1〜試料E3、試料C2、及び試料C3の温度を評価した。同様に、試料C4のハニカム構造体7の温度を基準とし、試料E4〜試料E6、試料C5、及び試料C6の温度を評価した。具体的には、試料C1又は試料C4の温度に対して温度が低下した場合を「−」、温度が上昇した場合を「+」、有意差がなかった場合を「0」と評価した。その結果を後述の表1及び表2に示す。
「圧力損失」
次に、ハニカム構造体1の圧力損失の測定を行った。具体的には、圧力損失測定装置(図示略)を用いて、ハニカム構造体1にガス(空気)を流した時の圧力損失を測定した。圧力損失測定装置は、ハニカム構造体1に流入する直前のガスの圧力とハニカム構造体1から流出した直後のガスの圧力との差(差圧)を測定する差圧計と、ハニカム構造体1にガスを流すためのブロワーとを備えている。具体的な手順としては、まず、上述の流速分布の評価と同様の触媒コンバータ8を作製した(図9参照)。次いで、ブロワーにより排気管52内にガスを流した。このときの差圧を差圧計により測定した。この差圧が圧力損失である。ハニカム構造体1に流すガスの流速は4m3/分である。試料C1の圧力損失を1としたときにおける、試料E1〜試料E3、試料C2、及び試料C3の圧力損失の相対値を求めた。同様に、試料C4の圧力損失を1としたときにおける、試料E4〜試料E6、試料C5、及び試料C6の圧力損失の相対値を求めた。その結果を表1及び表2に示す。
「アイソスタティック強度」
アイソスタティック強度は、社団法人自動車技術会発行の自動車規格であるJASO規格M505−87に準拠して試験を行うことにより、測定した。
なお、ハニカム構造体1に担持する触媒としては、所謂三元触媒等が用いられる。三元触媒としては、例えば貴金属である白金(Pt)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)のうちの少なくとも1種と、γアルミナと、セリア等の酸素吸蔵剤(助触媒)とを含有する触媒等が用いられる。
図10より知られるごとく、排ガスの流速が高い場合には、各実施例(試料E1〜試料E6)及び比較例(試料C1〜試料C6)のいずれのハニカム構造体1、7、8においても、中心10、70、80からの距離、即ちセル密度にあまり関係なく、流速のバラツキが軽減されていた。これは、各ハニカム構造体1、7、8が、中心部10、70、80から外周部13、73、83に向かってセル密度が連続的又は段階的に小さくなるセル密度分布を有しているからである(図2及び図7参照)。一方、排ガスの流速が低い場合には、図11より知られるごとく、各ハニカム構造体1、7、8の外周部13、73、83の付近、具体的には、セル密度が小さい領域において流速が高くなることがわかる。このように、試料E1〜試料E6及び試料C1〜試料C6のいずれのハニカム構造体1、7、8においても、排ガスの流速が低い場合において、流速のバラツキが大きくなる傾向がある。
一方、表1及び表2には、排ガス浄化性能として、排ガスのエミッション比とハニカム構造体内に担持された触媒の温度が示されている。表1より、試料E1〜試料E3のハニカム構造体においては、試料C1に比べて排ガスのエミッション比が低下していることがわかる。試料E4〜試料E6についても、試料C4との比較により同様のことがいえる。これは、試料E1〜試料E6のハニカム構造体1においては、セル密度比が0.85以下という特定の領域に、波形セル壁111が形成されているためである(図6参照)。即ち、試料E1〜試料E6においては、上述のように排ガスの流速にばらつきがあっても(図10及び図11参照)、排ガスのエミッション比の低下が可能であり、優れた浄化性能が発揮される。
また、試料C2及び試料C3のハニカム構造体8は、試料E1〜試料E3と同様に波形セル壁811を有しているものの、試料C1に比べて排ガスのエミッション比が高くなっている(表1参照)。同様に、試料C5及び試料C6についても、試料C4との比較により同様のことが言える(表2参照)。これは、試料C2、試料C3、試料C5、試料C6のハニカム構造体8においては、実施例に比べて、さらにセル密度の高い領域、即ち中心部80側にまで波形セル壁811が存在しているためであると考えられる(図6参照)。より具体的には、ハニカム構造体8の熱容量が大きくなることにより、エンジンの始動直後における触媒の温度上昇に時間がかかり、その結果、触媒活性の発現前におけるエミッション量が増加するためであると考えられる。実施例におけるハニカム構造体1における排ガスのエミッション比をより一層低下させるという観点から、波形セル壁111は、セル密度比0.8以下の領域に存在することが好ましく(試料E2、試料E5参照)、セル密度比0.7以下の領域に存在することがより好ましい(試料E3、試料E6参照)。
また、低負荷運転直後の触媒温度に関しては、試料E1〜試料E3、試料C2、及び試料C3のハニカム構造体は、試料C1に比べて、触媒の冷却が抑制されており、高い温度を示していた(表1参照)。試料E4〜試料E6、試料C5、及び試料C6に関しても、試料C4との比較により同様のことが言える(表2参照)。即ち、試料E1〜試料E6等のハニカム構造体1においては、排ガスの温度が低くなる低負荷運転時に排ガスの流入が集中するセル密度比の低い領域に、熱容量の大きな波形セル壁111が存在しているため、触媒が冷却され難くなる(図6参照)。
また、表1及び表2より知られるように、波形セル壁111、811を有するハニカム構造体1、8(試料E1〜試料E6、試料C2、試料C3、試料C5、及び試料C6)は、波形セル壁を有さないハニカム構造体7(試料C1及び試料C4)に比べて、圧力損失が増大する傾向にある。しかし、試料E1〜試料E6のように、セル密度比0.85を超える領域のセル壁11を平坦セル壁112にすることにより(図6参照)、圧力損失の増大を緩和することができる(表1及び表2参照)。平坦セル壁112の割合を増やすことにより、圧力損失の低下が可能になるという観点からは、少なくともセル密度比0.85を超える領域に存在するセル壁11の全てが平坦セル壁112であることが特に好ましい。
また、表1及び表2より知られるように、ハニカム構造体1のアイソスタティック強度は、波形セル壁111が存在する境界領域となるセル密度比が小さくなっていくほど向上する傾向にある。そして、セル密度比0.8以下の領域に波形セル壁111が存在する場合に、アイソスタティック強度の向上効果がほぼ飽和する。したがって、試料E2、E3、E5、E6のように、波形セル壁111は、セル密度比が0.8以下の領域に存在することが好ましい。
以上の結果から、試料E1〜試料E6のハニカム構造体1は、例えば排ガスの平均流速が低くなっても、優れた排ガス浄化性能を示すことができる。これにより、試料E1〜6のハニカム構造体1は、運転条件等による排ガスの浄化性能のバラツキを小さくすることができ、優れた浄化性能を発揮することができる。
(実験例2)
本例は、波形セル壁の存在領域が異なる複数のハニカム構造体について、エミッション比及び圧力損失比を比較する例である。本例のハニカム構造体は、実施例1と同様に図4に示すセル密度分布を有しており、上述の図10及び図11に示すごとく、排ガスの流速が高い場合には、セル密度にあまり関係なく流速のバラツキが軽減されるが、排ガスの流速が低い場合には、流速のバラツキが大きくなる。
本例においては、セル密度比が0.7以下、0.75以下、0.8以下、0.83以下、0.85以下、0.87以下、0.88以下、0.9以下、0.91以下、0.93以下、0.95以下、1以下の領域にそれぞれ波形セル壁が存在する複数のハニカム構造体を準備した。また、実施例1の試料C1と同様に、波形セル壁を有していないハニカム構造体を準備した。本例における各ハニカム構造体は、波形セル壁の存在領域が異なる点を除いては、実施例1の試料E1と同様の構成を備えている。
次いで、これらのハニカム構造体について、上述の実験例1と同様に、エミッション比及び圧力損失比を測定した。各ハニカム構造体のエミッション比は、波形セル壁を有していないハニカム構造体(試料C1)のエミッションを1としたときにおける相対値である。同様に、各ハニカム構造体の圧力損失比は、波形セル壁を有していないハニカム構造体(試料C1)の圧力損失を1としたときにおける相対値である。その結果を図12に示す。
図12に示されるように、波形セル壁の存在領域が大きくなると、エミッション比が増大する傾向があるが、ハニカム構造体の波形セル壁の存在領域をセル密度比で0.85以下に調整することにより、上述のように排ガスの流速にばらつきがあっても排ガスのエミッション比の十分な低下が可能になる。その結果、排ガス浄化性能に優れたハニカム構造体の実現が可能になる。ハニカム構造体の波形セル壁の存在領域をセル密度比で0.8以下に調整することにより、エミッション比の更なる低下が可能になる。また、図12に示されるように、波形セル壁の存在領域が大きくなると、圧力損失が増大する傾向があるが、ハニカム構造体の波形セル壁の存在領域をセル密度比で0.85以下に調整することにより、圧力損失の増大を十分に防止できる。ハニカム構造体の波形セル壁の存在領域をセル密度比で0.8以下に調整することにより、圧力損失の増大の更なる防止が可能になる。
1 ハニカム構造体
10 中心
11 セル壁
111 波形セル壁
112 平坦セル壁
12 セル
13 外周部

Claims (2)

  1. 格子状に設けられたセル壁(11)と、該セル壁(11)に囲まれて形成された複数のセル(12)とを有するハニカム構造体(1)であって、
    該ハニカム構造体(1)は、径方向(Y)における中心部(10)から外周部(13)に向かってセル密度が連続的又は段階的に小さくなるセル密度分布を有し、
    上記ハニカム構造体(1)は、軸方向(X)に波状に延びる波形セル壁(111)と、上記軸方向(X)に平坦状に延びる平坦セル壁(112)とを有し、
    上記波形セル壁(111)は、最大セル密度に対するセル密度の比であるセル密度比が0.85以下の領域に存在し、
    上記波形セル壁(111)の存在領域よりも上記中心部(10)側に存在する上記セル壁(11)は、上記平坦セル壁(112)であることを特徴とするハニカム構造体(1)。
  2. 上記波形セル壁(111)は、上記セル密度比が0.8以下の領域に存在することを特徴とする請求項1に記載のハニカム構造体(1)。
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