JP5957248B2 - 基板保持装置の再生方法 - Google Patents
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- 真空チャンバ内で処理すべき基板を保持する基板保持装置の再生方法であって、
前記基板保持装置は、電極を有するチャック本体を備え、このチャック本体の基板吸着面に、この基板の外周縁部が面接触可能なリブ部とこのリブ部で囲繞された内部空間に設けられて基板を支持する支持部とを有し、前記内部空間に酸素含有ガスを導入するガス導入手段が接続され、チャック本体を加熱する加熱手段を更に備え、
リブ部に基板の外周縁部が面接触するようにチャック本体上に基板を載置し、電極に電圧印加してこの基板をチャック本体の基板吸着面で吸着する工程と、前記内部空間に酸素含有ガスを導入し、加熱手段により内部空間を加熱する工程とを含むことを特徴とする基板保持装置の再生方法。 - 前記酸素含有ガスの導入を停止し、前記基板の吸着を解除した後、前記内部空間に、当該内部空間に接続された他のガス導入手段を介して窒素ガスを導入する工程を更に含むことを特徴とする請求項1記載の基板保持装置の再生方法。
- 前記電極への電流値を監視し、この電流値が所定の範囲を超えて変化すると、上記各工程を実施することを特徴とする請求項1または請求項2記載の基板保持装置の再生方法。
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