JP5952899B2 - う蝕象牙質組織の検出と除去 - Google Patents
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Description
(i)う蝕象牙質組織を含む一つ又はそれ以上の歯の上にヒドラジン誘導体である一つ又はそれ以上の化合物を適用することにより、う蝕象牙質組織を標識化すること、
(ii)う蝕象牙質組織の化学的処置のための手段を標識化したう蝕性組織に適用すること、及び
(iii)機械的手段で標識化したう蝕象牙質組織を取り除くこと、
の工程を含むう蝕象牙質組織の標識化と除去のための方法が提供される。
(i)第一の活性でう蝕溶解成分、及び粘膜に対する活性成分の攻撃性を低下させる第二の成分の形態の活性でう蝕溶解性の二成分液体、ゲル物質、及び一つ又はそれ以上のヒドラジン誘導体である化合物を含む製剤をう蝕象牙質組織を含む一つ又はそれ以上の歯に適用することによるう蝕象牙質組織の標識化、
(ii)機械的手段による標識化されたう蝕象牙質組織の除去;
の工程を含むう蝕象牙質組織の標識化と除去のための方法が提供される。
RNHNH2 (I)
である。発色団は、式(I)の化合物とう蝕象牙質組織の反応の前、その時、その後、形成されてもよい。
(i)う蝕象牙質組織を含む一つ又はそれ以上の歯の上にヒドラジン誘導体である一つ又はそれ以上の化合物を適用することによりう蝕象牙質組織を標識化すること、
(ii)う蝕象牙質組織の化学的処置用の手段を標識化う蝕組織に対して適用すること、及び
(iii)機械的手段により標識化したう蝕象牙質組織を除去すること、
の工程を含む、う蝕象牙質組織の標識化及び除去のための方法が提供される。
(i)第一の活性でう蝕溶解性の成分、及び粘膜に対する活性成分の攻撃性を低下させる第二の成分の形態の活性でう蝕溶解性の二成分の液体、ゲル物質、及びヒドラジン誘導体である一つ又はそれ以上の化合物、う蝕象牙質組織を含む一つ又はそれ以上の歯を含む製剤の適用によるう蝕象牙質組織の標識化、及び
(ii)機械的手段による標識化う蝕象牙質組織の除去、
の工程を含むう蝕象牙質組織の標識化と除去のための方法が提供される。
(i)う蝕により患部面上にヒドラジン誘導体である一つ又はそれ以上の化合物を適用することによりう蝕組織を標識化すること、
(ii)標識化したう蝕組織へ化学的処置のための手段を適用すること、及び
(iii)標識化したう蝕組織を機械的手段により取り除くこと、
の工程を含む歯根う蝕の標識化と処置のための方法が提供される。
(i)第一の活性でう蝕溶解性の成分、及び粘膜に対する活性成分の攻撃性を低下させる第二の成分の形態の活性でう蝕溶解性の二成分の液体、ゲル物質、及びヒドラジン誘導体である一つ又はそれ以上の化合物、う蝕象牙質組織を含む一つ又はそれ以上の歯を含む製剤の適用によるう蝕象牙質組織の標識化、及び
(ii)機械的手段により標識化されたう蝕象牙質組織の除去、
の工程を含む歯根う蝕の標識化と処置のための方法が提供される。
(i)歯の根管に、ヒドラジン誘導体である一つ又はそれ以上の化合物を適用することによりう蝕性組織を標識化すること、
(ii)う蝕性組織の化学的処置のための手段を標識化されたう蝕性組織に適用すること、及び
(iii)標識化されたう蝕性組織を機械的手段により取り除くこと、
の工程を含む歯の根管の標識化と処置のための方法が提供される。
(i)第一の活性でう蝕溶解性の成分、及び粘膜に対する活性成分の攻撃性を低下させる第二の成分の形態の活性でう蝕溶解性の二成分の液体、ゲル物質、及びヒドラジン誘導体である一つ又はそれ以上の化合物、う蝕象牙質組織を含む一つ又はそれ以上の歯を含む製剤の適用によるう蝕象牙質組織の標識化、及び
(iii)機械的手段により標識化されたう蝕象牙質組織の除去;
の工程を含む歯の根管の標識化と処置のための方法が提供される。
FTIR:フーリエ変換赤外分光法;
TOF SIMS:飛行時間型二次イオン化質量分析法;
FT:フーリエ変換;
IR:赤外分光法;
u:質量/電荷比;
s:秒;
nm:ナノメートル;
KeV:キロ電子ボルト;
pA:ピコアンペア;
amu:原子質量単位;
MQ:超純水:ミリ−Q−システム、ミリポア(USA)からの;
cP:センチポアズ;
w/w:溶質の質量と溶液のw/w;
M:モル/リットル;
mM:ミリモル/リットル;
以前に歯科修復を全く行っていない二つの抜歯したヒト永久歯は、厳しいう蝕組織状態の故に選択され、そして抜歯後一週間以内にFTIRで分析した。う蝕歯の病変の最外側部分が除去された。残留したう蝕性組織は、変色した、軟質の、感染したう蝕性組織を有する一つの外層、及び未着色として見られる一つの内層の二層に分けられ、触覚的手法で残留した健常な象牙質の予測硬さまで掘り出される。各々の歯に対して、一つのサンプルは、健常な象牙質から採取され、そして別のサンプルは、う蝕組織の内層から採取された。純水でインキュベーションした後、それらは、雰囲気温度で乾燥のために放置した。各々の歯サンプルの乾燥質量は、約1mgであった。その後、各々のサンプルは、合計ペレット質量100mgでその後のFTIR試験を行う前に、臭化カリウム(KBr)と混合した。IR分析は、Mattson Cygnus 100のFTIR分光光度計を用いて、解像度4cm-1で行った。器具は、大気中のCO2及びH2Oを除去するために、分析器具用の品質の空気でパージし、乾燥し、そしてBalstron type 75-60のコンディショナで精製した。スペクトルは、FTIRソフトウエアを用いてベースラインを補正した。全てのスペクトルに対して、同一の波数位置が選択された。各々のスペクトルは、100スキャンして得られた。ピーク又は特定のショルダを強化し、更に、調査するために、フーリエのセルフデコンボリューション(Self-Deconvolution)技術を用い、次に参照として設定した無病息災の(sound healthy)象牙質とのスペクトル減算処置を行った。
この実験は、追加色のSEEK、アシッドレッド1、ルシファーイエロー、ルシファーイエローとアシッドレッド1の組合せ、又は、5−(2−2−ヒドラジニル−2−オキソエチルチオ)アセトアミド)−2−(3−ヒドロキシ−6−オキソ−6H−キサンテン−9−イル)安息香酸、Alexa Fluor(登録商標)594及びAlexa 350が、臨床的にう蝕フリーと表示される表面に掘り出した後、う蝕面に結合するか否かを判断することを目的とする。実験は4日間行った。
以前に歯科修復されたことのない抜歯されたヒト永久歯が、厳しいう蝕組織状態に基づき選択され、そして抜歯後、一週間以内にFTIRで分析した。う蝕歯の病変の最外側部分は除去された。残留したう蝕性組織は、二つの層:一つは変色した、軟質の、感染したう蝕性組織;及びもう一つは、触覚的手法で制御した、残留した健常な象牙質の観察された未着色の硬質面へ掘り出す内面に分割される。
FTIR及びTOF−SIMS分析が、作業中の歯科医師の正確さで選択され、推定されるう蝕性組織の最内層から成るサンプルグループで行われた。サンプルは、う蝕性組織の内層の歯4〜6個(37mg)からプールされた。プールされたサンプルは、一つはヒドラジン誘導体のルシファーイエローに曝され、そして、更に、TOF−SIMSで分析し、他方は、FTIR−ATRでのみ分析する二つのサブグループに分けられた。ヒドラジン誘導体であるルシファーイエローの水溶液(1.8mM)を内層のう蝕性組織(19mg)に加え、そして1時間曝した後、NaOHの水溶液(0.5M)で洗浄し、そして真空乾燥の前に純水で洗浄した。抜歯から掘り出しまでの出来事は、乾燥と物質の粉砕のために数時間延長された。その後、FTIR−ATR及びTOF−SIMSの両方を行った。FTIR−ATRは、上記の実施例3で記載した通りに行われた。飛行時間型二次質量分析は、材料の表面から下へ、〜1nmまでの分子組成の情報を与える感度の高い表面分析である。方法は、主イオンのパルスビームがサンプルホルダに投影された後、サンプル表面から放出される電荷を帯びた二次質量イオンの分離を基礎としている。使用された主イオンは、0.12pAにおけるビーム(電流)を備えた25KeVのBi3+であった。各々のサンプルは、両面テープに取り付け、TOF−SIMS器具(TOF-SIMS IV, CAMECA/IONTOF, GmbH, Germany)で分析した。正の二次イオンの質量スペクトルは、200×200μm2のサイスでサンプルの異なった領域から記録し、そして質量分析器で分離し、次に、TOF−SIMSとリンクしたイオン種の応用(IonTof, GmbH, Germany, ver. 4.1)からの公知の質量スペクトルと比較した。負の二次イオンの質量スペクトルは記録したが、いかなる情報も与えなかった。各々の二次イオンの単数のスペクトル、複数のスペクトルのデータ入手時間は100sであった。
小臼歯のう蝕象牙質組織は、キャビティを得るために、Carisolv(登録商標)で処置し、そしてその後、ヒドラジン誘導体Alexa 594の水溶液で染色した。ヒドラジン誘導体Alexa 594の水溶液の濃度は、15〜50mMであった。結果として、キャビティは、濃い暗青色を示した。Carisolv(登録商標)は、キャビティに加え、そして、う蝕なしのレベルまで到達するために、掘り出しは、Mediteam Dental ABからの手動器具で行った。MQ水で濯ぎを行い、そしてう蝕なしが現れた面を示す写真を撮った。歯科医師は、この面の触覚制御を行い、面はう蝕なしであることを確認した。う蝕が全く残留していないことを確実に確認するために、Alexa 594で更に染色することを試み、キャビティ中心部に非常にわずかの染色が、生成したのみであった。若干染色した表面は、Carisolv(登録商標)での処置にかけて、次いで、手動器具で掘り出した。その結果、得られた表面を染色する最終の試みが、Alexa 594でなされたが、いかなる染色も起こらなかった。従って、歯の全てのう蝕象牙質組織が除去されたと結論付けた。Alexa 594などのヒドラジン誘導体は、う蝕象牙質組織の選択的検出と除去のために、Carisolv(登録商標)などのう蝕象牙質組織用の化学的手段との組合せで使用できることも結論付けた。更に、Alexa 594での染色は、歯科医師により行われる触覚制御により、う蝕象牙質組織を検出するために、良好で、そして感度の高い方法であることを結論付けた。
15〜50mM濃度でのヒドラジン誘導体Alexa 594の水溶液で染色した小臼歯のう蝕象牙質組織は、染色が視覚的に検出されなくなるまで、歯科医師のドリルによる機械的処置にかけた。15〜50mM濃度でのヒドラジン誘導体Alexa 594の水溶液を加え、そして染色を発生させた。染色面は、染色を視覚的に検出されなくなるまで掘り出しを行った。歯科医師は表面を視覚的、そして触覚的器具で検査し、そして、表面にはう蝕が存在しないことを結論付けた。驚くべきことに、15〜50mM濃度でのヒドラジン誘導体Alexa 594の水溶液の、う蝕が存在しない表面への添加は、染色をもたらした。再び、染色面の掘り出しを、染色が見えなくなるまで行った。15〜50mM濃度でのヒドラジン誘導体Alexa 594の水溶液の添加を行い、そして染色がもたらされた。この実施例における上記の掘り出しと染色は、数回繰り返した。掘り出しが実施された後、染色が常に発生する結果であった。歯科医師のドリルと組み合わせて、ヒドラジン誘導体を用いたう蝕象牙質組織の選択的検出と除去は不可能であることを結論付けた。う蝕象牙質組織の選択的検出と除去のためのうまくいかない試みは、スメア層の形成に起因するかもしれないことが示唆される。これは、実施例5で記載したう蝕性象牙質組織の処置のために、化学的手段との組合せにおけるヒドラジン誘導体を用いた成功したう蝕象牙質組織の選択的検出及び除去と対比をなす。
Claims (11)
- (i)式(I)、
RNHNH2 (I)
のヒドラジン誘導体である一つ又はそれ以上の化合物(Rは、発色団を含有する化学基であることを特徴とする);及び
(ii)う蝕象牙質組織を軟化する、及び/又は、溶解することができるう蝕象牙質組織の化学的処置のための手段であって、
(a)う蝕溶解性の第一の成分、及び第一の成分の粘膜に対する攻撃性を低下させる第二の成分を含有する、う蝕溶解性の二成分の液体、並びに
(b)粘度増強物質
を含有する製剤を含む手段;
を含む、う蝕象牙質組織の検出と除去のための部品のキット。 - 更に、う蝕象牙質組織の化学的処置のための前記手段により、軟化し、及び/又は、溶解したう蝕象牙質組織の機械的除去のための手段を含んでなる、請求項1又は2に記載の部品キット。
- 第一の成分が、Cl1+、次亜塩素酸カリウム、又は次亜塩素酸ナトリウムである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の部品キット。
- 第一の成分の粘膜に対する攻撃性を低下させる第二の成分が、アミノ酸、又はアミノエタンジオール、1−アミノ−3,3−ジメチルプロパノール及び1,5−ジアミノペンタノールの混合物を含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の部品キット。
- アミノ酸が、異なった電荷状態;一つが中性、一つが実効負電荷、及び一つが実効正電
荷を備えた三つのアミノ酸である、請求項5記載の部品キット。 - 粘度増強物質が、ゲルである、請求項1〜6のいずれか1項に記載の部品キット。
- ゲルが、カルボキシメチルセルロース又は多糖物質である、請求項7記載の部品キット。
- 製剤が、1〜2%(w/w)濃度の第一の活性成分NaOCl、9.5〜10.5のpHを有し、グルタミン酸、ロイシン及びリシンの混合物0.5〜1.5%(w/w)、NaCl0.5%(w/w)を含む第二の成分、並びに高粘度のカルボキシメチルセルロースゲル2.5〜5%(w/w)を含む水性組成物である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の部品キット。
- 製剤が、1〜2%(w/w)濃度の第一の活性成分NaOCl、9.5〜10.5のpHを有し、グルタミン酸、ロイシン及びリシンの混合物0.5〜1.5%(w/w)、NaCl0.5%(w/w)、TiO2:0.03%(w/w)を含む第二の成分;及び中粘度のカルボキシメチルセルロースゲル2.5〜5%(w/w)を含む水性組成物である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の部品キット。
- 更に、請求項1又は2で定義されたヒドラジン誘導体である一つ又はそれ以上の化合物を含んでなる、請求項1〜10のいずれか1項に定義された製剤。
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