JP5943370B2 - 光沢アルミニウム材料の製造方法 - Google Patents
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(1) 光沢を有するアルミニウム皮膜が形成されてなるアルミニウム材料を製造する方法であって、アルミニウムハロゲン化物を式(I):
(R1)2SO2 (I)
(式中、R1は、それぞれ独立して1〜4のアルキル基を示す)
で表わされるジアルキルスルホンに溶解させてなる溶液からアルミニウムを電析させる際に、2以上のアミノ基を有するアルキルポリアミンを当該溶液に存在させることを特徴とする光沢アルミニウム材料の製造方法、および
(2) 光沢を有するアルミニウム皮膜が形成されてなるアルミニウム材料の製造に用いられるめっき液であって、アルミニウムハロゲン化物と2以上のアミノ基を有するアルキルポリアミンとが式(I):
(R1)2SO2 (I)
(式中、R1は、それぞれ独立して1〜4のアルキル基を示す)
で表わされるジアルキルスルホンに溶解されてなる光沢アルミニウム材料用めっき液
に関する。
(R1)2SO2 (I)
(式中、R1は、それぞれ独立して1〜4のアルキル基を示す)
で表されるジアルキルスルホンが好ましい。ジアルキルスルホンとしては、例えば、ジメチルスルホン、ジエチルスルホン、ジプロピルスルホン、ジブチルスルホンなどが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。これらのジアルキルスルホンは、それぞれ単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。これらのジアルキルスルホンのなかでは、アルミニウムの電析を効率よく行なう観点から、ジメチルスルホンが好ましい。なお、前記ジアルキルスルホンは、本発明の目的を阻害しない範囲内で、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの他の有機溶媒と併用してもよい。
以上のようにして光沢アルミニウム材料を効率よく製造することができる。
アルミニウムめっきの基本液として、ジメチルスルホンと塩化アルミニウムとを両者のモル比(ジメチルスルホン/塩化アルミニウム)が10/2となるように混合し、110℃に保ったものを用いた。この基本液にテトラエチレンペンタミンをジメチルスルホン10モルあたり0.003モル添加することにより、めっき液を得た。
形成されためっき皮膜を目視にて色彩および光沢を観察し、光沢については、以下の評価基準に基づいて評価した。
(光沢の評価基準)
○:光沢に優れている。
△:半光沢である。
×:光沢がない。
アルミニウム皮膜の表面粗さは、表面粗さ測定器〔(株)東京精密製、サーフコム1400D−12M〕を用いて測定した。
アルミニウム皮膜の正反射率は、分光光度計〔大塚電子(株)製、瞬間マルチ測光システムMCPD−7700〕を用いて測定した。
実施例1において、テトラエチレンペンタミン0.003モルの代わりに塩化ジルコニウム0.01モルを用いたこと以外は、実施例1と同様にして定電流電解を行なった。その結果、電析基板の表面上には、厚さが10μmのアルミニウム皮膜が形成されていた。形成されたアルミニウム皮膜を実施例1と同様にして調べた。その結果を表1に示す。
実施例1において、テトラエチレンペンタミン0.003モルを用いなかったこと以外は、実施例1と同様にして定電流電解を行なった。その結果、電析基板の表面上には、厚さが10μmのアルミニウムのめっき皮膜が形成されていた。形成されたアルミニウム皮膜を実施例1と同様にして調べた。その結果を表1に示す。
実施例1において、テトラエチレンペンタミンの量を0.02モルに変更したこと以外は、実施例1と同様にして定電流電解を行なった。その結果、電析基板の表面上には、厚さが約10μmのアルミニウム皮膜が形成されていた。形成されたアルミニウム皮膜を実施例1と同様にして調べた。その結果を表2に示す。
実施例1において、テトラエチレンペンタミンの量を0.001モルに変更したこと以外は、実施例1と同様にして定電流電解を行なった。その結果、電析基板の表面上には、厚さが約10μmのアルミニウム皮膜が形成されていた。形成されたアルミニウム皮膜を実施例1と同様にして調べた。その結果を表2に示す。
実施例2において、塩化ジルコニウムの量を0.005モルに変更したこと以外は、実施例2と同様にして定電流電解を行なった。その結果、電析基板の表面上には、厚さが約5μmのアルミニウム皮膜が形成されていた。形成されたアルミニウム皮膜を実施例1と同様にして調べた。その結果を表2に示す。
実施例2において、塩化ジルコニウムの量を0.015モルに変更したこと以外は、実施例2と同様にして定電流電解を行なった。その結果、電析基板の表面上には、厚さが約15μmのアルミニウム皮膜が形成されていた。形成されたアルミニウム皮膜を実施例1と同様にして調べた。その結果を表2に示す。
実施例1において、テトラエチレンペンタミン0.003モルの代わりにジエチレントリアミン0.003モルを用いたこと以外は、実施例1と同様にして定電流電解を行なった。その結果、電析基板の表面上には、厚さが10μmのアルミニウム皮膜が形成されていた。形成されたアルミニウム皮膜を実施例1と同様にして調べた。その結果を表2に示す。
実施例2で得られたアルミニウムめっき皮膜が形成された電析基板または比較例1で得られたアルミニウムめっき皮膜が形成された電析基板を25℃の0.1M塩化ナトリウム水溶液に浸漬し、当該電析基板を陰極として用い、銀−塩化銀参照電極を用いて陰極電位を−1.0Vから徐々に高めることによってアルミニウムめっき皮膜を酸化させたときの電流密度の変化を調べた。
Claims (2)
- 光沢を有するアルミニウム皮膜が形成されてなるアルミニウム材料を製造する方法であって、式(I):
(R1)2SO2 (I)
(式中、R1は、それぞれ独立して1〜4のアルキル基を示す)
で表わされるジアルキルスルホン1モルあたりのアルミニウムハロゲン化物の量が0.05〜1モルとなるように前記アルミニウムハロゲン化物を前記ジアルキルスルホンに溶解させてなる溶液からアルミニウムを電析させる際に、2以上のアミノ基を有するアルキルポリアミンを当該溶液に存在させた状態で当該溶液の温度を前記アルミニウムハロゲン化物が前記ジアルキルスルホンに溶解する温度〜150℃に調整し、アルミニウムを電析させることを特徴とする光沢アルミニウム材料の製造方法。 - 光沢を有するアルミニウム皮膜が形成されてなるアルミニウム材料の製造に用いられるめっき液であって、アルミニウムハロゲン化物と2以上のアミノ基を有するアルキルポリアミンとが式(I):
(R1)2SO2 (I)
(式中、R1は、それぞれ独立して1〜4のアルキル基を示す)
で表わされるジアルキルスルホンに溶解されてなり、前記ジアルキルスルホン1モルあたりの前記アルミニウムハロゲン化物の量が0.05〜1モルである光沢アルミニウム材料用めっき液。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
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JP2013023712A JP2013023712A (ja) | 2013-02-04 |
JP5943370B2 true JP5943370B2 (ja) | 2016-07-05 |
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ID=47782407
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP (1) | JP5943370B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
MX2019014278A (es) * | 2017-06-01 | 2021-02-09 | Lumishield Tech Incorporated | Métodos y composiciones para deposición electroquímica de capas ricas en metal en soluciones acuosas. |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004076031A (ja) * | 2002-08-09 | 2004-03-11 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 電解めっき用めっき浴及び複合めっき用めっき浴並びにこれらの製造方法 |
JP5270846B2 (ja) * | 2007-02-09 | 2013-08-21 | ディップソール株式会社 | 常温溶融塩浴を用いた電気Al−Zr合金めっき浴とそれを用いるめっき方法 |
JP5080097B2 (ja) * | 2007-02-09 | 2012-11-21 | ディップソール株式会社 | 溶融塩電気アルミニウムめっき浴及びそれを用いためっき方法 |
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JP2013023712A (ja) | 2013-02-04 |
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