JP5918801B2 - 微小構造材診断用サンプルの製造方法および製造用装置とそのサンプル - Google Patents
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Description
ここでこれら図面には下記が図示される。
基礎構造3に接続する。これら二つの保持ベース51a,51bが、前記支持構造5の基礎構造3をまだ保持フレーム1Fに接続している部分を構成する。
プされている領域の側方および下方の前記ジョー6a,6bのスペア領域によって、プレーティングされた材料の再折と、マウント6の損傷とが、それぞれ防止される。
Claims (30)
- 基材(1)に高エネルギビームとしてのレーザビームを照射することによって、前記基材(1)から基礎構造(3)を分離する工程であって、その分離された基礎構造(3)が、一体的となる被支持構造(4)と支持構造(5)とを含み、前記被支持構造(4)は前記支持構造(5)によって支持され、前記支持構造(5)の、前記被支持構造(4)と反対の側において、二つの対向するノッチ(21a,21b)が形成される工程と、
前記支持構造(5)を治具(6)によって保持する工程であって、前記治具(6)には、前記二つの対向するノッチ(21a,21b)に対してそれぞれ係合可能な係合部(22a,22b)が設けられ、前記二つのノッチ(21a,21b)により、前記被支持構造(4)の前面(4e)が前記治具(6)の表面に対して所定の距離で突出するように、前記二つのノッチ(21a,21b)と前記係合部(22a,22b)とが係合する状態で前記支持構造(5)を前記治具(6)によって保持する工程と、
前記被支持構造(4)の表面を前記又は別のレーザビーム(2)で切削することによって前記被支持構造(4)を少なくとも部分的に薄化する工程と
を有する、微小構造材診断用サンプル(P)の製造方法。 - 前記被支持構造(4)のレーザビームによる薄化の後、当該レーザビーム薄化において前記レーザビーム(2)の切削入射によって既に薄化された前記被支持構造(4)の単数又は複数の部分を更に薄化するために、薄化後処理が行われ、
前記薄化後処理は、前記レーザビーム(2)の切削入射によって既に薄化された前記被支持構造(4)の前記単数又は複数の部分を、イオンビームの照射によって行われる、請求項1に記載の製造方法。 - 前記被支持構造(4)のレーザビームにより薄化を行うことにより、前記被支持構造(4)の二つの対向する側面(4c,4d)において、互いに対向する二つの通路構造(7a−1,7a−2,7b−1,7b−2・・・)が形成され、さらに、前記二つの通路構造(7a−1,7a−2,7b−1,7b−2・・・)間に残る、単数又は複数の残存部分(8a,8b・・・)を更に薄化するために薄化後処理を行い、
既に薄化されている前記被支持構造(4)の前記部分に対して、集束された又はブロードなイオンビームを照射し、
前記被支持構造(4)の前記基材平面(1a)と前記イオンビームの主ビーム軸心との間のグレイジング角β>0°である、請求項1又は2に記載の製造方法。 - 前記イオンビームは、グレイジング入射によって行われる、請求項3に記載の製造方法。
- 前記被支持構造(4)を前記薄化する工程は、前記レーザビーム(2)を前記被支持構造(4)に対して照射させ、入射レーザビーム(2)の境界領域(2b,2b’)を用いて、前記被支持構造(4)を、当該被支持構造(4)の前記基材平面(1a)に対して平行な方向に切削することに行われる、請求項3又は4に記載の製造方法。
- 前記レーザビーム(2)の主ビーム軸心(2a)は、前記被支持構造(4)の前記基材平面(1a)に対して、前記レーザビーム(2)の広がり角度2αの半分で傾斜し、前記αが>0である、請求項5に記載の製造方法。
- 前記αは5°≦α≦20°である、請求項6に記載の製造方法。
- 前記αは8°≦α≦12°である、請求項6に記載の製造方法。
- 前記αは10°である、請求項6に記載の製造方法。
- 前記被支持構造(4)の前記薄化は、レーザビームにより材料を除去することで、少なくとも1つの通路構造(7a,7b・・・)を、前記被支持構造(4)の表面に形成することによって行われる、請求項1〜9のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記被支持構造(4)の前記薄化において、前記レーザビームにより材料を除去することで、複数の前記通路構造(7a,7b・・・)を前記被支持構造(4)の二つの対向する側面(4c,4d)の両方に、形成されることによって行われる、請求項10に記載の製造方法。
- 前記通路構造(7a,7b・・・)の長手方向(D)は、前記被支持構造(4)の長手延出(L)に対して垂直にアラインメントされている、請求項11に記載の製造方法。
- 前記被支持構造(4)の長手延出(L)に沿って見て、複数の通路構造(7a,7b・・・)が、前記被支持構造(4)の表面に形成される、請求項1〜12のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記被支持構造(4)の長手延出(L)に沿って見て、複数の前記通路構造(7a,7b・・・)が、前記被支持構造(4)の二つの対向する側面(4c,4d)の両方に、互いに平行かつ離間して形成される、請求項13に記載の製造方法。
- 複数の前記通路構造(7a,7b・・・)が前記被支持構造(4)の前記二つの対向する側面(4c,4d)の両方に互いに平行かつ離間して形成される時、前記二つの対向側面(4c,4d)の一つ(4c)に形成される各通路構造(7a−1,7b−1・・・)に対して、別の通路構造(7a−2,7b−2)が、前記被支持構造(4)の前記基材平面(1a)に対して対称に、前記二つの対向側面(4c,4d)の他方(4d)に形成される、請求項14に記載の製造方法。
- 複数の前記通路構造(7a,7b・・・)が前記被支持構造(4)の前記二つの対向する側面のうちの片方又は両方に形成される時、複数の前記通路構造(7a,7b・・・)の少なくとも一つは、各前記通路構造の長手方向(D)から見て、前記被支持構造(4)の全長(幅w)に沿わないように形成される、請求項10〜15のいずれか1項に記載の製造方法。
- 複数の前記通路構造(7a,7b・・・)が前記被支持構造(4)の前記二つの対向する側面のうちの片方又は両方に形成される時、複数の前記通路構造が、各前記通路構造の長手方向(D)に沿って見て、当該被支持構造(4)の両前面(4e,4f)から出現する、請求項10〜16のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記基材平面(1a)に対して垂直な前記基材(1)の厚み、および前記被支持構造(4)の前記基材平面(1a)に対して垂直な当該被支持構造(4)の厚み(d)は夫々、50μm以上500μm以下であり、
前記基材(1)は平行平面に研磨されたプレートであり、請求項5から17のいずれか1項に記載の製造方法。 - 前記基材平面(1a)に対して垂直な前記基材(1)の厚み、および前記被支持構造(4)の前記基材平面(1a)に対して垂直な当該被支持構造(4)の厚み(d)は夫々、50μm以上500μm以下であり、
前記被支持構造(4)の幅(w)、即ち、前記被支持構造(4)の、その長手延出(L)に対して垂直かつその厚み(d)に対して垂直な寸法は、100μm以上2500μm以下である、請求項5から17のいずれか1項に記載の製造方法。 - 前記被支持構造(4)の前記単数又は複数の部分は、前記レーザによる薄化において、前記被支持構造(4)の二つの対向する側面(4c,4d)に形成された二つの通路構造(7a−1,7a−2,7b−1,7b−2,...)間に前記レーザビームによる薄化の後に残る、前記単数又は複数の残存部分(8a,8b・・・)であり、0.5μm以上50μm以下の、前記被支持構造(4)の前記基材平面(1a)に対して垂直な、最小厚み(dmin)を有する、請求項5〜19のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記基礎構造(3)の前記基材からの分離後に、前記レーザビームによる薄化中に、切削を実現するために、前記レーザビーム(2)が前記被支持構造(4)に対して照射される前に、又は、x−y−zテーブルもしくはスキャニングステージによって前記被支持構造が、前記入射レーザビーム(2)に対して移動される前に、前記レーザビーム(2)は集束光学装置(9)によって集束され又は、ガルバノメータスキャナ(10)によって偏向される、請求項1〜20のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記基礎構造(3)の前記基材からの分離後、前記基礎構造(3)の前記支持構造(5)は、前記治具(6)によって保持され、前記治具(6)は、第1軸心(R)回りで傾動可能、および/又は、第2軸心(T)回りで傾動可能であり、そして、前記レーザビームによる薄化において前記支持構造(4)に対する前記レーザビーム(2)での切削を実現するために、前記支持構造(5)は、前記治具(6)によって、前記レーザビーム(2)に対して位置決めされる、請求項1〜21のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記レーザビームによる切削は、グレイジングである、請求項5、20〜22のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記基礎構造(3)の分離を以下のようにして行い、まず、当該基礎構造(3)を保持フレーム(1F)から完全に分離するために少なくとも1つの保持ベースを破壊する前に、まだ前記基礎構造(3)を保持フレーム(1F)に接続している少なくとも1つの前記保持ベース(51a,51b)を除いて、前記基礎構造(3)をすべての面において前記保持フレーム(1F)から分離し、
ここで、前記保持フレーム(1F)は前記基材(1)であるか、もしくは、前記基材(1)から既に分離された前記基材(1)の一部である、請求項1〜23のいずれか1項に記載の製造方法。 - 高エネルギビーム(2)としてのレーザビームを放射する少なくとも1つのビーム放射ユニット(11)としてのレーザと、
前記レーザ(11)の光路に位置するとともに、基材(1)をレーザビーム(2,2’)によって、一体的となる被支持構造(4)と支持構造(5)とを含む基礎構造(3)が前記基材(1)から分離可能であるように、照射するように構成されたビーム形成用光学装置(12)と、
前記基礎構造(3)の前記支持構造(5)を保持するとともに、前記支持構造(5)を前記レーザビーム(2,2’’)に対して少なくとも1つの所定の姿勢で配置するように構成された治具(6)とを備え、
前記被支持構造(4)は前記支持構造(5)によって支持され、前記支持構造(5)の、前記被支持構造(4)と反対の側において、二つの対向するノッチ(21a,21b)が形成され、
前記治具(6)は、前記二つの対向するノッチ(21a,21b)に対してそれぞれ係合可能な係合部(22a,22b)を更に備え、
前記二つのノッチ(21a,21b)により、前記被支持構造(4)の上面(4e)が治具(6)の表面に対して所定の距離で突出するように、前記二つのノッチ(21a,21b)と前記係合部(22a,22b)とが係合する状態で前記支持構造(5)が前記治具(6)によって保持され、
前記被支持構造(4)が、その表面を前記レーザビーム(2,2’’)で切削することによって少なくとも部分的に薄化可能であるように、前記光学装置(12)および前記治具(6)は、前記光学装置(12)及び前記治具(6)の少なくとも一方を移動可能にすることにより、前記レーザビーム(2,2’’)および前記保持された前記基礎構造(3)を、相対移動可能にするように構成されている、微小構造材診断用サンプル(P)を製造する装置。 - 前記装置は、更に、前記被支持構造(4)のレーザビームによる薄化の後で、当該レーザビーム薄化において前記レーザビーム(2)の切削入射によって既に薄化されている前記被支持構造(4)の単数又は複数の部分を、イオンビームで照射することによって、更に薄化するために、薄化後処理を行うように構成されている、請求項25に記載の装置。
- 前記治具(6)は、更に、前記基材(1)を、前記基礎構造(3)を前記基材(1)から分離するためのその照射(2’)中に、前記基材(1)を保持するようにも構成され、又は、
前記装置は、前記基材(1)を、前記基礎構造(3)を前記基材(1)から分離するためのその照射(2’)中に、前記基材(1)を保持するように構成された第2の治具(13)を有する、請求項25又は26に記載の装置。 - 前記装置は、イオンエッチングシステム、又は、サンプルを集束イオンビーム又は広いイオンビームによって処理するように構成された処理システム、の一部として構成され、又は、
前記装置は独立装置(stand−alone device)として構成されている、請求項26又は27に記載の装置。 - 一体的となる被支持構造(4)と支持構造(5)とを含む基礎構造(3)を備え、前記被支持構造(4)は、前記支持構造(5)によって支持されており、前記支持構造(5)には、前記被支持構造(4)と反対の側において、二つの対向するノッチ(21a,21b)が形成されており、前記二つのノッチ(21a,21b)により、前記被支持構造(4)の上面(4e)が治具(6)の表面に対して所定の距離で突出するように前記支持構造(5)が前記治具(6)によって保持されており、
複数の通路構造(7a,7b・・・)が前記被支持構造(4)の表面に形成されており、これら通路構造(7a,7b・・・)の長手方向(D)が前記被支持構造(4)の長手延出(L)に対して垂直にアラインメントして形成されているように、前記支持構造(4)が少なくとも部分的に薄化されていた状態に構成されている、微小構造材診断用サンプル(P)。 - 前記被支持構造(4)の前記薄化された部分は、前記薄化後に、前記被支持構造(4)の二つの対向する側面(4c,4d)に形成され互いに対向する二つの通路構造(7a,7a−2,7b−1,7b−2・・・)間に残存した単数又は複数の残存部分(8a,8b・・・)であり、0.5μm以上50μm以下の、前記被支持構造(4)の基材平面(1a)に対して垂直な、最小厚み(dmin)を有する、請求項29に記載の微小構造材診断用サンプル(P)。
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